JPS6224220A - レ−ザマ−キング装置 - Google Patents
レ−ザマ−キング装置Info
- Publication number
- JPS6224220A JPS6224220A JP60164606A JP16460685A JPS6224220A JP S6224220 A JPS6224220 A JP S6224220A JP 60164606 A JP60164606 A JP 60164606A JP 16460685 A JP16460685 A JP 16460685A JP S6224220 A JPS6224220 A JP S6224220A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- laser beam
- mask plate
- laser
- shielding plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、レーザマーキング装置の改良に関する。。
従来、レーザマーキング装置は第２図に示すように構成
され、レーザ発振器１．全反射ミラー３．レンズ４（シ
リンドリカルレンズ又は凸レンズ）、マスク板５．集光
レンズ６、被加工物７が順次所定間隔で配設されてなっ
ている。
され、レーザ発振器１．全反射ミラー３．レンズ４（シ
リンドリカルレンズ又は凸レンズ）、マスク板５．集光
レンズ６、被加工物７が順次所定間隔で配設されてなっ
ている。
動作時には、レーザ発振器１よシ出射されたレーザ光２
は、全反射ミラー３にて反射伝送もれ。
は、全反射ミラー３にて反射伝送もれ。
レンズ４にて文字などがくシぬかれている薄いマスク板
５０ノーターンエリアにレーザ光が集束され、＜）ぬか
れている部分のみレーザ光が通過する。そして、＜ヤぬ
かれ丸文字などの像は、集光レン、ｅ６にて被加工物７
上に結像し、マスク板５Ｖｃ＜ Ｆ）ぬかれた文字など
がマーキングされる。
５０ノーターンエリアにレーザ光が集束され、＜）ぬか
れている部分のみレーザ光が通過する。そして、＜ヤぬ
かれ丸文字などの像は、集光レン、ｅ６にて被加工物７
上に結像し、マスク板５Ｖｃ＜ Ｆ）ぬかれた文字など
がマーキングされる。
一方、マスク板５にて反射されたレーザ光９は、レンズ
４の方へ集束されながら戻るので。
４の方へ集束されながら戻るので。
レンズ４ｔ−損傷させる可能性がある。そこで、レンズ
４に近接して金属の遮蔽板８を設け、マスク板５にて反
射されたレーザ光９を、この遮蔽板８にて遮蔽している
。
４に近接して金属の遮蔽板８を設け、マスク板５にて反
射されたレーザ光９を、この遮蔽板８にて遮蔽している
。
ととるが、上記のような従来のレーザマーキング装置で
は１反射されたレーザ光９は集束されながら遮蔽板８に
照射されるので、レーザ光９のパワー密度が大きいため
、遮蔽板８が損傷し易い。
は１反射されたレーザ光９は集束されながら遮蔽板８に
照射されるので、レーザ光９のパワー密度が大きいため
、遮蔽板８が損傷し易い。
一方、マスク板５をレーザ光軸に対し垂直に置くと１反
射されたレーザ光はレンズ４の中心部分に戻るため、マ
スク板５は僅かに傾斜して設置されており、反射された
レーザ光９が遮蔽板８に照射するようになっている。従
って、マスク板５は僅かに傾斜して設置されているため
、マスク板５にくりぬかれた細い線は、マスク板５の厚
みのため、鮮明にマーキングされ難く。
射されたレーザ光はレンズ４の中心部分に戻るため、マ
スク板５は僅かに傾斜して設置されており、反射された
レーザ光９が遮蔽板８に照射するようになっている。従
って、マスク板５は僅かに傾斜して設置されているため
、マスク板５にくりぬかれた細い線は、マスク板５の厚
みのため、鮮明にマーキングされ難く。
太さが変わってしまう。
この発明の目的は、レーザ発振器から出射されたレーザ
光によるレンズなどの光学部品への損傷を防止したレー
ザマーキング装置を提供することである。
光によるレンズなどの光学部品への損傷を防止したレー
ザマーキング装置を提供することである。
この発明は、上記目的を達成するため、レンズとマスク
板との間に、細いスリット又は小さな孔を有する遮蔽板
を配設したレーザマーキング装置である。
板との間に、細いスリット又は小さな孔を有する遮蔽板
を配設したレーザマーキング装置である。
この発明のレーザマーキング装置は第１図に示すように
構成され、従来例と同一箇所には同一符号を付すことに
する。
構成され、従来例と同一箇所には同一符号を付すことに
する。
即ち、レーザ発振器１から出射されるレーザ光２の光軸
上に、全反射ミラー３が上記光軸に対し４５度傾斜して
配設されている。更に上記光軸と直角な光軸上に、上記
全反射ミラー３と所定間隔を置いて、レンズ（シリンド
