JPS597699B2 - インドリン類の製造方法 - Google Patents

インドリン類の製造方法

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JPS597699B2
JPS597699B2 JP52011389A JP1138977A JPS597699B2 JP S597699 B2 JPS597699 B2 JP S597699B2 JP 52011389 A JP52011389 A JP 52011389A JP 1138977 A JP1138977 A JP 1138977A JP S597699 B2 JPS597699 B2 JP S597699B2
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JP
Japan
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group
copper
reaction
hydrogen atom
indolines
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JP52011389A
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JPS5398961A (en
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芳樹 中山
博延 佐野
佐太郎 岡村
一成 平尾
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Ihara Chemical Industry Co Ltd
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Ihara Chemical Industry Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
    • C07D209/04Indoles; Hydrogenated indoles
    • C07D209/08Indoles; Hydrogenated indoles with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to carbon atoms of the hetero ring

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はインドリン類の製造方法に関するものである。
さらに詳しくは、農薬、医薬、香料、染料その他の原料
として使用されるインドール類の製造中間体として有用
な一般式゛”□・ 。
、、 (式中R、は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、ニトロ基または水酸基を示し、R2は水素原子、
低級アルコキシ基またはニトロ基を示し、R3は水素原
子または低級アルキル基を示す。
)で表わされるインドリン類の製造方法に関するもので
ある。
従来、インドリン類の製造方法としては〒般式R、1 R2□:H20H〔■〕 (式中R1、R2およびR3は前記と同一の意味を示す
)で表わされる2−アミノフェネチルアルコール類を塩
酸の存在下で閉環反応させる方法が知られている。
(式中R1、R2およびR3は前記と同一の意味を示す
)しかしながら、この方法では2−アミノフエネチルア
ルコール類〔〕が熱に弱く、反応に際して重合物を副生
する等の欠点を有し、高純度のインドリン類を高収率で
得ることは困難であつた。
本発明者らは高純度、高収率でインドリン類を製造する
方法について種々研究を重ねた結果、一般式(式中Rl
,R2およびR3は前記と同一の意味を示し、Xはハロ
ゲン原子を示す。
)で表わされる2−ハロゲノフエネチルアミン類を銅系
触媒およびアンモニアの存在下で反応させれば、意外に
も重合物等の副生もなく閉環反応が進行し高純度、高収
率でインドリン類が得られることを見出し本発明を完成
するに至つた。
すなわち、本発明は銅系触媒およびアンモニアの存在下
、一般式(式中R1 は水素原子、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、ニトロ基または水酸基を示し、R2は
水素原子、低級アルコキシ基またはニトロ基を示し、R
