JP2914836B2 - レ−ザビ−ムによるアブレ−ション装置 - Google Patents
レ−ザビ−ムによるアブレ−ション装置Info
- Publication number
- JP2914836B2 JP2914836B2 JP4286999A JP28699992A JP2914836B2 JP 2914836 B2 JP2914836 B2 JP 2914836B2 JP 4286999 A JP4286999 A JP 4286999A JP 28699992 A JP28699992 A JP 28699992A JP 2914836 B2 JP2914836 B2 JP 2914836B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- uniform
- intensity distribution
- ablation
- rotating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Laser Surgery Devices (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レ−ザビ−ムによるア
ブレ−ション装置、殊にビ−ム断面の一方向が均一でそ
れと直交する方向がガウス分布等の不均一な強度分布を
もったレ−ザビ−ム（代表的にはエキシマレ−ザ）によ
り角膜等の対象物の特定面積をアブレ−ションする装置
に好適な装置に関する。
ブレ−ション装置、殊にビ−ム断面の一方向が均一でそ
れと直交する方向がガウス分布等の不均一な強度分布を
もったレ−ザビ−ム（代表的にはエキシマレ−ザ）によ
り角膜等の対象物の特定面積をアブレ−ションする装置
に好適な装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年注目されているレ−ザビ−ムで角膜
表面をアブレ−ションし、その曲率を変化させて眼球の
屈折異常を矯正する手法においては、レ−ザビ−ムでア
ブレ−ションする深さが均一になるように制御すること
が必要である。そこで、本出願人は特願平２−４１６７
６７号（発明の名称「レ−ザビ−ムによるアブレ−ショ
ン装置」）や特願平４−６１２１１号（発明の名称「レ
−ザビ−ムによるアブレ−ション装置」）において、ビ
−ム断面の一方向が均一でそれと直交する方向がガウス
分布等の不均一な強度分布をもったレ−ザビ−ムを、不
均一な強度分布の方向に並進スキャンさせることにより
均一な深さのアブレ−ションを行う方法を提案した。
表面をアブレ−ションし、その曲率を変化させて眼球の
屈折異常を矯正する手法においては、レ−ザビ−ムでア
ブレ−ションする深さが均一になるように制御すること
が必要である。そこで、本出願人は特願平２−４１６７
６７号（発明の名称「レ−ザビ−ムによるアブレ−ショ
ン装置」）や特願平４−６１２１１号（発明の名称「レ
−ザビ−ムによるアブレ−ション装置」）において、ビ
−ム断面の一方向が均一でそれと直交する方向がガウス
分布等の不均一な強度分布をもったレ−ザビ−ムを、不
均一な強度分布の方向に並進スキャンさせることにより
均一な深さのアブレ−ションを行う方法を提案した。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法はレ−ザビ−ム断面の一方向がほぼ均一になっていな
いとアブレ−ション後の深さが均一にならないという欠
点があった。即ち、レ−ザの共振器のアライメント不良
等により、レ−ザ光源から出射されるレ−ザビ−ムの均
一性には個々のレ−ザ発振器によりバラ付きが生じてい
る。このように均一であるべき方向の強度分布が無視で
きない程度に均一でない場合には（図３参照）、並進ス
キャンを行っている方向には均一な深さになるが、それ
と直交するスキャンしない方向にはレ−ザビ−ムの不均
一な分布がそのまま残ってしまい、アブレ−ション領域
全体が均一な深さにならないという欠点がある。また、
アブレ−ションする対象物へ導光する光学系に何等かの
不具合があるために、アブレ−ション面上で不均一にな
っているときにも、同様なことが生じる。本発明の目的
は上記問題点に鑑み、レ−ザビ−ムを並進スキャンして
アブレ−ションする装置において、レ−ザビ−ム断面の
本来均一であるべき方向の強度分布が均一で無かった場
合にも均一な深さのアブレ−ションが行える装置を提供
することにある。
法はレ−ザビ−ム断面の一方向がほぼ均一になっていな
いとアブレ−ション後の深さが均一にならないという欠
点があった。即ち、レ−ザの共振器のアライメント不良
等により、レ−ザ光源から出射されるレ−ザビ−ムの均
一性には個々のレ−ザ発振器によりバラ付きが生じてい
る。このように均一であるべき方向の強度分布が無視で
きない程度に均一でない場合には（図３参照）、並進ス
キャンを行っている方向には均一な深さになるが、それ
と直交するスキャンしない方向にはレ−ザビ−ムの不均
一な分布がそのまま残ってしまい、アブレ−ション領域