リカルレンズ又は凸レンズ）４１文字などかく〉りぬか
れている薄いマスク板５．集光レンズ６、被加工物７が
順次配設されている。更に、この発明では、上記レンズ
４とマスク板５との間に、遮蔽板１０が配設されている
。この遮蔽板１ｏは、薄い金属からな）、中央に細いス
リット又は小さい孔１１が穿設されてお）、レン、ｅ４
にてレーザ光２が最も集光する位置に配設されている。
上に、全反射ミラー３が上記光軸に対し４５度傾斜して
配設されている。更に上記光軸と直角な光軸上に、上記
全反射ミラー３と所定間隔を置いて、レンズ（シリンド
リカルレンズ又は凸レンズ）４１文字などかく〉りぬか
れている薄いマスク板５．集光レンズ６、被加工物７が
順次配設されている。更に、この発明では、上記レンズ
４とマスク板５との間に、遮蔽板１０が配設されている
。この遮蔽板１ｏは、薄い金属からな）、中央に細いス
リット又は小さい孔１１が穿設されてお）、レン、ｅ４
にてレーザ光２が最も集光する位置に配設されている。
尚、上記マスク板５は、従来と異ｆｋＪ７．レーザ光軸
に対し垂直に配設されている。
に対し垂直に配設されている。
そして動作時には、レーザ発振器１から出射されたレー
ザ光２は、全反射ミラー３にて反射伝送されて光軸を変
え、レンズ４に入射し、レーザ光２は集束する。その集
光位置に遮蔽板１０が配設されており、この遮蔽板１０
に穿設されている細いスリット又は小さい孔１１を通し
て、レーザ光はマスク板５に照射される。
ザ光２は、全反射ミラー３にて反射伝送されて光軸を変
え、レンズ４に入射し、レーザ光２は集束する。その集
光位置に遮蔽板１０が配設されており、この遮蔽板１０
に穿設されている細いスリット又は小さい孔１１を通し
て、レーザ光はマスク板５に照射される。
そして、上記マスク板５を通過したレーザ光は、集光レ
ンズ６にて被加工物ｒ上に結像し。
ンズ６にて被加工物ｒ上に結像し。
マスク板５にくりぬかれた文字などの像がマーキングさ
れる。一方、光軸に対し垂直に配設されたマスク板５に
て反射されたレーザ光９は、発散しながら遮蔽板１０に
遮蔽され、レンズ４ヘレーザ光９はほとんど戻らない。
れる。一方、光軸に対し垂直に配設されたマスク板５に
て反射されたレーザ光９は、発散しながら遮蔽板１０に
遮蔽され、レンズ４ヘレーザ光９はほとんど戻らない。
この発明によれば、レーザ発振器１から出射されたレー
ザ光９は、レンズ４へほとんど戻らない、又、遮蔽板１
０に穿設されている細ｈスリフト又は小さな孔１１を通
してレンズ４へ戻ったとしても、レーザ光９は発散する
方向なので、レーザ光９０強度は微弱である。つまり。
ザ光９は、レンズ４へほとんど戻らない、又、遮蔽板１
０に穿設されている細ｈスリフト又は小さな孔１１を通
してレンズ４へ戻ったとしても、レーザ光９は発散する
方向なので、レーザ光９０強度は微弱である。つまり。
遮蔽板１０を配設することにより、マスク板５にて反射
されるレーザ光によるレンズなどの光学部品を損傷させ
ることはない。更に、マスク板５を光軸に対し垂直に配
設することが出来るので、マスク板５にくりぬかれた細
い線や小さな点も、従来に比べ鮮明にかつ正確にマーキ
ングすることが出来る。
されるレーザ光によるレンズなどの光学部品を損傷させ
ることはない。更に、マスク板５を光軸に対し垂直に配
設することが出来るので、マスク板５にくりぬかれた細
い線や小さな点も、従来に比べ鮮明にかつ正確にマーキ
ングすることが出来る。
第１図はこの発明の一実施例に係るレーザマーキング装
置を示す概略構成図、第２図は従来のレーザマーキング
装置を示す概略構成図である。 １・・・レーザ発振器、２・・・レーザ光 ３ ｍ６ｍ
全反射ミラー％４・軸レンズ、５・・・マスク板、６…
集光レンズ、７・・・被加工物、９・・・マスク板にて
反射されたレーザ光、１０−・・遮蔽板、１１・・・細
いスリット又は小さな孔。
置を示す概略構成図、第２図は従来のレーザマーキング
装置を示す概略構成図である。 １・・・レーザ発振器、２・・・レーザ光 ３ ｍ６ｍ
全反射ミラー％４・軸レンズ、５・・・マスク板、６…
集光レンズ、７・・・被加工物、９・・・マスク板にて
反射されたレーザ光、１０−・・遮蔽板、１１・・・細
いスリット又は小さな孔。
Claims (1)
- （１）レーザ発振器から出射されたレーザ光を、少なく
ともレンズ及びマスク板を通して被加工物に照射するこ
とにより、上記被加工物上に上記マスク板のパターンを
マーキングするレーザマーキング装置において、 上記レンズと上記マスク板との間に、この マスク板から反射されたレーザ光を遮蔽するための細い
スリット又は小さな孔を有する遮蔽板を設けたことを特