3は水素原子または低級アルキル基を示し、Xはハロゲ
ン原子を示す。
)で表わされる2−ハロゲノフエネチルアミン類を閉環
反応させることを特徴とする一般式(式中R1、R2お
よびR3は前記と同一の意味を示す。
)で表わされるインドリン類の製造方法であり、反応で
示せば次の通りである。
(式中Rl,R2、R3およびXは前記と同一の意味を
示す。
)本発明の方法で使用する2−ハロゲノフエネチルアミ
ン類は一般式〔〕のR1 で示されるベンゼン環の任意
の位置に結合することのできる基が水素原子、メチル基
、エチル基、n−プロピル基、1−プロピル基、n−ブ
チル基、i−ブチル基等の低級アルキル基、メトキシ基
、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、
n−ブトキシ基等の低級アルコキシ基、ニトロ基または
水酸基であり、R2で示されるベンゼン環の任意の位置
に結合することのできる基が水素原子、メトキシ基、エ
トキシ基、n−プロポキシ基、i−プカポキシ基、n−
ブトキシ基等の低級アルコキシ基またはニトロ基であり
、R3で示される基が水素原子またはメチル基、エチル
基、n−プロピル基、1−プロピル基、n−ブチル基、
i−ブチル基等の低級アルキル基であり、そしてXがフ
ツ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子である化合
物である。
具体的には2−ハロゲノフエネチルアミン類として、2
−クロロフエネチルアミン、2−ブロモ−β−メチルフ
エネチルアミン、2−クロロ−β−(n−ブチル)フエ
ネチルアミン、2−クロロ−5−(1−プロピル)フエ
ネチルアミン、2−クロロ−4−メチル−β一(n−ブ
チル)フエネチルアミン、2−クロロ−4−メトキシフ
エネチルアミン、2−ブロモ−4−(1−プロポキシ)
フエネチルアミン、2−ブロモ−4−エトキシ−β一エ
チルフエネチルアミン、2−ヨード−4−ニトロフエネ
チルアミン、2−フルオロ−4ニトロ一β一(1−プロ
ピル)フエネチルアミン、2−フルオロ−4−ヒドロキ
シフエネチルアミン、2−クロロ−4−ヒドロキシ−β
一エチルフエネチルアミン、2−ブロモ−4−(1−プ
ロポキシ)−5−(1−プロピル)フエネチルアミン、
2−クロロ−4・5−ジメトキシフエネチルアミン、2
−クロロ−4・5−ジ(1−プロポキシ)−β−メチル
フエネチルアミン、2−ブロモ−5−ニトロ−4−(1
−プロポキシ)フエネチルアミン、2−ブロモ−5−メ
トキシ−4−ニトロ−β一エチルフエネチルアミン、2
−クロロ−4−ヒドロキシ−5−メトキシフエネチルア
ミン、2−クロロ−4−ヒドロキシ−5−(1−プロポ
キシ)−β一(1−プロピル)フエネチルアミン、2−
フルオロ−4−メチル−5−ニトロフエネチルアミン、
2−クロロ−4−(n−ブチル)一5−ニトロ−β−メ
チルフエネチルアミン、2−ブロモ−3゜5−ジニトロ
フエネチルアミン、2−ブロモ−3・5−ジニトロ−β
一エチルフエネチルアミン、2−クロロ−4−ヒドロキ
シ−5−ニトロフエネチルアミン、2−ブロモ−4−ヒ
ドロキシ−5−ニトロ−β一エチルフエネチルアミン等
があげられる。また、本発明の方法において使用する銅
系触媒に反応系に銅イオンを供給するものであればよく
、金属銅のほか、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅、亜酸化銅
、酸化銅、水酸化銅、シアン化銅、硫酸銅、硫酸銅等の
無機銅化合物、シユウ酸銅、酢酸銅等の有機銅化合物が
あげられる。
これらの銅系触媒の使用量は前記一般式〔〕で表わされ
る2−ハロゲノフエネチルアミン類に対して0.1〜2
0wt%好ましくは1〜5wt%使用する。
また、本発明の方法において使用するアンモニアは気体
、液体またはアンモニア溶液のいずれの状態で使用して
もよいが、通常は反応に不活性な溶媒に溶解した溶液状
態で使用し、この反応に不活性な溶媒としては水、メチ
ルアルコール、エチルアルコール、i−プロピルアルコ
ール、n−ブチルアルコール等の脂肪族アルコール類、
ベンゼン、トルエン、、キシレン等の芳香族炭化水素類
、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等
のエーテル類等があげられ、好ましくは水、メチルアル
コール、エチルアルコール等の溶媒をあげることができ
る。
アンモニアの使用量は前記一般式〔〕で表わされる2−
