JPH08262354A

JPH08262354A - エネルギー照射装置及び方法

Info

Publication number: JPH08262354A
Application number: JP7044252A
Authority: JP
Inventors: Fumiaki Yamada; 文明山田; Yoichi Taira; 洋一平
Original assignee: International Business Machines Corp
Current assignee: International Business Machines Corp
Priority date: 1995-03-03
Filing date: 1995-03-03
Publication date: 1996-10-11
Anticipated expiration: 2016-10-02
Also published as: JP3213194B2; US5835249A; US5982526A

Abstract

(57)【要約】【目的】高速で光の利用効率が高いエネルギー照射装
置及び方法を提供する。【構成】露光装置１０は、レーザ発振器２０、光学シ
ャッタ２２、結像レンズ２４及び２８、スクリーン２
６、垂直偏向装置３０、水平偏向装置４０、垂直移動装
置５０、液晶パネル６０、及び制御装置７０を含む。レ
ーザ発振器２０から射出した光ビームは、光学シャッタ
２２が開状態のときに通過し、結像レンズ２４によっ
て、スクリーン２６上のスリット又はパターンを照射す
る。スリット又はパターンを通過した光は、結像レンズ
２８によって徐々に収束し、ガルバノ・ミラー３２に入
射する。ガルバノ・ミラー３２は、ビームを垂直方向に
所望の角度だけ偏向し、偏向されたビームはガルバノ・
ミラー４２に入射する。ガルバノ・ミラー４２は、ビー
ムを水平方向に所望の角度だけ偏向する。その後、ビー
ムはステージ５２上に配置された液晶パネル６０の所望
の位置に結像し、露光させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、平面上に配置された対
象物にエネルギーを照射する装置及び方法に関し、特
に、液晶パネルをビーム走査により露光させる装置及び
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】薄膜トランジスタの液晶パネルにおい
て、広視野角を得るために、液晶の配向を制御し、液晶
分子の方向をバランスさせ、視野角特性を平均化させる
方法がある。液晶の配向を制御するために、１画素に相
当する液晶セルの表面に塗布されたポリイミド等の有機
物高分子の特定の部分を、波長２００〜３００ｎｍ程度
の深紫外線レーザを用いて選択的に露光することが行わ
れている。

【０００３】各液晶セルの特定の部分を選択的に露光す
るためには、露光のパターン化が必要となる。例えば、
１０インチクラスのＶＧＡディスプレイでは、２００ｍ
ｍ×１５０ｍｍほどにわたる露光範囲は、カラー・ディ
スプレイの場合、横６４０×３色×縦４８０個のほぼ長
方形の液晶セルの集合から成り立っており、各液晶セル
のうちの一部、例えば上下の境界に沿って高さ１００〜
１５０μｍ程度の範囲を選択的に露光する必要がある。

【０００４】このような平面上の対象物の所望の位置に
所望の光量を照射する為の方法としては、（１）直接露
光、投射露光等のマスクによる露光方法、（２）ラスタ
・スキャン装置、ベクタ・スキャン装置等によるビーム
露光方法がある。

【０００５】（１）のマスクによる露光方法について
は、次の問題点がある。（ａ）対象物全体を均一な光量で照射することが困難で
ある。（ｂ）投射露光の場合には対象物全面にわたり収差の少
ないことが要求され、このため高度な光学系が必要とな
る。（ｃ）光源としてレーザ、特に深紫外線レーザのような
干渉性の高い光源を使用した場合、干渉縞が生じやすく
均一な露光が得にくい。（ｄ）露光しない部分の光はマスクで遮断されるので、
描画するパターンの透過部分の比率が低い場合、光の利
用効率が低下する。