全体が均一な深さにならないという欠点がある。また、
アブレ−ションする対象物へ導光する光学系に何等かの
不具合があるために、アブレ−ション面上で不均一にな
っているときにも、同様なことが生じる。本発明の目的
は上記問題点に鑑み、レ−ザビ−ムを並進スキャンして
アブレ−ションする装置において、レ−ザビ−ム断面の
本来均一であるべき方向の強度分布が均一で無かった場
合にも均一な深さのアブレ−ションが行える装置を提供
することにある。
【０００４】上記目的を達成するために、本発明は次の
ような特徴を持つ。 （１） レーザビームの照射により対象物の所定の領域
をアブレーションするレーザビームによるアブレーショ
ン装置において、不均一な強度分布をもったレーザビー
ムを一定の方向にスキャンすることにより所定の領域を
ほぼ均一にアブレーションするためのビームスキャン手
段と、レーザビームの断面の方向を光軸回りに回転させ
る光学系であって、該ビームスキャン手段よりも対象物
側に配置されたビーム回転光学手段と、前記ビームスキ
ャン手段により所定の領域をアブレーションした後スキ
ャン方向を変えるように，該ビーム回転光学手段の回転
を制御する制御手段と、を備え、スキャン方向を変えて
アブレーションの重ね合わせを行なうようにしたことを
特徴とする。
ような特徴を持つ。 （１） レーザビームの照射により対象物の所定の領域
をアブレーションするレーザビームによるアブレーショ
ン装置において、不均一な強度分布をもったレーザビー
ムを一定の方向にスキャンすることにより所定の領域を
ほぼ均一にアブレーションするためのビームスキャン手
段と、レーザビームの断面の方向を光軸回りに回転させ
る光学系であって、該ビームスキャン手段よりも対象物
側に配置されたビーム回転光学手段と、前記ビームスキ
ャン手段により所定の領域をアブレーションした後スキ
ャン方向を変えるように，該ビーム回転光学手段の回転
を制御する制御手段と、を備え、スキャン方向を変えて
アブレーションの重ね合わせを行なうようにしたことを
特徴とする。
【０００５】（２） ビ−ム断面の一方向がほぼ均一で
それと直交する方向がガウス分布等の不均一な強度分布
をもったレ−ザビ−ムを、不均一な強度分布を持つ方向
に並進スキャンすることにより均一なアブレ−ションを
行うレ−ザビ−ムによるアブレ−ション装置において、
ビ−ム断面の方向を光軸回りに回転させる光学手段と、
前記所定の並進スキャンごとに該光学手段の回転を制御
する制御手段とを有することを特徴とする。
それと直交する方向がガウス分布等の不均一な強度分布
をもったレ−ザビ−ムを、不均一な強度分布を持つ方向
に並進スキャンすることにより均一なアブレ−ションを
行うレ−ザビ−ムによるアブレ−ション装置において、
ビ−ム断面の方向を光軸回りに回転させる光学手段と、
前記所定の並進スキャンごとに該光学手段の回転を制御
する制御手段とを有することを特徴とする。
【０００６】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図１は実施例の光学系の配置図である。１はエ
キシマレ−ザ光源であり、そのレ−ザ光源から出射され
るレ−ザビ−ムの断面形状は、図２に示すように、ビ−
ムの水平方向（Ｘ軸方向）の強度分布がほぼ均一な分布
Ｆ（Ｗ）で、垂直方向（Ｙ軸方向）の強度分布がガウシ
アン分布（ガウス分布）Ｆ（Ｈ）となっている。２，
３，７は平面ミラ−でレ−ザビ−ムを９０度偏向するた
めのものであり、レ−ザ光源１より水平方向に出射され
たレ−ザビ−ムは平面ミラ−２により上方へ９０度偏向
され、平面ミラ−３で再び水平方向に偏向される。平面
ミラ−３はＺ軸方向（矢印方向）に平行移動し、不均一
な強度分布の方向に並進スキャンする。４はイメ−ジロ
−テ−タで、レ−ザビ−ムを光軸回りに回転する。５は
アブレ−ション領域を限定するアパ−チャであり、アパ
−チャ５は開口の径を変えることができる。６はアパ−
チャ５を眼球角膜８の上に投影する投影レンズである。
投影レンズ６に対してアパ−チャ５と眼球角膜８は共役
な位置関係になっており、投影レンズ６によりアパ−チ
ャ５で限定した領域が眼球角膜８の上に結像し、アブレ
−ション領域を限定する。投影レンズ６を通ったレ−ザ
ビ−ムは、平面ミラ−７で下方に偏向されて眼球角膜８
へ到達する。眼球角膜８は、図示しない観察系で観察さ
れ、装置に対して所定の位置関係に位置決めされ、固定
される（位置決め手段については図示せず）。
明する。図１は実施例の光学系の配置図である。１はエ
キシマレ−ザ光源であり、そのレ−ザ光源から出射され
るレ−ザビ−ムの断面形状は、図２に示すように、ビ−
ムの水平方向（Ｘ軸方向）の強度分布がほぼ均一な分布
Ｆ（Ｗ）で、垂直方向（Ｙ軸方向）の強度分布がガウシ
アン分布（ガウス分布）Ｆ（Ｈ）となっている。２，
３，７は平面ミラ−でレ−ザビ−ムを９０度偏向するた
めのものであり、レ−ザ光源１より水平方向に出射され
たレ−ザビ−ムは平面ミラ−２により上方へ９０度偏向
され、平面ミラ−３で再び水平方向に偏向される。平面
ミラ−３はＺ軸方向（矢印方向）に平行移動し、不均一
な強度分布の方向に並進スキャンする。４はイメ−ジロ
−テ−タで、レ−ザビ−ムを光軸回りに回転する。５は
アブレ−ション領域を限定するアパ−チャであり、アパ
−チャ５は開口の径を変えることができる。６はアパ−
チャ５を眼球角膜８の上に投影する投影レンズである。
投影レンズ６に対してアパ−チャ５と眼球角膜８は共役
な位置関係になっており、投影レンズ６によりアパ−チ
ャ５で限定した領域が眼球角膜８の上に結像し、アブレ
−ション領域を限定する。投影レンズ６を通ったレ−ザ
ビ−ムは、平面ミラ−７で下方に偏向されて眼球角膜８
へ到達する。眼球角膜８は、図示しない観察系で観察さ
れ、装置に対して所定の位置関係に位置決めされ、固定
される（位置決め手段については図示せず）。
【０００７】以上のような構成の装置について、次に、
均一な深さのアブレ−ションのためのスキャンについて
説明する。なお、平面ミラ−３を平行移動しての並進ス
キャンについては、特願平２−４１６７６７号（発明の
名称「レ−ザビ−ムによるアブレ−ション装置」）又は
特願平４−６１２１１号（発明の名称「レ−ザビ−ムに
よるアブレ−ション装置」）に詳しく記載されているの
で参照されたい。図３に示したように、レ−ザビ−ムの
Ｘ軸方向の強度分布Ｆ（Ｗ）が均一でなく、例えば図３
のＦ´（Ｗ）のように片側のほうが強いような場合、並
進スキャンでアブレ−ションを行うと、図４のように、
並進スキャンを行った方向（Ｙ軸方向）はほぼ均一な深
さになるが、並進スキャンを行わなかった方向（Ｘ軸方
向）は強度分布Ｆ´（Ｗ）の偏りの通りに、光強度の強
いほうが深く、弱いほうが浅く、偏った深さ分布にな
る。これを何スキャンも重ねると浅い側と深い側との差
が非常に大きくなってしまう。そこで、イメ−ジロ−テ
−タ４により、１スキャンごとに並進スキャンする方向
を回転させ、深さの偏る方向を変えることによって、片
側が極度に深く偏ったアブレ−ションされることがなく
なる。発明者の実験結果によれば、スキャン方向は１２
０度間隔の３方向に設定し、スキャンごとに順次スキャ
ン方向を変えることにより角膜手術には十分な結果が得
られた。この回転角度の設定は、要求される均一さの程
度、スキャンの重ね合わせの回数や強度分布の偏りの程
度等を考慮して決定される。このように、並進スキャン
のみでアブレ−ションするのに対して、並進スキャンす
る方向を回転させることによってレ−ザ発振器等の個体
差による強度分布の偏りを補正して、均一な深さのアブ
レ−ションが行うことができる。
均一な深さのアブレ−ションのためのスキャンについて
説明する。なお、平面ミラ−３を平行移動しての並進ス
キャンについては、特願平２−４１６７６７号（発明の
名称「レ−ザビ−ムによるアブレ−ション装置」）又は
特願平４−６１２１１号（発明の名称「レ−ザビ−ムに
よるアブレ−ション装置」）に詳しく記載されているの
で参照されたい。図３に示したように、レ−ザビ−ムの
Ｘ軸方向の強度分布Ｆ（Ｗ）が均一でなく、例えば図３
のＦ´（Ｗ）のように片側のほうが強いような場合、並
進スキャンでアブレ−ションを行うと、図４のように、
並進スキャンを行った方向（Ｙ軸方向）はほぼ均一な深
さになるが、並進スキャンを行わなかった方向（Ｘ軸方
向）は強度分布Ｆ´（Ｗ）の偏りの通りに、光強度の強
いほうが深く、弱いほうが浅く、偏った深さ分布にな
る。これを何スキャンも重ねると浅い側と深い側との差
が非常に大きくなってしまう。そこで、イメ−ジロ−テ
−タ４により、１スキャンごとに並進スキャンする方向
を回転させ、深さの偏る方向を変えることによって、片
側が極度に深く偏ったアブレ−ションされることがなく
なる。発明者の実験結果によれば、スキャン方向は１２
０度間隔の３方向に設定し、スキャンごとに順次スキャ
ン方向を変えることにより角膜手術には十分な結果が得
られた。この回転角度の設定は、要求される均一さの程
度、スキャンの重ね合わせの回数や強度分布の偏りの程
度等を考慮して決定される。このように、並進スキャン
のみでアブレ−ションするのに対して、並進スキャンす
る方向を回転させることによってレ−ザ発振器等の個体
差による強度分布の偏りを補正して、均一な深さのアブ
レ−ションが行うことができる。
【０００８】以上の本装置における制御は、キ−ボ−ド
等により入力された矯正デ−タに基づいて、マイクロコ
ンピュ−タが行なう。なお、本実施例の説明中の方向を
示す語は、レ−ザのエネルギ分布方向との関係を特定す
るために使用したもので、それ以上の格別な意味はな
い。また、本実施例はアパ−チャ５を投影レンズ６で眼
球角膜８に投影してアブレ−ション領域を限定している
が、図５のように眼球角膜８の直前にアパ−チャ５をお
いてアブレ−ション領域を限定しても良い。また、均一
な光量分布を得る方式としては、上記の並進スキャン方
式以外でも、一定の吸収特性を持つフィルタを光路に挿
入する方式も提案されているが、レ−ザ発振器の個体差
を取り除くことはできないので、光束を光軸回りに回転
させて本発明を利用することができる。以上の実施例は
角膜のいわゆるワイドアブレ−ションを念頭においた説
明を行ったが、本発明の技術思想を越えることなく、他
の加工に利用できることは明らかである。
等により入力された矯正デ−タに基づいて、マイクロコ
ンピュ−タが行なう。なお、本実施例の説明中の方向を
示す語は、レ−ザのエネルギ分布方向との関係を特定す
るために使用したもので、それ以上の格別な意味はな
い。また、本実施例はアパ−チャ５を投影レンズ６で眼
球角膜８に投影してアブレ−ション領域を限定している
が、図５のように眼球角膜８の直前にアパ−チャ５をお
いてアブレ−ション領域を限定しても良い。また、均一
な光量分布を得る方式としては、上記の並進スキャン方
式以外でも、一定の吸収特性を持つフィルタを光路に挿
入する方式も提案されているが、レ−ザ発振器の個体差
を取り除くことはできないので、光束を光軸回りに回転
させて本発明を利用することができる。以上の実施例は
角膜のいわゆるワイドアブレ−ションを念頭においた説
明を行ったが、本発明の技術思想を越えることなく、他
の加工に利用できることは明らかである。
【０００９】
【発明の効果】本発明によれば、レ−ザビ−ムを照射し
て一定領域をアブレ−ションする装置において、レ−ザ
ビ−ムの強度分布の個体差等を補正して均一なアブレ−
ションが可能とする。
て一定領域をアブレ−ションする装置において、レ−ザ
ビ−ムの強度分布の個体差等を補正して均一なアブレ−
ションが可能とする。
【図１】本実施例の装置の光学系の配置図である。
【図２】理想的なエキシマレ−ザのビ−ムの強度分布を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図３】本発明の目的である不均一なレ−ザビ−ムの強
度分布の例を示す説明図である。
度分布の例を示す説明図である。
【図４】不均一なレ−ザビ−ムで並進スキャンした場合
のアブレ−ションの様子を示す説明図である。
のアブレ−ションの様子を示す説明図である。
【図５】別の態様の装置の光学系の配置図である。
１ エキシマレ−ザ光源 ２，３，７ 平面ミラ− ４ イメ−ジロ−テ−タ ５ アパ−チャ ６ 投影レンズ ８ 眼球角膜
Claims (2)
- 【請求項１】 レーザビームの照射により対象物の所定
の領域をアブレーションするレーザビームによるアブレ
ーション装置において、不均一な強度分布をもったレー
ザビームを一定の方向にスキャンすることにより所定の
領域をほぼ均一にアブレーションするためのビームスキ
ャン手段と、レーザビームの断面の方向を光軸回りに回
転させる光学系であって、該ビームスキャン手段よりも
対象物側に配置されたビーム回転光学手段と、前記ビー
ムスキャン手段により所定の領域をアブレーションした
後スキャン方向を変えるように，該ビーム回転光学手段
の回転を制御する制御手段と、を備え、スキャン方向を
変えてアブレーションの重ね合わせを行なうようにした
ことを特徴とするレーザビームによるアブレーション装
置。 - 【請求項２】 ビーム断面の一方向がほぼ均一でそれと
直交する方向がガウス分布等の不均一な強度分布をもっ
たレーザビームを、不均一な強度分布を持つ方向に並進
スキャンすることにより均一なアブレーションを行うレ
ーザビームによるアブレーション装置において、ビーム
断面の方向を光軸回りに回転させる光学手段と、前記所
定の並進スキャンごとに該光学手段の回転を制御する制
御手段とを有することを特徴とするレーザビームによる
アブレーション装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4286999A JP2914836B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | レ−ザビ−ムによるアブレ−ション装置 |
| US08/219,412 US5637109A (en) | 1992-02-14 | 1994-03-29 | Apparatus for operation on a cornea using laser-beam |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4286999A JP2914836B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | レ−ザビ−ムによるアブレ−ション装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06114083A JPH06114083A (ja) | 1994-04-26 |
| JP2914836B2 true JP2914836B2 (ja) | 1999-07-05 |
Family
ID=17711715
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4286999A Expired - Fee Related JP2914836B2 (ja) | 1992-02-14 | 1992-09-30 | レ−ザビ−ムによるアブレ−ション装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2914836B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3709335B2 (ja) * | 2000-09-28 | 2005-10-26 | 株式会社ニデック | 眼科装置 |
| WO2003092565A1 (fr) | 2002-04-30 | 2003-11-13 | Nidek Co., Ltd. | Procede d'ablation utilisant un faisceau laser, et dispositif d'ablation |
-
1992
- 1992-09-30 JP JP4286999A patent/JP2914836B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06114083A (ja) | 1994-04-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3199124B2 (ja) | レーザアブレーション装置 | |
| JP3197375B2 (ja) | 角膜アブレーション装置 | |
| JP4199820B2 (ja) | レーザー加工装置及びレーザー加工方法 | |
| US5637109A (en) | Apparatus for operation on a cornea using laser-beam | |
| KR100755817B1 (ko) | 액정 표시 장치의 결함 화소를 보정하는 방법 및 장치 | |
| WO2020090075A1 (ja) | 加工システム、及び、加工方法 | |
| US5906608A (en) | Ablation apparatus | |
| KR970005523B1 (ko) | 투명판 표면의 결함 수정 방법 | |
| US6190374B1 (en) | Apparatus for operating upon a cornea | |
| JP3363835B2 (ja) | 戻り光除去方法と装置 | |
| JP2914836B2 (ja) | レ−ザビ−ムによるアブレ−ション装置 | |
| JP3736791B2 (ja) | レーザ加工方法 | |
| WO2020090074A1 (ja) | 加工システム、及び、加工方法 | |
| US7921852B2 (en) | Method and device for forming curved sections in a transparent material | |
| JP4003918B2 (ja) | 角膜手術装置 | |
| JP2004098087A (ja) | レーザ加工装置およびレーザ加工方法 | |
| JP3623336B2 (ja) | アブレーション装置 | |
| JP2000279440A (ja) | 角膜手術装置 | |
| JP3524855B2 (ja) | レーザ照射装置及びレーザ加工方法 | |
| JPH0724587A (ja) | レーザ照射装置 | |
| JP2581574B2 (ja) | レ−ザ加工方法およびその装置 | |
| JP2874842B2 (ja) | 角膜手術装置 | |
| WO2023074588A1 (ja) | レーザ調整方法、及びレーザ加工装置 | |
| JP2004145031A (ja) | レーザビームによるアブレーション装置 | |
| JPH05220189A (ja) | レーザビームによるアブレーション装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080416 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090416 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090416 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100416 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100416 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110416 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120416 Year of fee payment: 13 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |