CN112946958B - 应用于dmd系统位工作台的高速运动控制方法及系统 - Google Patents
应用于dmd系统位工作台的高速运动控制方法及系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112946958B CN112946958B CN201911256900.1A CN201911256900A CN112946958B CN 112946958 B CN112946958 B CN 112946958B CN 201911256900 A CN201911256900 A CN 201911256900A CN 112946958 B CN112946958 B CN 112946958B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- memory
- dimensional physical
- dmd
- bitmap
- motion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
- G02F1/133788—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
- G03F7/704—Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
本发明公开了一种应用于DMD系统工作台高速运动控制方法,包括将大幅面的单色位图相应地分割为若干个子单色位图块,生成对应每个子单色位图块的二维物理坐标及子单色位图块编号,生成所分割单色位图的二维物理坐标集合;每个灰度值和其对应的所述单色位图在电动可调偏振片上都有一个对应位置,根据扫描文件对应的所述灰度值,选择可电动调节偏振片到指定的角度,运动控制器控制二维平台按行或者列作不停顿扫描运动。本发明利用脉冲激光能量大、脉宽短、重复频率高特点,基于多个脉冲实现单帧偏振图案记录,对于工作台的运动精准控制,实现了曝光面积大、效率高、可靠性好的优点。
Description
技术领域
本发明涉及液晶取向排列控制领域,尤其涉及一种应用于DMD系统位工作台的高速运动控制方法及系统。
背景技术
基于液晶空间调制器的偏振取向技术是一种能够对入射光的相位和振幅进行调制的可编程控制器件,单次投影取向可以实现不同选区液晶不同取向排列的图案记录。
光控取向是新近发展起来的一种非接触式的液晶取向方法,它利用光敏材料在紫外或蓝光偏光照射下发生定向光交联、异构化或光裂解反应而得到所需的排列,目前光控取向技术分为四种:掩模套刻偏振图案技术、利用全息干涉的方法获得的周期性的液晶取向技术、基于DMD的动态掩模光取向技术,还有基于空间调制器的偏振取向技术。
其中,掩模套刻偏振图案技术存在的问题是:套刻难度太大,效率低;精度低;难以制作大幅面;掩模与晶片上的感光胶层接触,引起损伤。
全息干涉的方法获得的周期性的液晶取向技术只能实现特定周期性偏振图案,无法实现任意偏振图案书写。
基于液晶空间调制器的偏振取向技术是一种能够对入射光的相位和振幅进行调制的可编程控制器件,单次投影取向可以实现不同选区液晶不同取向排列的图案记录,但是如果成像系统是放大系统,样品尺寸较大,像素单元尺寸也较大,无法输出高精度偏振图案。
基于DMD的动态掩模光取向技术,通过刷新DMD上的强度分布图,可以快速生成需要的掩膜板图形,而不需要物理地生产新的掩膜板,更容易实现各种形状的取向分布,但是仍然用机械旋转线性极化膜的方法来控制光的极化方向,因此仍然需要多次曝光才能完成复杂图案的光取向。
因此,亟待一种应用于DMD系统的运动控制系统,能同时满足高精度和大幅面的输出偏振图案的装置和方法。
发明内容
为了解决现有技术的问题,本发明公开了一种应用于DMD系统工作台高速运动控制方法,所述高速运动控制方法包括以下步骤:
S1、将大幅面的加工图形按灰度值分解为若干个大幅面的单色位图,每个单色位图与所述加工图形中的一个灰度值对应,并对每个单色位图定义序号,形成一个序列文件;
S2、将大幅面加工图形分割为若干个图形块,生成对应每个图形块的二维物理坐标及图形块编号,并将所述二维物理坐标和图形块编号记录到位置文件中;
S3、将大幅面的单色位图按照S2相应地分割为若干个子单色位图块,生成对应每个子单色位图块的二维物理坐标及子单色位图块编号,并将所述子单色位图块二维物理坐标和子单色位图块编号记录到位置文件中,生成所分割单色位图的二维物理坐标集合;
S4、将所述位置文件中的单色位图的二维物理坐标集合按行或列进行递增排序,并将排序好的二维物理坐标集合及其对应的单色位图的序号保存为一个扫描文件;
S5、运动控制器读取所述扫描文件,并将所述扫描文件中的二维物理坐标集合的数据按行或者列依次上载到运动控制器内存中;
S6、根据所述扫描文件中的二维物理坐标集合的数据对应的所述单色位图序号,获取所述单色位图序号下的子单色位图所在的存储路径,并将所述子单色位图按行或者列依次上载到DMD板卡内存中;
S7、每个所述灰度值和其对应的所述单色位图在电动可调偏振片上都有一个对应位置,将所述对应位置记录到偏振角度文件中;根据扫描文件对应的所述灰度值,选择可电动调节偏振片到指定的角度,运动控制器控制二维平台按行或者列作不停顿扫描运动;
S8、平台轴在作扫描移动时,通过位置触发时序脉冲信号,并同时发送给DMD和脉冲光源,形成快速脉冲扫描曝光;
S9、一个扫描文件执行完毕,平台回归原点;
S10、读取下一个扫描文件,依次重复S4到S8,直至所有扫描文件执行完毕。
S11、所述工作台移动到下个二维物理坐标对应的指定位置,重复S5-S10的操作,直至整个大幅面加工图形的二维物理坐标点都执行完毕。
作为发明实施方式的进一步改进,所述步骤S2中的分割操作具体包括将大幅面的加工图形按不大于视场分辨率的尺寸分割为M*N个图形块。
作为发明实施方式的进一步改进,所述视场分辨率的尺寸为像素宽度*像素高度。
作为发明实施方式的进一步改进,所述S11中所述工作台移动到下个二维物理坐标对应的指定位置的二维运动方式与所述位置文件中的二维物理坐标点的排列顺序一致,当所述位置文件中的二维物理坐标点为逐个按行排列,则运动工作台按行逐点移动;当所述二维物理坐标点排序为逐个按列排列,则运动工作台按列逐点移动;当所述二维物理坐标点排序为随机排列,则运动工作台随机运动。
作为发明实施方式的进一步改进,所述高速运动控制方法采用控制器内存和DMD板卡内存并行处理方式;所述控制器内存和DMD板卡内存的存放点数均为N;在所述控制器内存中上载M*N个二维物理坐标数据;在所述DMD板卡内存中上载M*N个图形块编号数据。
作为发明实施方式的进一步改进,所述高速运动控制方法中控制器内存和DMD板卡内存并行处理方式具体步骤为:
工作时,先执行第一块内存中的数据,当第一块内存中N个数据执行完毕后,发送指令至控制器,更新第一块内存中的数据,同时工作台不停止工作,继续执行下一块内存中N个数据;当执行完第M块内存中的N个数据后,发送指令至控制器,执行第一块内存中的N个数据,同时更新第M块内存中的数据。,依次循环。
另一方面,本发明实施例公开了一种应用于DMD系统工作台高速运动控制系统,所述高速运动控制系统包括工作台、运动控制器、电机驱动电路和电机;
所述运动控制器,用于接收所述工作台的二维物理坐标信号且向DMD系统发送刷新图形指令,向脉冲光源发送开光指令;
所述电机驱动电路,用于发出的驱动电压控制信号;
所述电机,用于受控于所述电机驱动电路以驱动工作台;
所述工作台包括扫描轴及与位置反馈模块,所述位置反馈模块用于实时检测所述扫描轴的移动位置。
作为发明实施方式的进一步改进,所述高速运动控制系统还包括检测装置,用于实时监测所述电机的运动状态信息,并将所述电机的运动位置及速度发送给运动控制器。
作为发明实施方式的进一步改进,所述工作台载带所述光偏振敏感材料在二维平面运动,以进一步实现偏振光场拼接或者不同偏振光场之间的互联。
相对于现有技术,本发明具有以下有益效果:
1、本发明涉及的应用于DMD系统工作台的高速运动控制系统实现了对于工作台的运动精准控制,辅助做到高精度高分辨率曝光;
2、本发明利用脉冲激光能量大、脉宽短、重复频率高特点,基于多个脉冲实现单帧偏振图案记录,实现了曝光面积大、效率高、可靠性好的优点;
3、本发明采用高精度工作台精确控制样品做二维平面移动,为实现大幅面书写提供有利条件;
4、本发明采用由于光能量不集中,提出通过控制单视场尺寸和单次平移距离的关系,消除每个光控取向视场之间的拼缝,提高分辨率;
5、本发明具有曝光偏振图案高精度任意可控、大面积书写、效率高的优点,对于设计和制作大尺寸、高精度、多功能的液晶光学器件有着重要意义。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的应用于DMD系统工作台的高速运动控制系统结构示意图;
图2是本发明实施例提供的基于DMD系统图案化液晶光取向装置结构示意图;
图3是本发明实施例涉及的入射的准直光光路示意图;
图4是本发明实施例涉及的灰度等级与偏振角度示意图;
图5是本发明实施例涉及的光取向生成示例;
图6是本发明实施例涉及的序列文件、位置文件、偏振角度文件之间的信息交互示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明实施例公开了本发明公开了一种应用于DMD系统工作台高速运动控制方法,所述高速运动控制方法包括以下步骤:
S1、将大幅面的加工图形按灰度值分解为若干个大幅面的单色位图,每个单色位图与所述加工图形中的一个灰度值对应,并对每个单色位图定义序号,形成一个序列文件;
S2、将大幅面加工图形分割为若干个图形块,生成对应每个图形块的二维物理坐标及图形块编号,并将所述二维物理坐标和图形块编号记录到位置文件中;
S3、将大幅面的单色位图按照S2相应地分割为若干个子单色位图块,生成对应每个子单色位图块的二维物理坐标及子单色位图块编号,并将所述子单色位图块二维物理坐标和子单色位图块编号记录到位置文件中,生成所分割单色位图的二维物理坐标集合;
S4、将所述位置文件中的单色位图的二维物理坐标集合按行或列进行递增排序,并将排序好的二维物理坐标集合及其对应的单色位图的序号保存为一个扫描文件;
S5、运动控制器读取所述扫描文件,并将所述扫描文件中的二维物理坐标集合的数据按行或者列依次上载到运动控制器内存中;
S6、根据所述扫描文件中的二维物理坐标集合的数据对应的所述单色位图序号,获取所述单色位图序号下的子单色位图所在的存储路径,并将所述子单色位图按行或者列依次上载到DMD板卡内存中;
S7、每个所述灰度值和其对应的所述单色位图在电动可调偏振片上都有一个对应位置,将所述对应位置记录到偏振角度文件中;根据扫描文件对应的所述灰度值,选择可电动调节偏振片到指定的角度,运动控制器控制二维平台按行或者列作不停顿扫描运动;
S8、平台轴在作扫描移动时,通过位置触发时序脉冲信号,并同时发送给DMD和脉冲光源,形成快速脉冲扫描曝光;
S9、一个扫描文件执行完毕,平台回归原点;
S10、读取下一个扫描文件,依次重复S4到S8,直至所有扫描文件执行完毕。
S11、所述工作台移动到下个二维物理坐标对应的指定位置,重复S5-S10的操作,直至整个大幅面加工图形的二维物理坐标点都执行完毕。
部分步骤涉及文件信息交互,如图6所示。
其中,步骤S2中的分割操作具体包括将大幅面的加工图形按不大于视场分辨率的尺寸分割为M*N个图形块。
具体地,视场分辨率的尺寸为像素宽度*像素高度。
S11中工作台移动到下个二维物理坐标对应的指定位置的二维运动方式与位置文件中的二维物理坐标点的排列顺序一致,当位置文件中的二维物理坐标点为逐个按行排列,则运动工作台按行逐点移动;当所述二维物理坐标点排序为逐个按列排列,则运动工作台按列逐点移动;当所述二维物理坐标点排序为随机排列,则运动工作台随机运动。
在本发明实施例中,高速运动控制方法采用控制器内存和DMD板卡内存并行处理方式;所述控制器内存和DMD板卡内存的存放点数均为N;在所述控制器内存中上载M*N个二维物理坐标数据;在所述DMD板卡内存中上载M*N个图形块编号数据。
具体地,所述高速运动控制方法中控制器内存和DMD板卡内存并行处理方式具体步骤为:
工作时,先执行第一块内存中的数据,当第一块内存中N个数据执行完毕后,发送指令至控制器,更新第一块内存中的数据,同时工作台不停止工作,继续执行下一块内存中N个数据;当执行完第M块内存中的N个数据后,发送指令至控制器,执行第一块内存中的N个数据,同时更新第M块内存中的数据。,依次循环。
另一方面,本发明实施例公开了一种应用于DMD系统工作台高速运动控制系统,如图1所示,包括工作台、运动控制器、电机驱动电路和电机;
运动控制器,用于接收所述工作台的二维物理坐标信号且向DMD系统发送刷新图形指令,向脉冲光源发送开光指令;
电机驱动电路,用于发出的驱动电压控制信号;
电机,用于受控于所述电机驱动电路以驱动工作台;
工作台包括扫描轴及与位置反馈模块,所述位置反馈模块用于实时检测所述扫描轴的移动位置。
进一步地,高速运动控制系统还包括检测装置,用于实时监测所述电机的运动状态信息,并将所述电机的运动位置及速度发送给运动控制器。
在本发明实施例中,工作台载带所述光偏振敏感材料在二维平面运动,以进一步实现偏振光场拼接或者不同偏振光场之间的互联。
本发明实施例提供了一种基于数字微反射镜的大幅面图案化液晶光取向装置,如图2所示,包括依次设置的光源组件、动态掩模生成组件、成像检测组件、焦距伺服系统和运动控制部件;
其中,光源组件包括依次连接的紫外或蓝光光源、准直扩束系统和起偏器,所述起偏器与所述准直扩束系统相连,用于控制光的初始偏振方向,生成0-179度范围内的任意偏振方向的面光源;
动态掩模生成组件包括数控微镜DMD、可电动调节偏振片和计算机控制系统,用于动态调控入射光偏振态;其中,计算机控制系统的图像信号输至所述数控微镜DMD的信号输入端;
成像检测组件,用于对生成的图案成像进行检测;
焦距伺服系统包括光偏振敏感材料不敏感的常开光源和垂直方向矫正组件,用于矫正运动产生的离焦现象;
运动控制部件,用于调整载有光偏振敏感材料的平台的空间位置,以实现光场拼接。
在一些实施例中,成像检测组件还包括微缩成像部件,用于对偏振图案生成部件输出的偏振图案进行微缩,并写入到光偏振敏感材料中;
其中,微缩成像部件包括成像物镜组,成像物镜组的光路的主轴方向垂直于平台,电机驱动所述成像物镜组作竖直方向的上下移动,在平台上形成聚焦面;
成像物镜组包括管状透镜和显微物镜;数控微镜DMD设置于管状透镜的前方。
具体地,微缩成像部件连接可电动调节偏振片和分光棱镜,可电动调节偏振片与分光棱镜设置于数控微镜DMD的水平中轴线上;分光棱镜用于将带有偏振信息的光线传导至成像检测组件。
装置还包括平台,用于承载光偏振敏感材料;平台设置于成像物镜组下方且具有二维运动轨道,用于承载光偏振敏感材料且在运动控制部件驱动下带动光偏振敏感材料在二维平面运动,使光偏振敏感材料的表面始终保持在成像物镜组的聚焦面;
运动控制部件与微缩成像部件相连,用于将微缩后的偏振图案光场进行拼接。
其中,成像检测组件包括依次连接的第一分光片、筒镜、成像物镜组、偏振片、第一透镜、第一成像CCD;
具体地,成像物镜组的前焦面位于筒镜的后焦面的附近;第一成像CCD的成像面位于第一透镜的前焦面;第一透镜的后焦面位于筒镜的前焦面。
焦距伺服系统包括依次连接的检测光源、第二透镜、第二分光片、成像物镜组、第二成像CCD、电机;
其中,检测光源位于第二透镜的前焦面;第二分光片位于第二透镜的后焦面;第二成像CCD的成像面位于第二透镜的前焦面;电机驱动成像物镜组;
第一成像CCD接收投射到光偏振敏感材料面的反射像,第一成像CCD与生成的偏振图形成共轭像。
在本发明实施例中,光源为脉冲光源或具有可控挡光片系统的连续光源;光源产生的脉冲激光脉宽为皮秒到秒级别,脉冲激光的波长为340nm到600nm。
另一方面,本发明实施例公开了一种基于数字微反射镜的大幅面任意分布的光取向方法,包括以下步骤:
S1、光源发出的光经准直扩束系统调整为准直的光束;
S2、准直后的光束以预设角度均匀照射到数控微镜阵DMD面板表面;
S3、计算机输出图形信号控制DMD各个微镜呈现不同反射状态实现掩模,DMD面板刷新曝光图形;
S4、形成所述曝光图形的光束通过显微物镜缩微后,经偏振片投射至表面涂有光控取向材料的液晶基片上,控制光强和时间完成曝光,对曝光图案区域的液晶进行重新取向。
其中,步骤S4具体包括:
S401、根据DMD刷新图形,偏振片旋转到对应的偏振角,使通过偏振片后的光为具有预设固定偏振角的偏振光;
S402、在水平中轴线上的偏振光通过分光棱镜反射,形成垂直向下的偏振光,并依次通过管状透镜和微缩物镜照射到光偏振敏感材料的表面,所述分光棱镜将带有偏振信息的光线传导至成像检测组件。
具体地,步骤S4中微缩成像部件通过管式透镜与微缩物镜的焦距之比形成固定的微缩倍率,对偏振图案进行微缩,进而输出偏振图案光场。
进一步地,步骤S402具体包括:
从光偏振敏感材料表面反射的像依次经过显微物镜、管状透镜、指定波段反射平片、第一分光片后,通过第一透镜进入第一成像CCD,生成的偏振图形与第一成像CCD位于管状透镜前焦面,成共轭关系;通过控制显微物镜的镜头的上下移动,调整第一成像CCD内像的清晰度,判断显微物镜的焦面是否在光偏振敏感材料面,标定第二成像CCD中激光光斑尺寸,对后续拼接进行聚焦监测;通过投影到光偏振敏感材料的成像光斑的轮廓的对比度来判断物镜焦面是否在光偏振敏感材料表面。
进一步地,步骤S4之后还包括:
S5、成像检测部件检测并调整微缩物镜与光偏振敏感材料面的距离,使得微缩物镜的聚焦面始终保持在光偏振敏感材料面;具体地,步骤S5具体包括:
检测光源出射光的波长为550nm到650nm之间的任意值;
第二透镜将投射到光偏振敏感材料面的光斑反射到第二成像CCD中,通过光斑直径映射Z轴伺服调焦位置,调整Z轴镜头的上下高度,可以使第二成像CCD中的光斑直径始终保持为R,以通过第二成像CCD检测投射在光偏振敏感材料面的光斑的大小来判断光偏振敏感材料面是否在物镜的聚焦面。
S6、将单个偏振光图案记录到光偏振敏感材料上;
S7、将任意图案化偏振信息,等分为多个不同偏振光图案,进行多次图案刷新和偏振控制,形成图案记录过程。
作为本发明实施方式的进一步改进,所述步骤S7之后还包括:
S8、将载有光偏振敏感材料的平台移动到下一个指定视场位置进行下一次图案光场记录;
其中,一个拼接单元的偏振图案由多个不同偏振图案构成,其中单个偏振图案中,所有偏振态固定。
在本发明实施例中,步骤S1光源准直方式包括使用LED光源,通过一组准直透镜形成准直光或使用激光光源,通过物镜将激光光源扩束,经过透镜形成准直光。
进一步地,如图3所示,步骤S3不同反射状态为DMD面板将入射的准直光分成两路进行反射,包括在形成有曝光图形的区域形成开态反射光,在没有形成曝光图形的区域形成关态反射光;
其中,开态反射光垂直于DMD面板,并位于的水平中轴线上;准直光通过反射镜片后,入射到DMD面板上;入射角为12度。
步骤S8中单次曝光区域可通过运动控制部件控制平台的步进移动拼接成完整图案光场,形成大幅面高精度的曝光图案;
进一步地,当步骤S6单次偏振图案被记录到光偏振敏感材料上之后运动控制部件将载有光偏振敏感材料的平台移动到下一个指定位置进行下一次光取向通过以下步骤具体实现:
计算机控制系统将位置数据传输给运动控制部件,运动控制部件将收到的数据转换成控制信号并发送给电机驱动器,所述电机驱动器根据接收的控制信号对电机进行运动控制,检测装置负责实时监测电机的运动,并将电机的运动位置及速度发送给运动控制部件;然后运动控制部件将聚焦平台和载样台的当前位置及速度反馈给所述计算机控制系统。
本发明还包含一套数据处理及运动控制方法,将灰度等级与偏振角度建立映射函数关系:a=(255-g)*180/256,其中g为图像像素点位置的灰度值,a为对应的偏振角度。将灰度图像按灰度值分解。如图4所示,一个灰度图中含有3个灰度,按灰度值将原图分解为3个单色位图,每个单色位图都只有0,1两个值,1代表白,0代表黑,单色位图中的1与该单色位图所代表的灰度值在原图中该灰度值的位置相同,不是该灰度值的位置的像素值都为0。每个单色位图对应一个偏振角,255灰度对应偏振角度为0度,128灰度对应偏振角度为90度,0灰度对应偏振角度为180。对应灰度值位置的单色位图像素值为1,其余位置为0。将3个单色位图依次上载到DMD控制板卡后,通过控制系统控制DMD面板按固定的时间间隔依次刷新这3幅单色位图,每刷一幅单色位图,控制系统就通过控制旋转电机,旋转偏振片到指定的角度。DMD面板刷新的单色位图,像素值为1的位置处于开态,像素值为0的位置处于关态。开态位置的光经过调整好角度的偏振片后,投影到感光材料上,形成一次固定取向的曝光。保持二维运动平台位置不变,DMD刷新3幅单色位图,偏振片旋转3次偏振角,便可形成3个取向的曝光,如图5所示。
相对于现有技术,本发明具有以下有益效果:
1、本发明涉及的应用于DMD系统工作台的高速运动控制系统实现了对于工作台的运动精准控制,辅助做到高精度高分辨率曝光;
2、本发明利用脉冲激光能量大、脉宽短、重复频率高特点,基于多个脉冲实现单帧偏振图案记录,实现了曝光面积大、效率高、可靠性好的优点;
3、本发明采用高精度工作台精确控制样品做二维平面移动,为实现大幅面书写提供有利条件;
4、本发明采用由于光能量不集中,提出通过控制单视场尺寸和单次平移距离的关系,消除每个光控取向视场之间的拼缝,提高分辨率;
5、本发明具有曝光偏振图案高精度任意可控、大面积书写、效率高的优点,对于设计和制作大尺寸、高精度、多功能的液晶光学器件有着重要意义。
上述所有可选技术方案,可以采用任意结合形成本发明的可选实施例,在此不再一一赘述。
需要说明的是:上述实施例提供的一种运动控制系统在执行一种运动控制方法时,仅以上述各功能模块的划分进行举例说明,实际应用中,可以根据需要而将上述功能分配由不同的功能模块完成,即将系统的内部结构划分成不同的功能模块,以完成以上描述的全部或者部分功能。另外,上述实施例提供的一种运动控制系统以及运动控制方法实施例属于同一构思,其具体实现过程详见方法实施例,这里不再赘述。
本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分步骤可以通过硬件来完成,也可以通过程序来指令相关的硬件完成,所述的程序可以存储于一种计算机可读存储介质中,上述提到的存储介质可以是只读存储器,磁盘或光盘等。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种应用于DMD系统工作台的运动控制方法,其特征在于,所述运动控制方法包括以下步骤:
S1、将大幅面的加工图形按灰度值分解为若干个大幅面的单色位图,每个单色位图与所述加工图形中的一个灰度值对应,并对每个单色位图定义序号,形成一个序列文件;
S2、将大幅面加工图形分割为若干个图形块,生成对应每个图形块的二维物理坐标及图形块编号,并将所述二维物理坐标和图形块编号记录到位置文件中;
S3、将大幅面的单色位图按照S2相应地分割为若干个子单色位图块,生成对应每个子单色位图块的二维物理坐标及子单色位图块编号,并将所述子单色位图块二维物理坐标和子单色位图块编号记录到位置文件中,生成所分割单色位图的二维物理坐标集合;
S4、将所述位置文件中的单色位图的二维物理坐标集合按行或列进行递增排序,并将排序好的二维物理坐标集合及其对应的单色位图序号保存为一个扫描文件;
S5、运动控制器读取所述扫描文件,并将所述扫描文件中的二维物理坐标集合的数据按行或者列依次上载到运动控制器内存中;
S6、根据所述扫描文件中的二维物理坐标集合的数据对应的所述单色位图序号,获取所述单色位图序号下的子单色位图所在的存储路径,并将所述子单色位图按行或者列依次上载到DMD板卡内存中;
S7、每个所述灰度值和其对应的所述单色位图在电动可调偏振片上都有一个对应位置,将所述对应位置记录到偏振角度文件中;根据扫描文件对应的所述灰度值,选择可电动调节偏振片到指定的角度,运动控制器控制二维平台按行或者列作不停顿扫描运动;
S8、平台轴在作扫描移动时,通过位置触发时序脉冲信号,并同时发送给DMD和脉冲光源,形成快速脉冲扫描曝光;
S9、一个扫描文件执行完毕,平台回归原点;
S10、读取下一个扫描文件,依次重复S4到S8,直至所有扫描文件执行完毕;
S11、所述工作台移动到下个二维物理坐标对应的指定位置,重复S5-S10的操作,直至整个大幅面加工图形的二维物理坐标点都执行完毕。
2.根据权利要求1所述的应用于DMD系统工作台的运动控制方法,其特征在于,所述S2中的分割操作具体包括将大幅面的加工图形按不大于视场分辨率的尺寸分割为M*N个图形块。
3.根据权利要求2所述的应用于DMD系统工作台的运动控制方法,其特征在于,所述视场分辨率的尺寸为像素宽度*像素高度。
4.根据权利要求1所述的应用于DMD系统工作台的运动控制方法,其特征在于,
所述S11中所述工作台移动到下个二维物理坐标对应的指定位置的二维运动方式与所述位置文件中的二维物理坐标点的排列顺序一致,当所述位置文件中的二维物理坐标点为逐个按行排列,则运动工作台按行逐点移动;当所述二维物理坐标点排序为逐个按列排列,则运动工作台按列逐点移动。
5.根据权利要求1所述的应用于DMD系统工作台的运动控制方法,其特征在于,所述运动控制方法采用控制器内存和DMD板卡内存并行处理方式;所述控制器内存和DMD板卡内存的存放点数均为M*N;在所述控制器内存中上载M*N个二维物理坐标数据;在所述DMD板卡内存中上载M*N个图形块编号数据。
6.根据权利要求5所述的应用于DMD系统工作台的运动控制方法,其特征在于,所述运动控制方法中控制器内存和DMD板卡内存并行处理方式具体步骤为:
工作时,先执行第一块内存中的数据,当第一块内存中N个数据执行完毕后,发送指令至控制器,更新第一块内存中的数据,同时工作台不停止工作,继续执行下一块内存中N个数据;当执行完第M块内存中的N个数据后,发送指令至控制器,执行第一块内存中的N个数据,同时更新第M块内存中的数据,依次循环。
7.一种应用于DMD系统工作台的运动控制系统,其特征在于,用于按照如权利要求1-6中任一项所述的方法执行运动控制,其中,所述运动控制系统包括工作台、运动控制器、电机驱动电路和电机;
所述运动控制器,用于接收所述工作台的二维物理坐标信号且向DMD系统发送刷新图形指令,向脉冲光源发送开光指令;
所述电机驱动电路,用于发出的驱动电压控制信号;
所述电机,用于受控于所述电机驱动电路以驱动工作台;
所述工作台包括扫描轴及与位置反馈模块,所述位置反馈模块用于实时检测所述扫描轴的移动位置。
8.根据权利要求7所述的应用于DMD系统工作台的运动控制系统,其特征在于,所述运动控制系统还包括检测装置,用于实时监测所述电机的运动状态信息,并将所述电机的运动位置及速度发送给运动控制器。
9.根据权利要求7所述的应用于DMD系统工作台的运动控制系统,其特征在于,所述工作台载带光偏振敏感材料在二维平面运动,以进一步实现偏振光场拼接或者不同偏振光场之间的互联。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201911256900.1A CN112946958B (zh) | 2019-12-10 | 2019-12-10 | 应用于dmd系统位工作台的高速运动控制方法及系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201911256900.1A CN112946958B (zh) | 2019-12-10 | 2019-12-10 | 应用于dmd系统位工作台的高速运动控制方法及系统 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112946958A CN112946958A (zh) | 2021-06-11 |
CN112946958B true CN112946958B (zh) | 2022-08-12 |
Family
ID=76225407
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201911256900.1A Active CN112946958B (zh) | 2019-12-10 | 2019-12-10 | 应用于dmd系统位工作台的高速运动控制方法及系统 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN112946958B (zh) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106886132B (zh) * | 2017-04-25 | 2018-04-13 | 电子科技大学 | 一种基于dmd的扫描式光刻机灰度图像曝光方法 |