【０００６】また、（２）のビーム露光方法には、偏向
装置として主にポリゴン・ミラー、又はガルバノ・ミラ
ーが用いられる。

【０００７】ポリゴン・ミラーによる走査の場合、ミラ
ーにより偏向されたビームは、一定の向きに一定の角速
度で移動するので、中心からの振れ角θの広い範囲にわ
たって対象物上のスポットの走査速度を一定に保つため
に、レーザ・ビーム・プリンタ等で広く用いられている
ｆθレンズを用いて対象物に焦点を結ばせる。このた
め、次のような問題点がある。（ｅ）液晶パネルのような広い範囲を露光する場合、レ
ンズが大型になる。（ｆ）深紫外線等の短波長光に対して必要な透過率を得
ることができる光学材料が合成水晶や蛍石等に限られ
る。これらの材料は高価であり、しかも加工が困難で非
球面レンズが作れない。そのため、収差を抑えるための
組合せレンズの設計が困難である。（ｇ）上記以外の一般的な光学材料、例えばガラス等を
利用した場合、十分な透過率が得られない。（ｈ）高い光出力を得るためには光の利用効率を高め
る、すなわち実質的な照射時間の割合を高くし、かつ透
過率を高める必要がある。

【０００８】また、ガルバノ・ミラーによる走査の場
合、ミラーの角速度を制御することができるので、上記
のｆθレンズを用いる方法の他に、レンズと対象物との
間に偏向装置を置き、ミラーの角速度を制御して対象物
上のスポット移動速度を一定とする方法もある。また、
対象物の中心と周辺との間の焦点位置ずれが問題となる
場合には、焦点を移動するようにレンズを光軸上で移動
させるアクチュエータを設置することによって焦点位置
ずれを解決できる。しかしながら、ラスタ・スキャンを
行わせる場合、次のような問題点がある。（ｉ）水平方向の偏向を制御する駆動電流として鋸歯状
波を用い、スポット移動の往路のみを露光に利用し、復
路、すなわち帰線は利用せず、できるだけ高速で移動さ
せていた。（ｊ）描画において、露光しない部分を走査している間
は、光シャッタを用いて光を遮っていたので、光の利用
効率は制限されていた。（ｋ）広範囲を露光する場合、光源から対象物の中心部
までの距離と周辺部までの距離の差によって、スポット
の水平方向の軌跡が直線にならずに、中心に向かって凸
状の曲線になるという、糸巻き収差を呈することがあ
る。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高速
で光の利用効率が高いエネルギー照射装置及び方法を提
供することである。

【００１０】本発明の他の目的は、多種の光源に対応で
きるエネルギー照射装置及び方法を提供することであ
る。

【００１１】本発明のさらに他の目的は、糸巻き収差の
小さいエネルギー照射装置及び方法を提供することであ
る。

【００１２】本発明のさらに他の目的は、液晶表示装置
の液晶配向膜の所望の部分を紫外線によって改質し所望
の配向特性を得るための、高速なエネルギー照射装置及
び方法を提供することである。

【００１３】本発明のさらに他の目的は、紫外線硬化樹
脂に描画を行い、該樹脂を硬化させて所望の形状に加工
するための、高速なエネルギー照射装置及び方法を提供
することである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明によるエネルギー
照射装置は、平面上に配置された対象物にエネルギーを
照射するために、エネルギー・ビームを発生する手段
と、エネルギー・ビームのスポットを平面上の第１の方
向に往復させる手段と、対象物を平面上の第２の方向に
移動させる手段と、エネルギー・ビームのスポットを第
２の方向に、対象物を移動させる手段による移動量だけ
移動させる手段とを有する。

【００１５】また、本発明によるエネルギー照射装置
は、エネルギー・ビームを発生する手段と、エネルギー
・ビームのスポットを平面上の第１の方向に移動させる
手段と、第１の方向に移動させる手段と接続して、エネ
ルギー・ビームのスポットの移動速度を制御する手段と
を有する。

【００１６】

【実施例】図１に、本発明によるエネルギー照射装置の
第１の実施例を露光装置として示す。露光装置１０は、
レーザ発振器２０、光学シャッタ２２、結像レンズ２４
及び２８、スクリーン２６、垂直偏向装置３０、水平偏
向装置４０、垂直移動装置５０、液晶パネル６０、及び
制御装置７０を含む。

【００１７】レーザ発振器２０には、深紫外線レーザ発
振器を用いる。光学シャッタ２２は、シャッタを開閉す
ることにより、ビームのＯＮ／ＯＦＦを行う。結像レン
ズ（ＩｍａｇｉｎｇＬｅｎｓ）２４は、レーザ発振器
２０からのビームをスクリーン２６上のスリット又はパ
ターンを通過するように配置され、スクリーン２６上の
スリット又はパターンを通過した光が、液晶パネル６０
上に焦点を結ぶように結像レンズ２８が配置される。結
像レンズ２４としては、加工の容易な球面レンズを用い
ることが望ましい。

【００１８】垂直偏向装置３０は、ガルバノ・ミラー３
２及びミラー駆動装置３４を含む。ガルバノ・ミラー３
２は、回転可能な水平軸３６に固定される。ミラー駆動
装置３４は、制御装置７０から垂直制御信号を受け取
り、ガルバノ・ミラー３２を駆動する。水平偏向装置４
０は、垂直偏向装置３０と同様に、ガルバノ・ミラー４
２及びミラー駆動装置４４を含む。ガルバノ・ミラー４
２は、回転可能な垂直軸４６に固定される。ミラー駆動
装置４４は、制御装置７０から水平制御信号を受け取
り、ガルバノ・ミラー４２を駆動する。ミラー駆動装置
３４及び４４は、好ましくはステップ・モータにより構
成される。

【００１９】垂直移動装置は、ステージ５２及びステー
ジ駆動装置５４を含む。ステージ５２は、垂直移動可能
にレール５６に取り付けられる。ステージ駆動装置５４
は、制御装置７０から垂直移動制御信号を受け取り、ス
テージ５２を駆動する。また、液晶パネル６０は、着脱
可能にステージ５２上に取り付けられる。

【００２０】次に、動作について説明すると、レーザ発
振器２０から射出した光ビームは、光学シャッタ２２が
開状態のときに通過し、結像レンズ２４によって徐々に
収束し、スクリーン２６上のスリット又はパターンを照
射する。スリット又はパターンを通過し、断面が特定の
形状にされた光は、焦点を結んだ後再び拡散し、結像レ
ンズ２８によって再度収束しつつ、ガルバノ・ミラー３
２に入射する。ガルバノ・ミラー３２は、ビームを垂直
方向に所望の角度だけ偏向し、偏向されたビームはガル
バノ・ミラー４２に入射する。ガルバノ・ミラー４２
は、ビームを水平方向に所望の角度だけ偏向する。その
後、ビームはステージ５２上に配置された液晶パネル６
０の所望の位置に焦点を結び、スリット又はパターンの
像を液晶パネル上に露光させる。

【００２１】図２に、本発明による露光のための走査方
法を示す。水平ビーム偏向装置４０による水平方向の偏
向は、制御装置７０が、ａ）に示すような三角波をミラ
ー駆動装置４４に与えることにより行う。ガルバノ・ミ
ラー４２は、中心からの振れ角θ_Hがａ）に示す三角波
により一定の角速度で変位する。液晶パネル６０までの
光路長ｒ_Hが十分大きく、かつ振れ角θ_Hがが十分小さけ
れば、液晶パネル６０上での水平方向変位ｘ≒ｒ_H×θ_H
とみなすことができ、スポットは、水平方向に一定の速
度で移動する。上記の近似が成り立たないとき、すなわ
ち、液晶パネル６０の周辺部でのスポットの速度誤差が
無視できないときは、周知のように、中心からの振れ角
θ_Hに対してｃｏｓ²θ_Hなる信号を乗じることにより補
正することができる。

【００２２】一方、垂直移動装置５０によるステージ５
２の移動は、制御装置７０が、ｂ）に示すような傾き一
定の波形をステージ駆動装置５４に与えることにより行
う。これにより、スポットは、垂直方向に一定の速度で
移動する。図において、縦軸は、ステージ５２上の液晶
パネル６０を基準としたスポットの相対変位であるの
で、この場合のステージ５２は、スポットと反対方向に
移動することに注意すべきである。また、垂直ビーム偏
向装置３０による垂直方向の偏向は、制御装置７０が、
ｃ）に示すような鋸波をミラー駆動装置３４に与えるこ
とにより行う。図において、ｃ）の鋸波の傾きは、ｂ）
の傾きと大きさが等しく、反対向きである。ステップ部
分は、スポットの軌跡が所望の間隔の平行線となるよう
調整する。ｂ）及びｃ）により合成された垂直方向の変
位をｄ）に示す。ｂ）の正の傾きは、ｃ）の負の傾きに
より補正され、ｄ）において傾き０となる。ｃ）のステ
ップ部分はそのまま残り、階段状の波形となる。

【００２３】図３に、ステージ５２に取り付けられた液
晶セル６０上の、スポットの中心の軌跡を示す。図２及
び図３を用いてスポットの軌跡を説明すると、時刻ｔ０
において、スポットは液晶パネル６０の左上の露光開始
位置に存在する。時刻ｔ０からｔ１までの間、スポット
は水平方向右向きに一定速度で移動し、垂直方向には移
動しない。時刻ｔ１において、スポットは、垂直方向下
向きに瞬間的に移動すると同時に、水平方向の向きを右
向きから左向きに変える。時刻ｔ１からｔ２までの間、
スポットは水平方向左向きに一定速度で移動し、垂直方
向には移動しない。時刻ｔ２において、スポットは、垂
直方向下向きに瞬間的に移動すると同時に、水平方向の
向きを左向きから右向きに変える。時刻ｔ０からｔ２ま
での時間を１周期として、以降、同様の移動を繰り返
し、平行線の軌跡を描く。

【００２４】本発明による走査方法を採用することによ
り、水平偏向を鋸歯状波で駆動した場合に利用できなか
った帰線も露光に利用することができる。このため従来
技術と比較して光の利用効率が高くなり、したがって走
査速度も向上する。さらに、対象物を移動させることに
より、スポットの垂直方向の移動を必要最小限にし、垂
直方向の周辺部でスポットの軌跡が直線にならないとい
う糸巻き収差を小さくすることができる。

【００２５】図４及び図５に、本発明による露光装置の
第２の実施例を示す。水平ビーム偏向装置４０による水
平方向の偏向は、制御装置７０が、ｅ）に示すような三
角波の基本波形にｆ）に示すような鋸波の副波形を加
え、すなわちｇ）に示すような合成波形をミラー駆動装
置４４に与えることにより露光量制御を行う。図４及び
図５を参照すると、時刻ｔ’０において、スポットは液
晶パネル６０の左上の露光開始位置ｘ０に存在する。時
刻ｔ’０からｔ’１までの間、ｆ）に示す副波形は０で
あり、ｅ）に示す基本波形のみの制御となり、スポット
は水平方向右向きに一定速度で移動する。時刻ｔ’１に
おいて、ｘ１にあるスポットは、副波形の立ち上がりに
より、瞬間的にｘ２に移動する。時刻ｔ’１からｔ’２
までの間、副波形が基本波形を打ち消し、スポットは移
動せず、その位置はｘ２のままである。時刻ｔ’２にお
いて、再び、副波形の立ち上がりにより、スポットは瞬
間的にｘ３に移動する。時刻ｔ’２からｔ’３までの
間、副波形は基本波形を打ち消す方向に働くが、合成波
形は０とはならず、ｔ’０〜ｔ’１間より低速で移動す
るので、ｘ３〜ｘ４間においては露光量はより多くな
る。時刻ｔ’３において、ｘ４にあるスポットは、再び
副波形の立ち上がりにより、瞬間的にｘ５に移動する。
時刻ｔ’３からｔ’４までの間、再び副波形が基本波形
を打ち消し、スポットは移動せず、その位置はｘ５のま
まである。時刻ｔ’４からｔ’５までの間、副波形は０
であり、ｔ’０〜ｔ’１と同様に、スポットは水平方向
右向きに一定速度で移動する。時刻ｔ’５において、第
１の実施例で示した方法により、スポットが垂直方向に
瞬間的に移動すると同時に、水平方向左向きに反転す
る。時刻ｔ’５からｔ’６までの間、副波形は０であ
り、スポットは水平方向左向きに一定速度で移動する。
時刻ｔ’６において、ｘ７からｘ８に瞬間的に移動
し、。時刻ｔ’６からｔ’７までの間、スポットはｘ８
に停止し、その後、水平方向左向きに一定速度で移動す
る。

