JPH05188316A - 光ｃｖｄ用光学系 - Google Patents
光ｃｖｄ用光学系Info
- Publication number
- JPH05188316A JPH05188316A JP2066692A JP2066692A JPH05188316A JP H05188316 A JPH05188316 A JP H05188316A JP 2066692 A JP2066692 A JP 2066692A JP 2066692 A JP2066692 A JP 2066692A JP H05188316 A JPH05188316 A JP H05188316A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cvd
- opening
- laser beam
- lens
- optical system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザ・ビームの発散角の影響を受けること
なく、ＣＶＤ反応を狭い領域に限定して行わせることが
できる光ＣＶＤ用光学系を提供すること。 【構成】 光線11を通過させる開口12と、この開口12と
ＣＶＤ面14とを共役関係に保ち、開口12を通過した光線
をＣＶＤ面14に投影するレンズ13を備えている。このよ
うに、レンズ13は、開口12とＣＶＤ面14を共役関係に保
たれているので、ＣＶＤ面14上でのレーザ・ビームの形
状は開口12の形状により決まり、レーザ・ビーム11の発
散角の影響を受けることはない。したがって、ＣＶＤ面
14上におけるＣＶＤ反応を狭い領域に限定して起こさせ
ることができる。
なく、ＣＶＤ反応を狭い領域に限定して行わせることが
できる光ＣＶＤ用光学系を提供すること。 【構成】 光線11を通過させる開口12と、この開口12と
ＣＶＤ面14とを共役関係に保ち、開口12を通過した光線
をＣＶＤ面14に投影するレンズ13を備えている。このよ
うに、レンズ13は、開口12とＣＶＤ面14を共役関係に保
たれているので、ＣＶＤ面14上でのレーザ・ビームの形
状は開口12の形状により決まり、レーザ・ビーム11の発
散角の影響を受けることはない。したがって、ＣＶＤ面
14上におけるＣＶＤ反応を狭い領域に限定して起こさせ
ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ＣＶＤ装置に用いる
光学系に関する。
光学系に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ＣＶＤ法は、他のＣＶＤ法に比べて、
ＣＶＤ面上での異なる部位における反応速度を部分的に
制御することが容易であるという利点を持っている。
ＣＶＤ面上での異なる部位における反応速度を部分的に
制御することが容易であるという利点を持っている。
【０００３】まず、従来の光ＣＶＤ用光学系について説
明する。
明する。
【０００４】従来の光ＣＶＤ用光学系は、図３に示すよ
うに、レーザ・ビーム11の断面を制限する開口12と、レ
ンズ13と、走査ミラー15とを備え、ＣＶＤ用の試料があ
るＣＶＤ面14上にレーザ・ビームを投射するように構成
されている。
うに、レーザ・ビーム11の断面を制限する開口12と、レ
ンズ13と、走査ミラー15とを備え、ＣＶＤ用の試料があ
るＣＶＤ面14上にレーザ・ビームを投射するように構成
されている。
【０００５】このように構成された光ＣＶＤ用光学系に
おいて、開口12で制限されたレーザ・ビーム11は、レン
ズ13によりＣＶＤ面14に集光される。ＣＶＤ面14上にお
いてレーザ・ビームが集光される位置は、走査ミラー15
の角度により設定できるので、ＣＶＤ面14上における異
なる部位のＣＶＤ反応速度を自由に制御することができ
る。たとえば、走査ミラー15の角度を固定しておけば、
ＣＶＤ面14上においてレーザ・ビーム11が集光されてい
る部位のみでＣＶＤ反応が起きる。また、走査ミラー15
を常に動かし続けて、ＣＶＤ面14上をレーザ・ビーム11
で走査する場合、ＣＶＤ面14上の部位に応じて走査速度
を変えることにより、ＣＶＤ面14上での各部位における
ＣＶＤ反応速度を自由に制御することができる。
おいて、開口12で制限されたレーザ・ビーム11は、レン
ズ13によりＣＶＤ面14に集光される。ＣＶＤ面14上にお
いてレーザ・ビームが集光される位置は、走査ミラー15
の角度により設定できるので、ＣＶＤ面14上における異
なる部位のＣＶＤ反応速度を自由に制御することができ
る。たとえば、走査ミラー15の角度を固定しておけば、
ＣＶＤ面14上においてレーザ・ビーム11が集光されてい
る部位のみでＣＶＤ反応が起きる。また、走査ミラー15
を常に動かし続けて、ＣＶＤ面14上をレーザ・ビーム11
で走査する場合、ＣＶＤ面14上の部位に応じて走査速度