CN108303858B (zh) * | 2018-03-09 | 2019-10-01 | 中山新诺科技股份有限公司 | 一种无掩模光刻系统及其曝光方法 |
CN109141273B (zh) * | 2018-10-30 | 2020-07-28 | 北京理工大学 | 一种基于dmd的高速运动目标形变测量系统及方法 |
CN110456612A (zh) * | 2019-07-02 | 2019-11-15 | 苏州源卓光电科技有限公司 | 一种高效率投影光刻成像系统及曝光方法 |
CN110531590A (zh) * | 2019-08-30 | 2019-12-03 | 合肥芯碁微电子装备有限公司 | 一种直写式光刻机拼接方法 |
-
2019
- 2019-12-10 CN CN201911256900.1A patent/CN112946958B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112946958A (zh) | 2021-06-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6816302B2 (en) | Pattern generator | |
US7268856B2 (en) | Pattern writing apparatus and block number determining method | |
US8142179B2 (en) | Stereolithography apparatus | |
CN112241070B (zh) | 大幅面光学偏振图案生成装置及生成方法 | |
CN101126905B (zh) | 具有对焦机构的直写光刻装置 | |
JPH0653105A (ja) | 露光装置 | |
JP2005010786A (ja) | 光空間変調器、放射線ビームを空間変調する方法、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
CN113805439A (zh) | 一种投影光刻机、照明系统、控制系统及方法 | |
KR101446484B1 (ko) | 묘화 시스템 | |
JP6888103B2 (ja) | 非ブレーズドdmdを伴う解像度強化型のデジタルリソグラフィ | |
TWI301932B (en) | Pattern writing apparatus and pattern writing method | |
CN112946958B (zh) | 应用于dmd系统位工作台的高速运动控制方法及系统 | |
CN112946876B (zh) | 应用于dmd系统工作台低速运动控制方法及系统 | |
CN112946960A (zh) | 基于数字微反射镜的大幅面任意分布的光取向装置及方法 | |
CN211956075U (zh) | 基于数字微反射镜的大幅面任意分布的光取向装置 | |
CN211478821U (zh) | 应用于dmd图案化液晶光取向装置的照明系统 | |
US10474041B1 (en) | Digital lithography with extended depth of focus | |
CN101526736A (zh) | 激光直接绘制装置 | |
CN211014906U (zh) | 成像检测组件 | |
JP5270891B2 (ja) | 画像記録方法、および画像記録システム | |
JP4081606B2 (ja) | パターン描画装置およびパターン描画方法 | |
CN112817182A (zh) | 高速曝光图案化液晶光取向装置及方法 | |
CN112946959A (zh) | 应用于dmd图案化液晶光取向装置的照明系统 | |
CN211603794U (zh) | 应用于lcos系统位相调制工作台的低速运动控制系统 | |
CN214846119U (zh) | 一种点扫描图案化液晶光取向系统 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |