JPS6194792A - レ−ザマ−キング装置 - Google Patents
レ−ザマ−キング装置Info
- Publication number
- JPS6194792A JPS6194792A JP59215722A JP21572284A JPS6194792A JP S6194792 A JPS6194792 A JP S6194792A JP 59215722 A JP59215722 A JP 59215722A JP 21572284 A JP21572284 A JP 21572284A JP S6194792 A JPS6194792 A JP S6194792A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- laser beam
- reflected light
- optical path
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/24—Ablative recording, e.g. by burning marks; Spark recording
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、マスクに文字や記号等を透孔によって形成
し、この透孔を透過するレーザビームによってマーキン
グするレーザマーキング装置に関する。
し、この透孔を透過するレーザビームによってマーキン
グするレーザマーキング装置に関する。
ＴＥＡ ＣＯ２レーザ等を用いたレーザマーキング装
置は、一般に第３図に示すように構成されている。すな
わち、１はレーザ発振器で、２は出力側ミラーである。
置は、一般に第３図に示すように構成されている。すな
わち、１はレーザ発振器で、２は出力側ミラーである。
この出力側ミラー２から出力されたレーザビーム３は複
数のミラー４・・・からなるレーザビーム伝送光学系５
を介してマスク６に照射されるようになっている。この
マスク６には第４図に示すように、マーキングすべき文
字、記号等が透孔７によって形成され、この透孔７を透
過したのち集光レンズからなる結像光学系８によって被
マーキング面９に結像されるように構成されている。そ
して、マスク６の透孔７がたとえばＡ”であれば、第４
図の白抜き部分ａはレーザビーム３が透過するが、その
他の部分すはレーザビーム３が反射する。このマスク６
はレーザビーム３を吸収しない材料、たとえばＣＯ２レ
ーザビームの場合には銅板で形成されている。したがっ
て、マスク６の透孔７を透過するレーザビーム３以外は
ほぼ同じ強度で反射されてしまう。（反射光を３ａで示
す）これはマスク６が光路１０に対して垂直であるため
で、反射光３ａは前記レーザビーム伝送光学系５を介し
てレーザ発振器１の出カ側ミラー２に戻る。このため、
出力側ミラー２がレーザビーム３の反射光３ａによって
損傷を与えられる原因となっている。
数のミラー４・・・からなるレーザビーム伝送光学系５
を介してマスク６に照射されるようになっている。この
マスク６には第４図に示すように、マーキングすべき文
字、記号等が透孔７によって形成され、この透孔７を透
過したのち集光レンズからなる結像光学系８によって被
マーキング面９に結像されるように構成されている。そ
して、マスク６の透孔７がたとえばＡ”であれば、第４
図の白抜き部分ａはレーザビーム３が透過するが、その
他の部分すはレーザビーム３が反射する。このマスク６
はレーザビーム３を吸収しない材料、たとえばＣＯ２レ
ーザビームの場合には銅板で形成されている。したがっ
て、マスク６の透孔７を透過するレーザビーム３以外は
ほぼ同じ強度で反射されてしまう。（反射光を３ａで示
す）これはマスク６が光路１０に対して垂直であるため
で、反射光３ａは前記レーザビーム伝送光学系５を介し
てレーザ発振器１の出カ側ミラー２に戻る。このため、
出力側ミラー２がレーザビーム３の反射光３ａによって
損傷を与えられる原因となっている。
この発明は、前記事情に着目してなされたもので、その
目的とするところは、レーザビームの光 ・路に設置さ
れたマスクによってレーザビームの一部が反射してもレ
ーザ発振器の損傷を防止することができるレーザマーキ
ング装置を提供することにある。
目的とするところは、レーザビームの光 ・路に設置さ
れたマスクによってレーザビームの一部が反射してもレ
ーザ発振器の損傷を防止することができるレーザマーキ
ング装置を提供することにある。
この発明は、前記目的を達成するために、レーザビーム
の光路に設置したマスクをレーザビームに対して傾斜し
て設け、マスクからの反射光を前記光路外に外したこと
にある。
の光路に設置したマスクをレーザビームに対して傾斜し
て設け、マスクからの反射光を前記光路外に外したこと
にある。
以下、この発明の一実施例を図面に基づいて説明するが
、レーザマーキング装置の基本的構成は、従来と同一で
あるため同一番号を付して説明を省略する。
、レーザマーキング装置の基本的構成は、従来と同一で
あるため同一番号を付して説明を省略する。
第１図および第２図中、１１はマスクであり、このマス
ク１１にはマーキングしようとする文字、記号などが透
孔１２によって形成されている。そして、このマスク１
１はレーザビーム３に対して傾斜（角度ｅ）しており、
マスク１１の透孔１２を透孔せずに反射された反射光３
ａは前記レーザビーム３の光路１０から外れるようにな
っている。
ク１１にはマーキングしようとする文字、記号などが透
孔１２によって形成されている。そして、このマスク１
１はレーザビーム３に対して傾斜（角度ｅ）しており、
マスク１１の透孔１２を透孔せずに反射された反射光３
ａは前記レーザビーム３の光路１０から外れるようにな
っている。
そして、この反射光３ａに対向してレーザビーム３を吸
収する吸収箱１３が設置されている。
収する吸収箱１３が設置されている。
この場合、前記マスク１１が従来の垂直に設置されたマ
スク６と同様なマーク線幅ｄ（あるいはマスク線幅Ａ）
を得るためには、この傾斜したマスク１１の透孔１２、
つまりマスク線幅Ｂを５ｉｎｅ−Ａ／Ｂが成立つように
して透孔１２を穿設する必要があり、このようにマスク
１１の透孔１２を穿設することにより、従来の垂直マス
ク６と投影的に同値のマスク線幅（マーク線幅ｄ）が得
られる。
スク６と同様なマーク線幅ｄ（あるいはマスク線幅Ａ）
を得るためには、この傾斜したマスク１１の透孔１２、
つまりマスク線幅Ｂを５ｉｎｅ−Ａ／Ｂが成立つように
して透孔１２を穿設する必要があり、このようにマスク
１１の透孔１２を穿設することにより、従来の垂直マス
ク６と投影的に同値のマスク線幅（マーク線幅ｄ）が得
られる。
しかして、レーザ発振器１から発振されたレーザビーム
３は出力側ミラー２からレーザビーム伝送光学系５を介
してマスク１１に照射される。このマスク１１には文字
、記号などの透孔１２が穿設されているため、レーザビ
ーム３の一部は透孔１２を透過し、さらに結像光学系８
を介して被マーキング面９に結像される。したがって、
被マーキング面９には前記マスク１１の透孔１２によっ
て得られたマークが形成される。このとき、前記マスク
１１に照射されたレーザビーム３の一部、つまり透孔１
２から外れたレーザビーム３はマスク１１によって反射
され、この反射光３ａは吸収箱１３に吸収される。した
がって、マスク１１によって反射されたレーザビーム３
が光路１０から外れ、レーザ発振器１の出力側ミラー２
に戻ることはなく、レーザビーム３による出力側ミラー
２の損傷を未然に防止することができる。
３は出力側ミラー２からレーザビーム伝送光学系５を介
してマスク１１に照射される。このマスク１１には文字
、記号などの透孔１２が穿設されているため、レーザビ
ーム３の一部は透孔１２を透過し、さらに結像光学系８
を介して被マーキング面９に結像される。したがって、
被マーキング面９には前記マスク１１の透孔１２によっ
て得られたマークが形成される。このとき、前記マスク
１１に照射されたレーザビーム３の一部、つまり透孔１
２から外れたレーザビーム３はマスク１１によって反射
され、この反射光３ａは吸収箱１３に吸収される。した
がって、マスク１１によって反射されたレーザビーム３
が光路１０から外れ、レーザ発振器１の出力側ミラー２
に戻ることはなく、レーザビーム３による出力側ミラー
２の損傷を未然に防止することができる。
なお、前記−実茄例においては、マスク１１に対向して
吸収箱１３を設け、マスク１１からの反射光３ａを吸収
するようにしたが、この発明はマスク１１からの反射光
３ａをレーザビーム３の光路１０から外すことに特徴が
あり、吸収箱１３を設けることに限定されるものではな
い。
吸収箱１３を設け、マスク１１からの反射光３ａを吸収
するようにしたが、この発明はマスク１１からの反射光
３ａをレーザビーム３の光路１０から外すことに特徴が
あり、吸収箱１３を設けることに限定されるものではな
い。
以上説明したように、この発明によれば、レーザビーム
の光路に設置したマスクをレーザビームに対して傾斜し
て設け、マスクからの反射光を前記光路外に外すように
したから、マスクからの反射光がレーザ発振器に戻り出
力側ミラー等の損傷を未然に防止することができるとい
う効果を奏する。
の光路に設置したマスクをレーザビームに対して傾斜し
て設け、マスクからの反射光を前記光路外に外すように
したから、マスクからの反射光がレーザ発振器に戻り出
力側ミラー等の損傷を未然に防止することができるとい
う効果を奏する。
第１図はこの発明の一実施例を示すレーザマーキング装
置全体の構成図、第２因は同じく要部の説明図、第３図
は従来のレーザマーキング装置の構成図、第４図はマス
クの正面図である。 １・・・レーザ発振器、３・・・レーザビーム、３ａ・
・・反射光、８・・・結像光学系、９・・・被マーキン
グ面、１０・・・光路、１１・・・マスク、１２・・・
透孔。
置全体の構成図、第２因は同じく要部の説明図、第３図
は従来のレーザマーキング装置の構成図、第４図はマス
クの正面図である。 １・・・レーザ発振器、３・・・レーザビーム、３ａ・
・・反射光、８・・・結像光学系、９・・・被マーキン
グ面、１０・・・光路、１１・・・マスク、１２・・・
透孔。
Claims (1)
- レーザ発振器から発振されたレーザビームを光路に設置
したマスクの透孔から透過したのち結像光学系によって
被マーキング面に結像するレーザマーキング装置におい
て、前記マスクをレーザビームに対して傾斜してマスク
からの反射光を光路外に外したことを特徴とするレーザ
マーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59215722A JPS6194792A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | レ−ザマ−キング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59215722A JPS6194792A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | レ−ザマ−キング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6194792A true JPS6194792A (ja) | 1986-05-13 |
Family
ID=16677093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59215722A Pending JPS6194792A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | レ−ザマ−キング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6194792A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58162348A (ja) * | 1982-03-23 | 1983-09-27 | Toshiba Corp | レ−ザ−印刷装置 |
-
1984
- 1984-10-15 JP JP59215722A patent/JPS6194792A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58162348A (ja) * | 1982-03-23 | 1983-09-27 | Toshiba Corp | レ−ザ−印刷装置 |
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