を変えることにより、ＣＶＤ面14上での各部位における
ＣＶＤ反応速度を自由に制御することができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の光学系においては、放射されるレーザ・ビーム11に
発散角を有している場合、レンズ13によってＣＶＤ面14
上に集光されたレーザ・ビームは、その発散角に応じた
広がりを持つことになるので、ＣＶＤ面14上の狭い領域
に限定してＣＶＤ反応を行なわせることが困難であると
いう課題を有していた。
来の光学系においては、放射されるレーザ・ビーム11に
発散角を有している場合、レンズ13によってＣＶＤ面14
上に集光されたレーザ・ビームは、その発散角に応じた
広がりを持つことになるので、ＣＶＤ面14上の狭い領域
に限定してＣＶＤ反応を行なわせることが困難であると
いう課題を有していた。
【０００７】本発明は、このような従来技術の課題を解
決するために考えられたもので、ＣＶＤ面上におけるレ
ーザ・ビームの広がりを抑え、ＣＶＤ反応を狭い領域の
みで行なわせることができる光ＣＶＤ用光学系を提供す
ることを目的とする。
決するために考えられたもので、ＣＶＤ面上におけるレ
ーザ・ビームの広がりを抑え、ＣＶＤ反応を狭い領域の
みで行なわせることができる光ＣＶＤ用光学系を提供す
ることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明の光ＣＶＤ用光学系は、光線を通過させる開
口と、この開口とＣＶＤ面とを共役関係に保ち、開口を
通過した光線をＣＶＤ面に投影するレンズ系を備えてい
る。
に、本発明の光ＣＶＤ用光学系は、光線を通過させる開
口と、この開口とＣＶＤ面とを共役関係に保ち、開口を
通過した光線をＣＶＤ面に投影するレンズ系を備えてい
る。
【０００９】また、レンズ系とＣＶＤ面との間に走査ミ
ラーを設けて、レーザ・ビームを走査しながらＣＶＤ面
上に照射することもできる。
ラーを設けて、レーザ・ビームを走査しながらＣＶＤ面
上に照射することもできる。
【００１０】
【作用】本発明の光ＣＶＤ用光学系により、レンズで開
口の形状をＣＶＤ面に投影し、レーザ・ビームが有する
発散角の影響を除去することができる。
口の形状をＣＶＤ面に投影し、レーザ・ビームが有する
発散角の影響を除去することができる。
【００１１】
（第１実施例）図１に示すように、レーザ・ビーム11の
断面を制限する開口12と、レンズ13とを備え、ＣＶＤ用
の試料があるＣＶＤ面14上にレーザ・ビームを投射する
ように構成されている。
断面を制限する開口12と、レンズ13とを備え、ＣＶＤ用
の試料があるＣＶＤ面14上にレーザ・ビームを投射する
ように構成されている。
【００１２】レンズ13は、開口12とＣＶＤ面14を共役関
係に保つように設定されているので、ＣＶＤ面14上での
レーザ・ビーム11の形状は開口12の形状により決まり、
レーザ・ビーム11の発散角に影響されることはない。し
たがって、ＣＶＤ面14上におけるＣＶＤ反応を狭い領域
に限定して起こさせることができる。
係に保つように設定されているので、ＣＶＤ面14上での
レーザ・ビーム11の形状は開口12の形状により決まり、
レーザ・ビーム11の発散角に影響されることはない。し
たがって、ＣＶＤ面14上におけるＣＶＤ反応を狭い領域
に限定して起こさせることができる。
【００１３】（第２実施例）図２に示すように、レーザ
・ビーム11の断面を制限する開口12と、レンズ13と、こ
のレンズ13により投影される光線をＣＶＤ面14上で走査
させるための走査ミラー15とを備え、ＣＶＤ用の試料が
あるＣＶＤ面14上にレーザ・ビームを走査しながら投射
するように構成されている。
・ビーム11の断面を制限する開口12と、レンズ13と、こ
のレンズ13により投影される光線をＣＶＤ面14上で走査
させるための走査ミラー15とを備え、ＣＶＤ用の試料が
あるＣＶＤ面14上にレーザ・ビームを走査しながら投射
するように構成されている。
【００１４】第１実施例と同様にレンズ13は、開口12と
ＣＶＤ面14を共役関係に保つように設定されている。
ＣＶＤ面14を共役関係に保つように設定されている。
【００１５】走査ミラー15によってレーザ・ビームを走
査しながらＣＶＤ面14上の部位に照射し、その走査速度
を変えることにより、ＣＶＤ面14上での各部位における
ＣＶＤ反応速度を自由に制御することができる。
査しながらＣＶＤ面14上の部位に照射し、その走査速度
を変えることにより、ＣＶＤ面14上での各部位における
ＣＶＤ反応速度を自由に制御することができる。
【００１６】
【発明の効果】以上の実施例に基づく説明から明らかな
ように、本発明の光ＣＶＤ用光学系によると、開口12
と、この開口12とＣＶＤ面14とを共役関係に保ち、開口
12を通過した光線をＣＶＤ面14上に投影するレンズ系13
を設けることにより、レーザ・ビーム11の発散角の影響
を受けることなく、ＣＶＤ反応を狭い領域のみに限定し
て行なわせることができる。
ように、本発明の光ＣＶＤ用光学系によると、開口12
と、この開口12とＣＶＤ面14とを共役関係に保ち、開口
12を通過した光線をＣＶＤ面14上に投影するレンズ系13
を設けることにより、レーザ・ビーム11の発散角の影響
を受けることなく、ＣＶＤ反応を狭い領域のみに限定し
て行なわせることができる。
【図１】本発明の光ＣＶＤ用光学系の第１実施例を示す
構成図
構成図
【図２】本発明の光ＣＶＤ用光学系の第２実施例を示す
構成図
構成図
【図３】従来の光ＣＶＤ用光学系の一例を示す構成図で
ある。
ある。
11 レーザ・ビーム 12 開口 13 レンズ 14 ＣＶＤ面 15 走査ミラー
Claims (2)
- 【請求項１】 光線を通過させる開口と、該開口とＣＶ
Ｄ面とを共役関係に保ち、前記開口を通過した光線をＣ
ＶＤ面に投影するレンズ系を備えたことを特徴とする光
ＣＶＤ用光学系。 - 【請求項２】 光線を通過させる開口と、該開口とＣＶ
Ｄ面とを共役関係に保ち、前記開口を通過した光線をＣ
ＶＤ面に投影するレンズ系と、該レンズ系により投影さ
れる光線をＣＶＤ面上で走査とちといすな走査ミラーか
らを備えたことを特徴とする光ＣＶＤ用光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2066692A JPH05188316A (ja) | 1992-01-10 | 1992-01-10 | 光ｃｖｄ用光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2066692A JPH05188316A (ja) | 1992-01-10 | 1992-01-10 | 光ｃｖｄ用光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05188316A true JPH05188316A (ja) | 1993-07-30 |
Family
ID=12033526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2066692A Pending JPH05188316A (ja) | 1992-01-10 | 1992-01-10 | 光ｃｖｄ用光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05188316A (ja) |
-
1992
- 1992-01-10 JP JP2066692A patent/JPH05188316A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH04242644A (ja) | レーザアブレーション装置 | |
| JPH05277776A (ja) | レーザビーム用マスク装置 | |
| JPH0436794B2 (ja) | ||
| JPH08262354A (ja) | エネルギー照射装置及び方法 | |
| JPH05188316A (ja) | 光ｃｖｄ用光学系 | |
| JPS63235912A (ja) | 光学装置 | |
| JPS6258832B2 (ja) | ||
| JPH0438833B2 (ja) | ||
| JPH05273481A (ja) | 光ビーム走査装置 | |
| JPH04284994A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JPH01212437A (ja) | パタン露光方法および紫外線露光装置 | |
| JP2914836B2 (ja) | レ−ザビ−ムによるアブレ−ション装置 | |
| JP3479197B2 (ja) | レーザ装置 | |
| JPH05188317A (ja) | 光ｃｖｄ用光学系 | |
| JPH05249241A (ja) | 距離計測装置 | |
| JPH0592289A (ja) | レーザ加工方法 | |
| JPS609660B2 (ja) | 電子線図形投影装置 | |
| JPH0333246B2 (ja) | ||
| JPH0560989A (ja) | ラスタ走査装置 | |
| JPH0494881A (ja) | レーザマーキング装置 | |
| JPS5494053A (en) | Light spot scanner | |
| JPH0643505A (ja) | 光ビーム偏向装置 | |
| JPS6095421A (ja) | 走査光学装置 | |
| JPS63217318A (ja) | 光走査装置 | |
| JP2001018083A (ja) | レーザ加工装置 |