徴とするレーザマーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60164606A JPS6224220A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | レ−ザマ−キング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60164606A JPS6224220A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | レ−ザマ−キング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6224220A true JPS6224220A (ja) | 1987-02-02 |
Family
ID=15796375
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60164606A Pending JPS6224220A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | レ−ザマ−キング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6224220A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016002643A1 (ja) * | 2014-07-01 | 2016-01-07 | 株式会社村田製作所 | レーザ加工用マスク |
-
1985
- 1985-07-25 JP JP60164606A patent/JPS6224220A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016002643A1 (ja) * | 2014-07-01 | 2016-01-07 | 株式会社村田製作所 | レーザ加工用マスク |
| JPWO2016002643A1 (ja) * | 2014-07-01 | 2017-04-27 | 株式会社村田製作所 | レーザ加工用マスク |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS647618A (en) | Method and apparatus for exposing semiconductor | |
| JPH05277776A (ja) | レーザビーム用マスク装置 | |
| EP0480195A3 (en) | Spot-defined exposure system for a laser printer | |
| JPS6224220A (ja) | レ−ザマ−キング装置 | |
| JPH02186546A (ja) | 走査タイミング信号発生装置及び方法 | |
| US4789242A (en) | Optical apparatus for detecting the position of an object | |
| ES2102106T3 (es) | Dispositivo para la fabricacion de una plantilla de serigrafia. | |
| JPH0241423B2 (ja) | ||
| JPH0251390B2 (ja) | ||
| JPS61254346A (ja) | レ−ザマ−キング装置 | |
| JPH09193537A (ja) | レーザー標印方法およびその装置 | |
| JPS5767815A (en) | Measuring method for position of reflector using light | |
| JP2621154B2 (ja) | レーザ装置 | |
| US20030002543A1 (en) | Spatial filtering of laser ghosts | |
| KR0161831B1 (ko) | 레이저마킹장치 | |
| JPH0231278Y2 (ja) | ||
| JPS6039181Y2 (ja) | レ−ザ加工装置 | |
| JPS61163681A (ja) | マイクロビ−ム形成用のレ−ザ−装置 | |
| JPH0231277Y2 (ja) | ||
| JPS6340316A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS6194792A (ja) | レ−ザマ−キング装置 | |
| JPH0618806A (ja) | 膜状光束形成装置 | |
| JPH011085A (ja) | 走査式光学読み取り装置 | |
| JPS63118278A (ja) | マ−キング方法 | |
| JPS62164018A (ja) | レ−ザマ−キング装置 |