ハロゲノフエネチルアミン類に対して1〜20倍モル好
ましくは2〜7倍モルである。
本発明の方法における反応は通常、耐圧密閉容器中で行
なわれ、銅触媒と気体、液体または反応に不活性な溶媒
に溶解したアンモニアと前記一般式〔〕で表わされる2
−ハロゲノフエネチルアミン類とを加熱撹拌することに
よつて行なわれる。反応温度は80〜220℃好ましく
は120〜220℃であり、反応中の圧力は反応温度に
より異なるが通常は5〜35k9/Cdで行なわれ、反
応時間は1〜6時間である。反応終『後、得られた反応
混合物は口過または分液・水洗等の常法により銅系触媒
、アンモニアおよび反応により生成したハロゲン化アン
モニウムを分離除去した後、蒸留または再結晶等の常法
によつて処理することにより前記一般式〔1〕で表わさ
れるインドリン類を高収率で得ることができる。
次に本発明の方法の特徴とその利点を説明する。
本発明の方法の特徴は従来の前記一般式〔]で表わされ
る2−アミノフエネチルアルコール類を塩酸の存在下で
閉環反応させる方法に比べて閉環反応が円滑に進行し重
合物等の副生が全くないことである。従つて、本発明の
方法を実施することにより高純度のインドリン類が高収
率で得られるという利点を生ずる。次に本発明の方法を
実施例により具体的に説明する。
実施例 1 内容積300m1のオートクレーブに2−クロロフエネ
チルアミン15.6y(0.1モル)、14%アンモニ
ア水溶液72.97(0.6モル)および塩化第一銅0
.477(2−クロロフエネチルアミンに対して、30
wt%)を仕込み、オートクレーブ内を、窒素ガスで置
換した後、攪拌下150℃で2時間反応させた。
反応中オートクレーブ内の圧力は1311g/Cdを示
した。反応終『後、オートクレーブを室温迄放冷して得
られた反応混合物にベンゼン100m1を加えて分液し
た後、水洗した。
得られた有機層を減圧濃縮してベンゼンを留去した後、
濃縮液を蒸留してインドリン(B.p94〜95℃/1
1mmHg)11.3yを得た。このものはガスクロマ
トグラフイ一により分析した結果、純度99.6%であ
り、収率94.4%であつた。実施例 2 実施例1と同様のオートクレーブに2−ブロモ−3・5
−ジニトロフエネチルアミン29.07(0.1モル)
、10%アンモニアエチルアルコール溶液102.07
(0.6モノ(ハ)および酸化第二銅0.587(2−
プロモー3・5−ジニトロフエネチルアミンに対して2
.0wt%)を仕込み、オートクレーブ内を窒素ガスで
置換した後、攪拌下180℃で4時間反応させた。
反応中オートクレ・−ブ内の圧力は16kg/Crll
を示した。反応終了後、オートクレーブを室温迄放冷し
て得られた反応混合物にトルエン150m1を加えて分
液した後、水洗した。得られた有機層を減圧濃縮してト
ルエンおよびエチルアルコールを留去し、得られた結晶
を再結晶して5・7ージニトロインドリン(M.p24
4,O〜245.0℃)18.07を得た。このものは
ガスクロマトグラフイ一により分析した結果、純度99
.4%であり、収率85.6%であつた。実施例 3〜
14 前記一般式〔〕で表わされる2−・・ロゲノフエネチル
アミン類0.1モルを各種の銅系触媒およびアンモニア
の存在下、実施例1および2と同様に操作して前記一般
式〔1〕で表わされるインドリン類を得た。
得られた結果を表−1に示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 銅系触媒およびアンモニアの存在下、一般式▲数式
    、化学式、表等があります▼(式中R_1は水素原子、
    低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基または水
    酸基を示し、R_2は水素原子、低級アルコキシ基また
    はニトロ基を示し、R_3は水素原子または低級アルキ
    ル基を示し、Xはハロゲン原子を示す。 )で表わされる2−ハロゲノフエネチルアミン類を閉環
    反応させることを特徴とする一般式▲数式、化学式、表
    等があります▼ (式中R_1、R_2およびR_3は前記と同一の意味
    を示す。 )で表わされるインドリン類の製造方法。
JP52011389A 1977-02-04 1977-02-04 インドリン類の製造方法 Expired JPS597699B2 (ja)

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