【００２６】露光しない部分の比率が高い場合、露光す
べき部分に対する走査時間の比率をできる限り高くする
ように水平走査速度を定め、これに垂直走査速度やステ
ージ移動速度を同期させるように最適化することによ
り、光の利用効率の向上と露光時間の短縮をはかること
ができる。

【００２７】また、ガルバノ・ミラー４２と液晶パネル
６０の間にスリット又はパターンを挿入し、対象物上に
結像させることにより、軌跡の幅を制御したり、パター
ンを投射露光することができる。このとき、図５に示し
たように、結果がｘ２、ｘ５、及びｘ８等の、一つの点
になるような偏向制御を行うことによってパターンの露
光中に対象物上のイメージが移動しないようにすること
ができる。

【００２８】さらに、図１に示すように、結像レンズ２
８と液晶パネル６０の間に垂直偏向装置及び水平偏向装
置を配置することにより、焦点距離が長く収差の小さい
レンズを使用することができるので、組レンズを使用す
る必要がない、という利点がある。

【００２９】第１の実施例において、レーザ発振器２０
として、波長２５０ｎｍ程度の深紫外線を発振させるも
のを用い、結像レンズの焦点距離を１、０００ｍｍ、入
射瞳径を７〜８ｍｍとして実験したところ、対象物上で
のスポット分解能は約２０μｍ、焦点深度は約１０ｍｍ
となり、このときの水平走査用ガルバノ・ミラーの振れ
角θ_Hは−５．７°〜＋５．７°と求められ、現在の技
術によって容易に実現できることが確かめられた。

【００３０】以上液晶セルの露光装置を例として説明し
たが、本発明は液晶セルの露光装置に限られるものでは
なく、例えば、紫外線硬化樹脂の加工装置にも応用可能
である。また、電子ビーム、Ｘ線、粒子ビームによる露
光の制御等にも応用できる。

【００３１】

【発明の効果】本発明の実施により、高速で光の利用効
率が高いエネルギー照射装置及び方法を提供することが
できる。

【００３２】また、本発明の実施により、多種の光源に
対応できるエネルギー照射装置及び方法を提供すること
ができる。

【００３３】さらに、本発明の実施により、液晶表示装
置の液晶配向膜の所望の部分を紫外線によって改質し所
望の配向特性を得るための、高速なエネルギー照射装置
及び方法を提供することができる。

【００３４】さらに、本発明の実施により、紫外線硬化
樹脂に描画を行い、該樹脂を硬化させて所望の形状に加
工するための、高速なエネルギー照射装置及び方法を提
供することができる。

【００３５】さらに、本発明の実施により、fθレンズ
のような複雑なレンズの利用を避け、ガルバノ・ミラー
を用いた従来技術と比較して光の利用効率が高いエネル
ギー照射装置及び方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の露光装置を示す図である。

【図２】本発明の露光装置の制御方法を示す図である。

【図３】本発明の露光装置によるビームのスポットの軌
跡を示す図である。

【図４】本発明の露光装置の別の制御方法を示す図であ
る。

【図５】本発明の露光装置による別のビームのスポット
の軌跡を示す図である。

【符号の説明】

１０露光装置２０レーザ発振器２２光学シャッタ２４結像レンズ２６スクリーン２８結像レンズ３０垂直偏向装置３２ガルバノ・ミラー３４ミラー駆動装置３６水平軸４０水平偏向装置４２ガルバノ・ミラー４４ミラー駆動装置４６垂直軸５０垂直移動装置５２ステージ５４ステージ駆動装置５６レール６０液晶パネル７０制御装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者平洋一神奈川県大和市下鶴間1623番地14 日本アイ・ビー・エム株式会社東京基礎研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】平面上に配置された対象物にエネルギーを
照射する装置であって、（ａ）エネルギー・ビームを発
生する手段と、（ｂ）前記エネルギー・ビームのスポッ
トを前記平面上の第１の方向に所定の範囲において移動
させる手段と、（ｃ）前記対象物を前記平面上の第２の
方向に移動させる手段と、（ｄ）前記エネルギー・ビー
ムのスポットを前記第２の方向に、前記手段（ｃ）によ
る移動量だけ移動させる手段と、を有する、エネルギー
照射装置。
【請求項２】前記エネルギー・ビームが光ビームを含む
ことを特徴とする、請求項１のエネルギー照射装置。
【請求項３】前記光ビームが、深紫外線レーザ・ビーム
を含むことを特徴とする、請求項２のエネルギー照射装
置。
【請求項４】前記深紫外線レーザ・ビームを発生する手
段が少なくとも１つの結像レンズを含むことを特徴とす
る、請求項３のエネルギー照射装置。
【請求項５】前記平面上の第１の方向に所定の範囲にお
いて移動させる手段が、平面上の第１の方向に所定の範
囲において往復させる手段を含むことを特徴とする、請
求項１のエネルギー照射装置。
【請求項６】前記平面上の第１の方向に所定の範囲にお
いて往復させる手段エネルギー・ビームのスポットを平
面上の第１の方向に往復させる手段が、ガルバノ・ミラ
ーと、該ガルバノ・ミラーを所定の範囲において等角速
度で往復回転させる手段とを含むことを特徴とする、請
求項５のエネルギー照射装置。
【請求項７】前記対象物を平面上の第２の方向に移動さ
せる手段が、前記対象物を連続的に移動させることを特
徴とする、請求項１のエネルギー照射装置。
【請求項８】前記エネルギー・ビームのスポットを第２
の方向に移動させる手段が、ガルバノ・ミラーと、該ガ
ルバノ・ミラーを所定の範囲において等角速度で回転さ
せる手段とを含むことを特徴とする、請求項１のエネル
ギー照射装置。
【請求項９】前記対象物が、液晶パネルを含むことを特
徴とする、請求項１のエネルギー照射装置。
【請求項１０】前記第１の方向と前記第２の方向とが直
交することを特徴とする、請求項１のエネルギー照射装
置。
【請求項１１】前記第１の方向に移動させる手段が前記
エネルギー・ビームのスポットの向きを転換させるのと
同時に、前記エネルギー・ビームのスポットを第２の方
向に移動させる手段が前記エネルギー・ビームのスポッ
トを瞬間的に所定量移動させることを特徴とする、請求
項１のエネルギー照射装置。
【請求項１２】前記第１の方向に移動させる手段が三角
波を含む波形で駆動され、前記エネルギー・ビームのス
ポットを第２の方向に移動させる手段が鋸波を含む波形
で駆動されることを特徴とする、請求項１１のエネルギ
ー照射装置。
【請求項１３】平面上に配置された対象物にエネルギー
を照射する装置であって、（ａ）エネルギー・ビームを
発生する手段と、（ｂ）前記エネルギー・ビームのスポ
ットを前記平面上の第１の方向に移動させる手段と、
（ｃ）前記エネルギー・ビームのスポットを、前記対象
物に対して、前記平面上の第１の方向と異なる第２の方
向に移動させる手段と、（ｄ）前記エネルギー・ビーム
のスポットを前記第１の方向に移動させた軌跡と実質的
に平行に、前記第１の方向と反対の方向に移動させる手
段と、を有する、エネルギー照射装置。
【請求項１４】前記エネルギー・ビームが光ビームを含
むことを特徴とする、請求項１３のエネルギー照射装
置。
【請求項１５】前記光ビームが、深紫外線レーザ・ビー
ムを含むことを特徴とする、請求項１４のエネルギー照
射装置。
【請求項１６】前記深紫外線レーザ・ビームを発生する
手段が少なくとも１つの結像レンズを含むことを特徴と
する、請求項１５のエネルギー照射装置。
【請求項１７】前記エネルギー・ビームのスポットを平
面上の第１の方向に移動させる手段が、ガルバノ・ミラ
ーと、該ガルバノ・ミラーを等角速度で回転させる手段
とを含むことを特徴とする、請求項１３のエネルギー照
射装置。
【請求項１８】前記エネルギー・ビームのスポットを第
１の方向と反対の方向に移動させる手段が、ガルバノ・
ミラーと、該ガルバノ・ミラーを等角速度で回転させる
手段とを含むことを特徴とする、請求項１３のエネルギ
ー照射装置。
【請求項１９】前記対象物が、液晶パネルを含むことを
特徴とする、請求項１３のエネルギー照射装置。
【請求項２０】前記第１の方向と前記第２の方向とが直
交することを特徴とする、請求項１３のエネルギー照射
装置。
【請求項２１】平面上に配置された対象物にエネルギー
を照射する装置であって、（ａ）エネルギー・ビームを
発生する手段と、（ｂ）前記エネルギー・ビームのスポ
ットを前記平面上の第１の方向に移動させる手段と、
（ｃ）前記第１の方向に移動させる手段に結合されて、
前記エネルギー・ビームのスポットの移動速度を制御す
る手段と、を有する、エネルギー照射装置。
【請求項２２】前記エネルギー・ビームが光ビームを含
むことを特徴とする、請求項２１のエネルギー照射装
置。
【請求項２３】前記光ビームが、深紫外線レーザ・ビー
ムを含むことを特徴とする、請求項２２のエネルギー照
射装置。
【請求項２４】前記深紫外線レーザ・ビームを発生する
手段が少なくとも１つの結像レンズを含むことを特徴と
する、請求項２３のエネルギー照射装置。
【請求項２５】前記エネルギー・ビームのスポットを平
面上の第１の方向に移動させる手段が、ガルバノ・ミラ
ーと、該ガルバノ・ミラーを回転させる手段とを含むこ
とを特徴とする、請求項２１のエネルギー照射装置。
【請求項２６】前記ガルバノ・ミラーを回転させる手段
が、三角波と鋸波を含む波形で駆動されることを特徴と
する、請求項２５のエネルギー照射装置。
【請求項２７】前記エネルギー照射装置が、さらに、
（ｄ）前記対象物を前記平面上の第２の方向に移動させ
る手段と、（ｅ）前記エネルギー・ビームのスポットを
前記第２の方向に、前記手段（ｄ）による前記対象物の
移動量だけ移動させる手段と、を含むことを特徴とす
る、請求項２１のエネルギー照射装置。
【請求項２８】前記対象物が、液晶パネルを含むことを
特徴とする、請求項２１のエネルギー照射装置。
【請求項２９】前記第１の方向と前記第２の方向とが直
交することを特徴とする、請求項２１のエネルギー照射
装置。
【請求項３０】前記対象物が、紫外線硬化樹脂を含み、
かつ前記光ビームが紫外線を含むことを特徴とする、請
求項２１のエネルギー照射装置。
【請求項３１】平面上に配置された対象物にエネルギー
を照射する方法であって、（ａ）エネルギー・ビームを
発生するステップと、（ｂ）前記エネルギー・ビームの
スポットを前記平面上の第１の方向に所定の範囲におい
て移動させるステップと、（ｃ）前記対象物を前記平面
上の第２の方向に移動させるステップと、（ｄ）前記エ
ネルギー・ビームのスポットを前記第２の方向に、前記
手段（ｃ）による移動量だけ移動させるステップと、を
有する、エネルギー照射方法。
【請求項３２】平面上に配置された対象物にエネルギー
を照射する方法であって、（ａ）エネルギー・ビームを
発生するステップと、（ｂ）前記エネルギー・ビームの
スポットを前記平面上の第１の方向に移動させるステッ
プと、（ｃ）前記エネルギー・ビームのスポットを、前
記対象物に対して、前記平面上の第１の方向と異なる第
２の方向に移動させるステップと、（ｄ）前記エネルギ
ー・ビームのスポットを前記第１の方向に移動させた軌
跡と実質的に平行に、前記第１の方向と反対の方向に移
動させるステップと、を有する、エネルギー照射方法。
【請求項３３】平面上に配置された対象物にエネルギー
を照射する方法であって、（ａ）エネルギー・ビームを
発生するステップと、（ｂ）前記エネルギー・ビームの
スポットを前記平面上の第１の方向に移動させるステッ
プと、（ｃ）前記第１の方向に移動させるステップに応
答して、前記エネルギー・ビームのスポットの移動速度
を制御するステップと、を有する、エネルギー照射方
法。
【請求項３４】平面上に配置された液晶パネルを露光さ
せる方法であって、（ａ）深紫外線レーザ・ビームを発
生するステップと、（ｂ）前記深紫外線レーザ・ビーム
のスポットを前記平面上の第１の方向に所定の範囲にお
いて移動させるステップと、（ｃ）前記液晶パネルを前
記平面上の第２の方向に移動させるステップと、（ｄ）
前記深紫外線レーザ・ビームのスポットを前記第２の方
向に、前記手段（ｃ）による移動量だけ移動させるステ
ップと、を有する、液晶パネルの露光方法。
【請求項３５】平面上に配置された液晶パネルを露光さ
せる方法であって、（ａ）深紫外線レーザ・ビームを発
生するステップと、（ｂ）前記深紫外線レーザ・ビーム
のスポットを前記平面上の第１の方向に移動させるステ
ップと、（ｃ）前記深紫外線レーザ・ビームのスポット
を、前記液晶パネルに対して、前記平面上の第１の方向
と異なる第２の方向に移動させるステップと、（ｄ）前
記深紫外線レーザ・ビームのスポットを前記第１の方向
に移動させた軌跡と実質的に平行に、前記第１の方向と
反対の方向に移動させるステップと、を有する、液晶パ
ネルの露光方法。
【請求項３６】平面上に配置された液晶パネルを露光さ
せる方法であって、（ａ）深紫外線レーザ・ビームを発
生するステップと、（ｂ）前記深紫外線レーザ・ビーム
のスポットを前記平面上の第１の方向に移動させるステ
ップと、（ｃ）前記第１の方向に移動させるステップに
応答して、前記深紫外線レーザ・ビームのスポットの移
動速度を制御するステップと、を有する、液晶パネルの
露光方法。
【請求項３７】紫外線硬化樹脂を加工する装置であっ
て、（ａ）紫外線レーザ・ビームを発生する手段と、
（ｂ）前記紫外線レーザ・ビームのスポットを前記紫外
線硬化樹脂上の第１の方向に移動させる手段と、（ｃ）
前記第１の方向に移動させる手段に結合されて、前記紫
外線レーザ・ビームのスポットの移動速度を制御する手
段と、を有する、加工装置。
【請求項３８】紫外線硬化樹脂を加工する方法であっ
て、（ａ）紫外線レーザ・ビームを発生するステップ
と、（ｂ）前記紫外線レーザ・ビームのスポットを前記
紫外線硬化樹脂上の第１の方向に移動させるステップ
と、（ｃ）前記第１の方向に移動させるステップに応答
して、前記紫外線レーザ・ビームのスポットの移動速度
を制御するステップと、を有する、加工方法。