JPS62234384A - レ−ザ装置 - Google Patents
レ−ザ装置Info
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- JPS62234384A JPS62234384A JP61077678A JP7767886A JPS62234384A JP S62234384 A JPS62234384 A JP S62234384A JP 61077678 A JP61077678 A JP 61077678A JP 7767886 A JP7767886 A JP 7767886A JP S62234384 A JPS62234384 A JP S62234384A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 24
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 3
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- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
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- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
Landscapes
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- Plasma & Fusion (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、レーザビーム位置検出手段を備えたレーザ
装置の位置検出の信頼性向上に関するものである。
装置の位置検出の信頼性向上に関するものである。
〔従来の技術J
第4因(a)t;!例えば特開昭60−115273号
公報に示され次従来のレーザ装置を示す断面構成図。
公報に示され次従来のレーザ装置を示す断面構成図。
第4図(h) (c)は各々従来のレーザ装置の主要部
を示す部分正面図及び断面側面図である。図において。
を示す部分正面図及び断面側面図である。図において。
+11はレーザ媒質であり、ガスレーザを例にとれば放
電等によって励起されたガス、ガラスレーザを例にとれ
ばフラッシュランプ等により励起され次ガラスである。
電等によって励起されたガス、ガラスレーザを例にとれ
ばフラッシュランプ等により励起され次ガラスである。
(2)および(31はレーザ媒質をはさんで対向して設
置された共振器ミラーで、(21は全反射ミラー、(3
1は部分反射ミラー、(4)は上記ミラー(2)、(3
)間に発生するレーザビーム(5)の光路内に配置され
、レーザビームの光軸上に開口部(7)ヲ有するアパー
チャ部材、 +611−!外部に散出されたレーザビー
ム、(81Hアパ一チヤ部材(4)の開口部(7)外周
上に設けられた複数個の光センサーでフォトダイオード
、熱電対、サーミスタ、白金抵抗体などであリ、(9)
はセンサー保持具である。
置された共振器ミラーで、(21は全反射ミラー、(3
1は部分反射ミラー、(4)は上記ミラー(2)、(3
)間に発生するレーザビーム(5)の光路内に配置され
、レーザビームの光軸上に開口部(7)ヲ有するアパー
チャ部材、 +611−!外部に散出されたレーザビー
ム、(81Hアパ一チヤ部材(4)の開口部(7)外周
上に設けられた複数個の光センサーでフォトダイオード
、熱電対、サーミスタ、白金抵抗体などであリ、(9)
はセンサー保持具である。
次に動作について説明する。ミラー+21. (31は
共振器を構成しており・両ミラー間を往復するレーザビ
ーム(5)ハレーザ媒質(11により増幅されしだいに
その強度が増すが、ある一定以上の大きさになると、そ
の一部が部分反射ミラー(3)よりレーザビーム(6)
として外部に出射される。
共振器を構成しており・両ミラー間を往復するレーザビ
ーム(5)ハレーザ媒質(11により増幅されしだいに
その強度が増すが、ある一定以上の大きさになると、そ
の一部が部分反射ミラー(3)よりレーザビーム(6)
として外部に出射される。
共振器内には9通常開口部(7)ヲもクアパーチャ部材
(4)が挿入され、レーザビームの外径の制限をおこな
っている。
(4)が挿入され、レーザビームの外径の制限をおこな
っている。
共振器ミラー+21. (31のいずれかが配置不良を
おこしレーザビーム(5)と開口部(7)との同軸度が
ずれると、レーザビーム(6)の形状がぐずれたり、そ
の出射方向がずれ・レーザビーム(6)ヲ用いて加工等
をおこなう場合には加工不良が発生する。第4図に示す
レーザ装置では開口部(71の外周上に複数個の光セン
サ−(8)が配置され開口部(7)にエリはし切られた
レーザビームがこれら光センサ−(8)に入射するが、
この入射レーザビームの光量が変化することにより、レ
ーザビームのずれが検出できる。
おこしレーザビーム(5)と開口部(7)との同軸度が
ずれると、レーザビーム(6)の形状がぐずれたり、そ
の出射方向がずれ・レーザビーム(6)ヲ用いて加工等
をおこなう場合には加工不良が発生する。第4図に示す
レーザ装置では開口部(71の外周上に複数個の光セン
サ−(8)が配置され開口部(7)にエリはし切られた
レーザビームがこれら光センサ−(8)に入射するが、
この入射レーザビームの光量が変化することにより、レ
ーザビームのずれが検出できる。
従って、光センサ−(8)の各出力が、ミラー(21゜
(31とアパーチャ部材(4)とが良好に配置された場
合の値となるように、ミラー+21. +31又はアパ
ーチャ部材(4)全調節すれば、常に良好なレーザビー
ムが得られることになる。
(31とアパーチャ部材(4)とが良好に配置された場
合の値となるように、ミラー+21. +31又はアパ
ーチャ部材(4)全調節すれば、常に良好なレーザビー
ムが得られることになる。
従来のレーザ装置は以上のように構成されているが、数
KW級のCO2レーザや、高出刃パルスレーザ等に適用
した場合には、開口部によりはし切りされるレーザビー
ムが強いため、アパーチャ部材から反射し9光センサー
が誤動作をおこす等の問題が発生することがあった。
KW級のCO2レーザや、高出刃パルスレーザ等に適用
した場合には、開口部によりはし切りされるレーザビー
ムが強いため、アパーチャ部材から反射し9光センサー
が誤動作をおこす等の問題が発生することがあった。
この発明は上記のような問題点全解消するためになされ
たもので、アパーチャ部材に入射するレーザビームが強
い場合にも、安定に光センサーが作動し・信頼性よくレ
ーザビームの位置検出ができるレーザ装置金得ること?
目的とする。
たもので、アパーチャ部材に入射するレーザビームが強
い場合にも、安定に光センサーが作動し・信頼性よくレ
ーザビームの位置検出ができるレーザ装置金得ること?
目的とする。
この発明に係るレーザ装置#は、アパーチャ部材全レー
ザビーム吸収体で構成し、かつレーザ媒質側の開口部外
周面に傾斜部を設け、この傾・斜部の傾斜角を・上記傾
斜部で反射するレーザビームが光軸をはさんで対向する
傾斜部へ入射吸収されるようにしたものである。
ザビーム吸収体で構成し、かつレーザ媒質側の開口部外
周面に傾斜部を設け、この傾・斜部の傾斜角を・上記傾
斜部で反射するレーザビームが光軸をはさんで対向する
傾斜部へ入射吸収されるようにしたものである。
この発明におけるアパーチャ部材外周面に設けられた傾
斜部は、はし切りされるレーザビーム及びはし切りされ
たレーザビームの反射ビームを吸収し、光センサーに上
記はし切りビームの反射光が入射するのを防ぐ。
斜部は、はし切りされるレーザビーム及びはし切りされ
たレーザビームの反射ビームを吸収し、光センサーに上
記はし切りビームの反射光が入射するのを防ぐ。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第1図(alはこの発明の一実施例によるレーザ装置を
示す断面構成図、第1図(b)(clは各々この発明の
一実施例によるレーザ装置の主要部を示す部分正面図及
び断面側面図である。
示す断面構成図、第1図(b)(clは各々この発明の
一実施例によるレーザ装置の主要部を示す部分正面図及
び断面側面図である。
図において、第4図と同一符号は同−又は相当部分を示
す。
す。
(4)はレーザビーム吸収体エリなるアパーチャ部材で
1例えばCO2レーザビーム用の吸収体としてはアルミ
に硬質アルマイトを施したものが用いられる。(44ハ
このアパーチャi 材(41の、レーザ媒質側の開口部
外周面に設けられた傾斜部であり。
1例えばCO2レーザビーム用の吸収体としてはアルミ
に硬質アルマイトを施したものが用いられる。(44ハ
このアパーチャi 材(41の、レーザ媒質側の開口部
外周面に設けられた傾斜部であり。
その傾斜角は傾斜部で反射する反射レーザビーム(56
)が光軸をはさんで対向する傾斜部に入射吸収されるよ
うに1例えば光軸に対し45° をなす。
)が光軸をはさんで対向する傾斜部に入射吸収されるよ
うに1例えば光軸に対し45° をなす。
次に動作について説明する。ミラー(2)、(3(は共
振器を構成しており9両ミラー間金往復するレーザビー
ム(5)はレーザ媒質(11により増幅されしだいにそ
の強度が増すが、ある一定以上の大きさになると、その
一部が部分反射ミラー(31エリレーザビーム(6)と
して外部に出射される。
振器を構成しており9両ミラー間金往復するレーザビー
ム(5)はレーザ媒質(11により増幅されしだいにそ
の強度が増すが、ある一定以上の大きさになると、その
一部が部分反射ミラー(31エリレーザビーム(6)と
して外部に出射される。
共振器内には9通常開口部(71fcもつアパーチャ部
材(4)が挿入され、レーザビームの外径の制限をおこ
なっているが、共振器ミラー(2:、(3)のいずれか
が配置不良をおこし、レーザビーム(5)と開口部(7
)との同軸度がずれると、レーザビーム(61の形状が
ぐずれたり、その出射方向がずれ、レーザビーム(6)
により加工等をおこなう場合には加工不良が発生する。
材(4)が挿入され、レーザビームの外径の制限をおこ
なっているが、共振器ミラー(2:、(3)のいずれか
が配置不良をおこし、レーザビーム(5)と開口部(7
)との同軸度がずれると、レーザビーム(61の形状が
ぐずれたり、その出射方向がずれ、レーザビーム(6)
により加工等をおこなう場合には加工不良が発生する。
この場合には開口部(7)の外周に配置された複故個の
光センサ−(81に入射する。開口部(7)にエリはし
切りされるレーザビームの光量が変化することにエリレ
ーザビームのずれが検出されるため、光センサ−(8)
の各出力がミラー+21. +31とアパーチャ部材[
41とが良好に配置され次場合の値となるように、ミラ
ー121. (31まfcはアパーチャ部材(41ヲ調
節すれば、常に良好なレーザビームが得られることにな
る。
光センサ−(81に入射する。開口部(7)にエリはし
切りされるレーザビームの光量が変化することにエリレ
ーザビームのずれが検出されるため、光センサ−(8)
の各出力がミラー+21. +31とアパーチャ部材[
41とが良好に配置され次場合の値となるように、ミラ
ー121. (31まfcはアパーチャ部材(41ヲ調
節すれば、常に良好なレーザビームが得られることにな
る。
また、開口部(7)によりはし切りされたレーザビーム
は傾斜部04で吸収され、傾斜部θ4の吸収率が低い場
合には反射され・光軸をはさんで対向する傾斜s (4
4)にレーザビーム(56)としていま一度入射して吸
収される。例えばアパーチャ部材の傾斜部がアルミに硬
質アルマイトを施し穴もので構成されているとすると0
02 レーザビームの吸収率は93%であり、7−あま
りのレーザビームが反射される。しかし、このTtII
Iのレーザビームは対向する傾斜部にその93チが吸収
されるため結局はし切りされるレーザビームのうち、光
センサーにむけて反射するレーザビームは7%X7%#
0.5チと著しく小さい。
は傾斜部04で吸収され、傾斜部θ4の吸収率が低い場
合には反射され・光軸をはさんで対向する傾斜s (4
4)にレーザビーム(56)としていま一度入射して吸
収される。例えばアパーチャ部材の傾斜部がアルミに硬
質アルマイトを施し穴もので構成されているとすると0
02 レーザビームの吸収率は93%であり、7−あま
りのレーザビームが反射される。しかし、このTtII
Iのレーザビームは対向する傾斜部にその93チが吸収
されるため結局はし切りされるレーザビームのうち、光
センサーにむけて反射するレーザビームは7%X7%#
0.5チと著しく小さい。
なお・上記実施例では、光センサーはレーザビームの出
射方向に対して、アパーチャ部材(4)の前面に配置す
る例を示したが、第2図に示f工すに傾斜部に設けられ
た貫通穴G11l?通過するレーザビームを検出する工
うにしてもよい。この場合は傾斜部を設けることにより
開口部(7)端面での反射光が光センサ−(8)に入射
するのを防ぐことができる。
射方向に対して、アパーチャ部材(4)の前面に配置す
る例を示したが、第2図に示f工すに傾斜部に設けられ
た貫通穴G11l?通過するレーザビームを検出する工
うにしてもよい。この場合は傾斜部を設けることにより
開口部(7)端面での反射光が光センサ−(8)に入射
するのを防ぐことができる。
また1位置検出手段の配置は、第3[kl (a) (
b)でもよく要はレーザビームをはし切りさえすればよ
い。
b)でもよく要はレーザビームをはし切りさえすればよ
い。
以上のように、この発明によればレーザ装置におけるア
パーチャ部材をレーザビーム吸収体で構成しかつレーザ
媒質側の開口部外周面に傾斜部を設け、この傾斜部の傾
斜角を、上記傾斜部で反射するレーザビームが光0bt
−hさんで対向する傾斜部へ入射吸収されるようにした
ので、アパーチャ部材の開口部ではし切りされるレーザ
ビームが光センサーに入射ぜず、光センサーは誤動作を
おこずことなく信頼性工くレーザビームの位置を検出で
きる効果がある。
パーチャ部材をレーザビーム吸収体で構成しかつレーザ
媒質側の開口部外周面に傾斜部を設け、この傾斜部の傾
斜角を、上記傾斜部で反射するレーザビームが光0bt
−hさんで対向する傾斜部へ入射吸収されるようにした
ので、アパーチャ部材の開口部ではし切りされるレーザ
ビームが光センサーに入射ぜず、光センサーは誤動作を
おこずことなく信頼性工くレーザビームの位置を検出で
きる効果がある。
第1図(atはこの発明の一実施例によるレーザ装置を
示す断面構成図、第1図(bl (clは各々この発明
の一実施例によるレーザ装置の主要部を示す部分正面図
及び断面側面図、第2図(a)及び第3図(a) (b
)は各々この発明の他の実施例によるレーザ装置′ヲ示
す断面構成図、第2■(b)(clは各々この発明の他
の実施例によるレーザ装置の主要部を示す部分正面図及
び断面at面図、第4図(a)は従来のレーザ装置を示
す断面構成図、並びに第4図(bl (clは各々従来
のレーザ装置の主要部を示す部分正面図及び断面側面図
である。 (1)・・・レーザ媒質 (21・・・全反射ミラー
(3)・・・部分反射ミラー (4)・・・アパーチャ
部材 +51 +61・・・レーザビーム (7)・・
・開口部 (8)・・・光センサ−@滲・・・傾斜部
(56)・・・反射レーザビーム なお1図中、同一符号は同−又は相当部分金示?− 笥 1 図 噴 1 ズ (+)) ’C)56二反吋レー
サ゛ヒ−こ 第2図 (b) (C) 第3図 ca) @ 3 図 Cb)
示す断面構成図、第1図(bl (clは各々この発明
の一実施例によるレーザ装置の主要部を示す部分正面図
及び断面側面図、第2図(a)及び第3図(a) (b
)は各々この発明の他の実施例によるレーザ装置′ヲ示
す断面構成図、第2■(b)(clは各々この発明の他
の実施例によるレーザ装置の主要部を示す部分正面図及
び断面at面図、第4図(a)は従来のレーザ装置を示
す断面構成図、並びに第4図(bl (clは各々従来
のレーザ装置の主要部を示す部分正面図及び断面側面図
である。 (1)・・・レーザ媒質 (21・・・全反射ミラー
(3)・・・部分反射ミラー (4)・・・アパーチャ
部材 +51 +61・・・レーザビーム (7)・・
・開口部 (8)・・・光センサ−@滲・・・傾斜部
(56)・・・反射レーザビーム なお1図中、同一符号は同−又は相当部分金示?− 笥 1 図 噴 1 ズ (+)) ’C)56二反吋レー
サ゛ヒ−こ 第2図 (b) (C) 第3図 ca) @ 3 図 Cb)
Claims (2)
- (1)レーザ媒質をはさんで対向して配置された共振器
ミラーこれらミラー間に発生するレーザビームの光路内
に配置され、上記レーザビームの光軸上に開口部を有す
るアパーチャ部材、及び上記アパーチャ部材の開口部外
周上に設けられた複数個の光センサーを備えたものにお
いて、上記アパーチャ部材はレーザビーム吸収体であり
、かつ上記レーザ媒質側の上記開口部外周面に傾斜部を
有し、上記傾斜部の傾斜角を、上記傾斜部で反射するレ
ーザビームが上記光軸をはさんで対向する傾斜部に入射
吸収されるようにしたことを特徴とするレーザ装置。 - (2)傾斜角は光軸に対し45°である特許請求の範囲
第1項記載のレーザ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61077678A JPS62234384A (ja) | 1986-04-04 | 1986-04-04 | レ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61077678A JPS62234384A (ja) | 1986-04-04 | 1986-04-04 | レ−ザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62234384A true JPS62234384A (ja) | 1987-10-14 |
Family
ID=13640546
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61077678A Pending JPS62234384A (ja) | 1986-04-04 | 1986-04-04 | レ−ザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62234384A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02284784A (ja) * | 1989-04-24 | 1990-11-22 | Amada Co Ltd | レーザ発振器 |
WO2000074183A1 (fr) * | 1999-06-01 | 2000-12-07 | Komatsu Ltd. | Dispositif laser ultraviolet |
JP2006253671A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Hitachi Via Mechanics Ltd | ビームドリフト補償装置及び方法 |
JP2008177608A (ja) * | 2008-04-07 | 2008-07-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 外部整形光学装置とスラブレーザとレーザ装置 |
JP2009022822A (ja) * | 2007-07-17 | 2009-02-05 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 塗布装置及び塗布方法 |
-
1986
- 1986-04-04 JP JP61077678A patent/JPS62234384A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02284784A (ja) * | 1989-04-24 | 1990-11-22 | Amada Co Ltd | レーザ発振器 |
US6785319B1 (en) | 1999-01-06 | 2004-08-31 | Komatsu Ltd. | Ultraviolet laser device |
WO2000074183A1 (fr) * | 1999-06-01 | 2000-12-07 | Komatsu Ltd. | Dispositif laser ultraviolet |
JP2006253671A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Hitachi Via Mechanics Ltd | ビームドリフト補償装置及び方法 |
JP2009022822A (ja) * | 2007-07-17 | 2009-02-05 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 塗布装置及び塗布方法 |
JP2008177608A (ja) * | 2008-04-07 | 2008-07-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 外部整形光学装置とスラブレーザとレーザ装置 |
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