JPS61254346A - レ−ザマ−キング装置 - Google Patents
レ−ザマ−キング装置Info
- Publication number
- JPS61254346A JPS61254346A JP9730285A JP9730285A JPS61254346A JP S61254346 A JPS61254346 A JP S61254346A JP 9730285 A JP9730285 A JP 9730285A JP 9730285 A JP9730285 A JP 9730285A JP S61254346 A JPS61254346 A JP S61254346A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- masking plate
- total reflection
- reflection mirror
- mask plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、レーザマーキング装置の改良に関する。
従来、レーザマーキング装置は第３図に示すように構成
され、レーザ発振器１、全反射ミラー３．マスク板４、
レンズ６が順次所定間隔で配設されてなっている。動作
時には、レーザ発振器１よ）出射されたレーザ光２は全
反射ミラー３にて反射伝送され、文字などがくシぬかれ
ている薄いマスク板４を通過する。そして、ぐシねかれ
た文字などの像はレンズ６にて被加工物７上に結像し、
マスク板４にくシねかれた文字などがマーキングされる
。
され、レーザ発振器１、全反射ミラー３．マスク板４、
レンズ６が順次所定間隔で配設されてなっている。動作
時には、レーザ発振器１よ）出射されたレーザ光２は全
反射ミラー３にて反射伝送され、文字などがくシぬかれ
ている薄いマスク板４を通過する。そして、ぐシねかれ
た文字などの像はレンズ６にて被加工物７上に結像し、
マスク板４にくシねかれた文字などがマーキングされる
。
ところが、上記のような従来のレーザマーキング装置で
は、マスク板４に〈夛ぬかれている文字などの面積は１
、レーザ光２のビームエリア５の面積に比べて小さいの
で、レーザ光２の多くはマスク板４により反射され、そ
のエネルギーはマーキングに寄与しない。つｔｂ、レー
ザ光２のエネルギーの多くは捨てられてしまうため、マ
ーキングするのに必要以上の多くのレーザ光のエネルギ
ーを必要とする。
は、マスク板４に〈夛ぬかれている文字などの面積は１
、レーザ光２のビームエリア５の面積に比べて小さいの
で、レーザ光２の多くはマスク板４により反射され、そ
のエネルギーはマーキングに寄与しない。つｔｂ、レー
ザ光２のエネルギーの多くは捨てられてしまうため、マ
ーキングするのに必要以上の多くのレーザ光のエネルギ
ーを必要とする。
この発明の目的は、レーザ発振器から出射された１発の
レーザ光を複数回マーキングに寄与させる光学系を設け
、マーキングの効率を著しく向上したレーザマーキング
装置を提供することでおる。
レーザ光を複数回マーキングに寄与させる光学系を設け
、マーキングの効率を著しく向上したレーザマーキング
装置を提供することでおる。
この発明は、レーザ発振器から出射された１発のレーザ
光を、全反射ミラーによ）被加工物上のマーキング部に
複数回照射させるようにしたレーザマーキング装置であ
る。
光を、全反射ミラーによ）被加工物上のマーキング部に
複数回照射させるようにしたレーザマーキング装置であ
る。
この発明のレーザマーキング装置は第１図に示すように
構成され、従来例と同一箇所には同一符号を付すことに
する。
構成され、従来例と同一箇所には同一符号を付すことに
する。
即ち、レーザ発振器１から出射されるレーザ光２の光軸
上に、全反射ミラー３が上記光軸に対し４５度傾斜して
配設されている。更に上記光軸と直角な光軸上に上記全
反射ミラー３と所定間隔を置いて、文字などが〈シぬか
れている薄いマスク板４、レンズ６、被加工物７が順次
配役されている。この場合、上記マスク板４は光軸に対
し僅かに傾けて配置され、この傾いたマスク板４に垂直
に、平面又は凹面の全反射ミラー８が配置されている。
上に、全反射ミラー３が上記光軸に対し４５度傾斜して
配設されている。更に上記光軸と直角な光軸上に上記全
反射ミラー３と所定間隔を置いて、文字などが〈シぬか
れている薄いマスク板４、レンズ６、被加工物７が順次
配役されている。この場合、上記マスク板４は光軸に対
し僅かに傾けて配置され、この傾いたマスク板４に垂直
に、平面又は凹面の全反射ミラー８が配置されている。
そして動作時には、レーザ発振器１から出射されたレー
ザ光２は全反射ミラー３にて反射伝送されて光軸を変え
、マスク板４に照射される。
ザ光２は全反射ミラー３にて反射伝送されて光軸を変え
、マスク板４に照射される。
このマスク板４に照射されたレーザ光２のうちマスク板
４を通過したものは、被加工物７上に１ 度？−キング
され、更にマスク板４で反射したレーザ光２は全反射ミ
ラー８ＶＣて１度目と同じマスク板４の位置又は異なる
位置に照射され。
４を通過したものは、被加工物７上に１ 度？−キング
され、更にマスク板４で反射したレーザ光２は全反射ミ
ラー８ＶＣて１度目と同じマスク板４の位置又は異なる
位置に照射され。
レン、ｅ６により被加工物７上に結偉し、再度マーキン
グされる。
グされる。
第２図はこの発明の変形例を示したもので、上記実施例
と同様効果が得られる。即ち、この変形例では、上記実
施例のようにマスク板４は傾けないで光軸に直交するよ
うに配置され、更に全反射ミラー３とこのマスク板４と
の間にシリンドリカルレンズ又は集光レンズ９と凹面型
全反射ミラー１θが配設されている。この場合、凹面捜
全反射ミラー１０はスリット又は小さい透孔１０ａを有
しておシ、レーザ光２が上記集光レンズ９にて一方向又
は１点に集光させられる位置に設けられている。尚、こ
の変形例では上記実施例で用いた全反射ミラー８は使用
していない。
と同様効果が得られる。即ち、この変形例では、上記実
施例のようにマスク板４は傾けないで光軸に直交するよ
うに配置され、更に全反射ミラー３とこのマスク板４と
の間にシリンドリカルレンズ又は集光レンズ９と凹面型
全反射ミラー１θが配設されている。この場合、凹面捜
全反射ミラー１０はスリット又は小さい透孔１０ａを有
しておシ、レーザ光２が上記集光レンズ９にて一方向又
は１点に集光させられる位置に設けられている。尚、こ
の変形例では上記実施例で用いた全反射ミラー８は使用
していない。
動作時には、レーザ発振器１から出射されたＶ−デ光２
は全反射ミラー３にて反射伝送されて光軸を変え、集光
レンｆ９で集光されてスリット又は小さな透孔１０＆を
通シ凹面型全射ミラー１０に入射する。そして、この凹
面凰全反射ミラー１０で一旦絞られたレーザ光２は再び
広がシ、ビームエリア５の大きさになってマスク板４に
照射され、〈）ぬかれた文字部のみマスク板４を通過し
、更にレンズ６にて被加工物７上に結像し、マーキング
される。一方、マスク板４にて反射したレーザ光は、凹
面型全反射ミラー１０にて再びマスク板４に照射され、
上記の過程を再び繰返すことになシ、何度も（複数回）
被加工物７上にレーザ光が結像し、マーキングされるこ
とになる。
は全反射ミラー３にて反射伝送されて光軸を変え、集光
レンｆ９で集光されてスリット又は小さな透孔１０＆を
通シ凹面型全射ミラー１０に入射する。そして、この凹
面凰全反射ミラー１０で一旦絞られたレーザ光２は再び
広がシ、ビームエリア５の大きさになってマスク板４に
照射され、〈）ぬかれた文字部のみマスク板４を通過し
、更にレンズ６にて被加工物７上に結像し、マーキング
される。一方、マスク板４にて反射したレーザ光は、凹
面型全反射ミラー１０にて再びマスク板４に照射され、
上記の過程を再び繰返すことになシ、何度も（複数回）
被加工物７上にレーザ光が結像し、マーキングされるこ
とになる。
この発明によれば、レーザ発振器１から出射された１発
のレーザ光を少なくとも２度マスク板４に照射すること
が出来る。つ２ｐ、１発のレーザ光で少なくとも２度マ
ーキングすることが出来るので、従来と同″じレーザ光
のエネルギーで従来よシ広い面積をマーキングすること
が出来る。又、従来と同じレーザ光のエネルギーにて、
従来と同じマーキングエリアをマーキングした時、従来
より深いマーキングをすることが出来る。
のレーザ光を少なくとも２度マスク板４に照射すること
が出来る。つ２ｐ、１発のレーザ光で少なくとも２度マ
ーキングすることが出来るので、従来と同″じレーザ光
のエネルギーで従来よシ広い面積をマーキングすること
が出来る。又、従来と同じレーザ光のエネルギーにて、
従来と同じマーキングエリアをマーキングした時、従来
より深いマーキングをすることが出来る。
第１図はこの発明の一実施例に係るレーザマーキング装
置を示す概略構成図、第２図はこの発明の変形例を示す
概略構成図、第３図は従来のレーーマーキング装置を示
す概略構成図である。 １・・・レーザ発振器、２・・・レーザ光、３・・・全
反射ミラー、４・・・マスク板、５・・・ビームエリア
、６・・・レンズ、７・・・被加工物、８・・・全反射
ミラー、９・・・集光レンズ、１０・・・凹面製全反射
ミラー、１０ａ・・・スリット又は小さな透孔。 出願人代理人 弁理士 鈴江 武 彦 第１図 第２図 第３図
置を示す概略構成図、第２図はこの発明の変形例を示す
概略構成図、第３図は従来のレーーマーキング装置を示
す概略構成図である。 １・・・レーザ発振器、２・・・レーザ光、３・・・全
反射ミラー、４・・・マスク板、５・・・ビームエリア
、６・・・レンズ、７・・・被加工物、８・・・全反射
ミラー、９・・・集光レンズ、１０・・・凹面製全反射
ミラー、１０ａ・・・スリット又は小さな透孔。 出願人代理人 弁理士 鈴江 武 彦 第１図 第２図 第３図
Claims (3)
- （１）レーザ発振器から出射されたレーザ光を少なくと
もマスク板を通して被加工物にマーキングするレーザマ
ーキング装置において、 上記レーザ発振器から出射された１発のレーザ光を、全
反射ミラーにより複数回、上記被加工物のマーキング部
に照射することを特徴としたレーザマーキング装置。 - （２）上記マスク板は光軸に対し僅か傾けて配置され、
このマスク板に垂直に上記全反射ミラーが配置されてい
る特許請求の範囲第１項記載のレーザマーキング装置。 - （３）上記全反射ミラーは、スリット又は小さな透孔を
有する凹面型全反射ミラーである特許請求の範囲第１項
記載のレーザマーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9730285A JPS61254346A (ja) | 1985-05-08 | 1985-05-08 | レ−ザマ−キング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9730285A JPS61254346A (ja) | 1985-05-08 | 1985-05-08 | レ−ザマ−キング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61254346A true JPS61254346A (ja) | 1986-11-12 |
Family
ID=14188690
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9730285A Pending JPS61254346A (ja) | 1985-05-08 | 1985-05-08 | レ−ザマ−キング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61254346A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006287129A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ照射装置、及びレーザ照射方法 |
-
1985
- 1985-05-08 JP JP9730285A patent/JPS61254346A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006287129A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ照射装置、及びレーザ照射方法 |
| JP4589788B2 (ja) * | 2005-04-04 | 2010-12-01 | 住友重機械工業株式会社 | レーザ照射方法 |
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