JPH05277776A - レーザビーム用マスク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 レーザビーム用マスク装置において、マスク
パターンを形成している薄膜やマスクの母材に損傷を与
えないようにする。 【構成】 マスク１０に形成されるマスクパターン５
が、透過開口部となるマスクパターン５内に入射するレ
ーザビームを全透過し、それ以外に入射するレーザビー
ムを全反射する薄膜１１より形成されている。また、マ
スク１０は光軸に対してある任意の角度で傾斜して設置
され、さらに、マスク１０により反射された反射光１２
は、吸収体１３により吸収されるように構成されてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザビーム用マスク
装置に係り、特に、レーザビームがマスクを通過する際
に生ずるマスクの損傷を防止したレーザビーム用マスク
装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図２はレーザビーム用マスク装置を使用
したレーザ加工装置を示す概略図である。図において、
１はレーザ発振器、２はレーザ発振器１より出射された
レーザビーム、３はレーザビーム２を屈折させるミラ
ー、４はレーザビーム２に対して垂直に配設されたマス
ク、５はマスク４に形成されたレーザビームの透過開口
部であるマスクパターン、６はレーザ加工を施す被加工
物、７はマスク４を透過した透過光である。

【０００３】次に、上記レーザビーム用マスク装置の動
作を説明する。即ち、レーザ発振器１より出射されたレ
ーザビーム２は、ミラー３を介してマスク４の面に対し
て垂直に入射する。この時、レーザビーム２は、マスク
４に形成された所定の形状を有するマスクパターン５内
のみ透過するため、透過光７の断面はマスクパターン５
と同一のものとなる。従って、被加工物６上には、マス
ク４を透過した透過光７が入射することによって、加工
形状がマスクパターン５と同一のレーザ加工がなされ
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
様な構成を有する従来のレーザビーム用マスク装置に
は、以下に述べる様な解決すべき課題があった。即ち、
レーザビーム２がマスク４へ入射する際に、透過部であ
るマスクパターン５以外の部分では、レーザビーム２を
吸収してしまうため、マスクパターン５を形成している
薄膜８やマスク４を構成する母材等を昇華、溶融させる
といった問題があった。また、その結果、マスクパター
ン５が変化してしまい、所望のレーザ加工を実施できな
いといった問題もあった。

【０００５】本発明は、上述した様な従来技術の問題点
を解決するために提案されたもので、その目的は、レー
ザビームがマスクへ入射しても、マスクパターンを形成
している薄膜やマスクの母材に損傷を与えないレーザビ
ーム用マスク装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、マスク上に所
定のマスクパターンを形成したレーザビーム用マスク装
置において、前記マスクパターンを形成する薄膜が、マ
スクパターン内に入射するレーザビームを全透過し、そ
れ以外に入射するレーザビームを全反射する部材により
構成され、また、前記マスクがレーザビームの光軸に対
してある任意の角度で傾斜して設置され、さらに、マス
クにより反射された反射光が、吸収体により吸収される
ように構成されていることを特徴とするものである。

【０００７】

【作用】本発明のレーザビーム用マスク装置によれば、
レーザビームはマスクへ入射した際に、マスクパターン
を透過する透過光と反射光とに分割され、透過光は加工
に使用され、一方、反射光は傾けられて設置されたマス
クにより、もと来た光軸上を逆進することなく、任意に
取付けられたレーザビーム吸収体によって吸収される。

【０００８】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図１に基づいて具
体的に説明する。なお、図２に示した従来型と同一の部
材には同一の符号を付して、説明は省略する。

【０００９】本実施例においては、図１に示した様に、
マスク１０に形成されるマスクパターン５が、透過開口
部となるマスクパターン５内に入射するレーザビームを
全透過し、それ以外に入射するレーザビームを全反射す
る薄膜１１より形成されている。また、前記マスク１０
は光軸に対してある任意の角度で傾斜して設置され、さ
らに、マスク１０により反射された反射光１２は、吸収
体１３により吸収されるように構成されている。

【００１０】この様な構成を有する本実施例のレーザビ
ーム用マスク装置は、以下に述べる様に動作する。即
ち、マスク１０が光軸に対してある任意の角度で傾斜し
て設置されているため、レーザ発振器１より出射された
レーザビーム２は、ミラー３を介してマスク１０へ入射
する際に、透過開口部となるマスクパターン５内に入射
するレーザビームは全透過され、それ以外に入射するレ
ーザビームは全反射される。

【００１１】そのため、マスクパターン５以外の部分に
入射するレーザビームは、従来の様にマスク１０により
吸収されず、傾けて設置されたマスク１０によって反射
して反射光１２となり、任意に取付けた吸収体１３によ
って吸収され、そのエネルギーを失う。一方、被加工物
６では、マスク１０がある角度傾いて設置されているた
め、その角度に依存したマスクパターン５の投影写像が
透過光７のビーム外形になる。従って、マスク１０を光
軸に対して傾ける角度をあらかじめ決定し、その角度に
よる投影写像が、得ようとする加工形状になるように、
マスク１０の上にマスクパターン５を形成すれば、所望
のレーザ加工を施すことができる。

【００１２】この様に、本実施例によれば、マスクパタ
ーンを形成している薄膜やマスクを構成する母材等が、
レーザビームによって昇華、溶融することを防止できる
ので、常に、所望のレーザ加工を実施することができ
る。

【００１３】なお、本発明は上述した実施例に限定され
るものではなく、レーザビーム用マスク装置は、そのレ
ーザビームの特性に合わせて、マスク上に全透過部と全
反射部を形成することができるものであれば、レーザの
種類は問わない。また、レーザビームの吸収体に関して
も、レーザビームのエネルギーを吸収することができる
ものであれば、その形状・吸収方法は特に限定されな
い。

【００１４】

【発明の効果】以上述べた様に、本発明によれば、マス
クパターンを形成する薄膜を、マスクパターン内に入射
するレーザビームは全透過し、それ以外に入射するレー
ザビームは全反射する部材より構成し、また、マスクを
レーザビームの光軸に対してある任意の角度で傾斜して
設置し、さらに、マスクにより反射された反射光を吸収
体により吸収するように構成することにより、レーザビ
ームがマスクへ入射しても、マスクパターンを形成して
いる薄膜やマスクの母材に損傷を与えないレーザビーム
用マスク装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のレーザビーム用マスク装置の一実施例
を示す概略図

【図２】従来のレーザビーム用マスク装置の一例を示す
概略図

【符号の説明】

１…レーザ発振器 ２…レーザビーム ３…ミラー ４…マスク ５…マスクパターン ６…被加工物 ７…透過光 ８…薄膜 １０…マスク １１…薄膜 １２…反射光 １３…吸収体

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 マスク上に所定のマスクパターンを形成
   したレーザビーム用マスク装置において、 前記マスクパターンを形成する薄膜が、マスクパターン
   内に入射するレーザビームを全透過し、それ以外に入射
   するレーザビームを全反射する部材により構成され、ま
   た、前記マスクがレーザビームの光軸に対してある任意
   の角度で傾斜して設置され、さらに、マスクにより反射
   された反射光が、吸収体により吸収されるように構成さ
   れていることを特徴とするレーザビーム用マスク装置。