JPS62230640A - 光フアイバ用母材の製造方法 - Google Patents

光フアイバ用母材の製造方法

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JPS62230640A
JPS62230640A JP7479286A JP7479286A JPS62230640A JP S62230640 A JPS62230640 A JP S62230640A JP 7479286 A JP7479286 A JP 7479286A JP 7479286 A JP7479286 A JP 7479286A JP S62230640 A JPS62230640 A JP S62230640A
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JP
Japan
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gel
refractive index
preform
sol
sintered
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JP7479286A
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English (en)
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Kuniharu Yamada
邦晴 山田
Sadao Kanbe
貞男 神戸
Motoyuki Toki
元幸 土岐
Masatake Matsuo
誠剛 松尾
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/016Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by a liquid phase reaction process, e.g. through a gel phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/08Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
    • C03B2201/10Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with boron

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  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
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  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明tは、ゾルゲル法による元ファイバ用母材の製造
方法に関する。
〔従来の技術」 従来の光ファイバ用母材の製造方法は、一般に仄の峰な
方法がある。
■ MCVD法(同村は法) 石英管中に、四塩化ケイ素とドーパントの四塩化ゲルマ
ニウムと酸素ガスを送り込み、石英管の外部から、酸水
素炎で加熱すると、ドーバン)&含むシリカ微粒子が付
着する。その付lil→ごとにドーパント端役を連続的
に変化させ、屈折率分布を得る。
■ ovpo法(外付は法) 石英ガラスの心棒の表面に、火炎加水分解反応でシリカ
微粒子を形成し、その債心棒を除去して加熱溶融し、形
成1.ilごとに組成割りして屈折率分布を得る。
■ VAD法(気相軸付は法) 出発材の先端に、火炎中で生成したシリカ微粒子を堆積
して多孔質母材を形成し、電気炉中で透明母材とするも
ので、多孔質母材形成時に、母材の表面1ダ分布を利用
して屈折率分布?得る。
〔発明がm犬しようとする問題点J しかし前述の従来法では、製造速度が4く高コストであ
る。
屈折率外事を得る為に、原料a、4を及び酸水素炎の温
度を厳密にコントロールする必要があるが、制御が困難
である等の問題点を有する。
そこで本発明は、かかる問題点を解決するもので、その
目的とするところは、高精度な屈折率分布を有し、製造
速f式が速く、安価な元ファイバ用母材の輌遣方法を掃
供するところにある。
〔問題点な解決するための手段〕
本発明の尤ファイバ用母材の製造方法は、ケイ素のアル
コキシドを主原料とする、ゾルゲル法による光ファイバ
用母材の製造に2いて、該母材の屈折率を低下せしめる
元素を、予め添加した管状のドライゲル、又は焼結ゲル
を作製し、該′g状ゲルの内面をリーチングすることに
より、該屈折率低下元素を、?Jtf3せしめることl
#+eとする。
〔実IN!A例−1〕 以下、実施例に基づき本発明について、具体的に説明す
る。
市販のケイ酸エチル208?(1モル)、ホウ酸61f
(α5モル)に、1規定の塩酸ン180−添加し、充分
攪拌・混合を行ない加水分解してゾルとする。このゾル
をポリプロピレン製の円筒溶器(内径101φ、長さ1
00m+)に注入し、その中央部にポリプロピレン製の
棒(外径3電φ、長さ1oOm)をさし、この状態でゲ
ル化させる。
ゲル化後棒を引き抜き管状ゲルとし、50〜70℃の温
度で乾燥し、ドライゲル(外径6fiφ、内径1.8 
@@φ、長さ60禰)とする。
ドライゲルを30℃/Hの昇温速度で700cまで加熱
すると焼結ゲルが得られる。
該ドライゲル、又は焼結ゲルの内面に、水を入れ両端を
密栓してリーチングを行なう。
所定時間経過後、水中のケイ素及びホウ素イオン濃度を
、tcp発光分光分析装置を用いて、定型分析を行なう
第1図に、この時の経過時間とイオン濃度の相関を示す
。(焼結ゲル試料〕 ここでaはケイ素、bはホウ素を示す。
リーチングを5電閾行なったドライゲル、及びm結ゲル
を、室温で一昼夜(18時時間乾燥した後、電気炉に入
れ、室温から600℃まで50℃/Hの速度で昇温し、
塩素ガスを217Mの流量で流しながら2時間保持した
。続いて同様の昇温速度で900℃まで昇温し、酸素ガ
ス%−Q、5t/Mの流量で流しながら30分間保持し
た。更に、950℃まで同様に昇厖し、ヘリウムガスを
1L/Mの流量で流しながら30分間保持してガラス化
した。
82図に、この時の内壁から外壁へ至る各部の屈折率の
値を示す。(焼結ゲル試料) ここでCは内壁、dは外径を示す。
次にこのガラスを中実化して、線引きすると、グレーテ
ィントインデックス型の石英ファイバが得られ、伝送損
失はドライゲルからの試料が15dB/KW1、焼結ゲ
ルからの試料が20dB/−であった。
〔実施例−2〕 市販のケイ酸エチル208?(1モル)、ホウ酸エチル
73 f (α5モル)に、PHICLOの7ンモニア
水70ゴ、エチルアルコール400づを添加し、充分攪
拌・混合を行ない加水分解してゾルとする。
以下実施例1と同様にして、ドライゲル及び焼結ゲルな
作製し、同様のり−チング、ガラス化処理を行なった。
第5図に、リーチング経過時間とイオン濃度の相関を示
す。(ドライゲル試料) ここで拳はケイ素、fはホウ素を示す。
第4図に、内壁から外壁へ至る各部の屈折率のfl[を
示す。(ドライゲル試料) ここでgは内壁、hは外壁を示す。
次にこのガラスを中央化して1.S引きすると、グレー
ティントインデックス型の石英ファイバが得られ、伝送
損失はドライゲルからの試料が12d B / Km、
焼結ゲルからの試料が20dB/bであった。
〔実施例−3〕 市販のケイ酸エチル20.80 ? (10モル)、ホ
ウ酸エチル730F(5モル)に[LO2規定の塩酸1
800−を添加し、充分攪拌・混合を行ない加水分解す
る。
更に微粉末7リカ(Asrosil−OX50:アエロ
ジル社の表面150m’/lの商品名)を700f添加
し、再度攪拌・混合を行なう。
次にα1硯定のアンモニア水を滴下し、PHを4.0に
調整しゾルとする。
該ゾルhstを円筒状容器(内径50flφ、長さ20
00m)に注入し、その軸を中心として回転しながらゲ
ル化させ管状のゲル(外径50閣φ、内径20+sφ、
長さ2000−)とするう該管状ゲルを穴わきの容器に
入れ、60℃で乾燥し、ドライゲル(外径58■φ、内
径15.φ、長さ1500.)とする。
ドライゲルを電気炉に入れ、1000℃まで昇温し、1
0時間保持してm結ゲルとするう該ドライゲル、又は焼
結ゲルの内面に、水を入れ両端を密栓してリーチングを
行なう。
この時のり一チング経過時間とイオン一度の相関は、実
施例1の場合と同様の傾向であった。
リーチングを5時間行なう九焼結ゲルを、室温で一昼夜
(15時間)乾燥した後、40℃の乾燥器で2日間乾燥
し比。
次に″?lL気炉中にて、室温から400℃1で30C
/Hの速度で昇温し、2時間保持した後、更に同様の昇
温速度で1050℃まで件部し九。この間700℃〜1
000cの間は塩素ガスをI 17Mの流量で流し比。
更に1050℃で酸素ガスをα5t/Mの流量で流しな
がら1時間保持した。最後に同様の昇温速度で1400
℃まで昇温し、その間ヘリウムガスを117Mの流量で
流してガラス化した。
該ガラスの屈折率分布は実施例2の場合と殆んど同様で
あった。
次にこのガラスを中実化して線引きすると、グレーティ
ントインデックス型の石英ファイバが得られ伝送損失は
16dB/らであった。
〔実施例−4〕 市販のケイ酸エチル208f(1モル)、ヘキサフルオ
ロケイ酸1.44F((l01モル)に、1規定の埴r
IRを150I11を添加し、充分攪拌・混合を行ない
加水分解してゾルとする。
このゾルをポリプロピレン製の円筒容器(内径10、φ
、長さ100mm)に注入し、その中央部にポリプロピ
レン製の、俸く外径3Mφ、長さ100fl)Yさし、
この状態でゲル化させる。ゲル化後作を引き抜き管状ゲ
ルとし、60℃の温度で乾燥し、ドライゲル(外径5.
6層φ、内径1.6 、φ、長さ601)とする。
ドライゲルを30℃/Hの昇温速度で700℃まで刀口
熱すると焼結ゲルが得られる。
核ドライゲル、又は焼結ゲルの内面に水を入れ両端を密
栓してリーチングを行なう。
リーチングな5時間行なったドライゲル、及び焼債ゲル
?、富己で一昼夜(15時間)乾燥した鏝、電気炉に投
入し、室温から600℃まで30℃/Hの速度で昇温し
、塩素ガヌを2t/M流しながら2時間保持した。
続いて同様の祥thI速度で9QQcまで4温し、は素
ガスを0.5t/M流しながら50分間保持し、更に9
50・℃まで同様に昇温し、ヘリウムガスを117M流
したが50分間保持してガラス化した。
第5図に、この時の内壁から外壁へ至る各部の屈折率の
値を示す。
ここで五は内壁、」は外壁を示し、1はドライゲルから
の試料、2は焼結ゲルからの試料を示す。
次にこのガラスを中実化して諌引きすると、グレーティ
ントインデックス型の石英ファイバが得られ、伝送損失
はドライゲルからの試料が12dB/Km、焼結ゲルか
らの試料は16dB/KH1であった。
〔実施例−5〕 市販のケイ酸エチル2013F(1モル)、テトラフル
オロホウ酸アンモニウム52f(l15モル)に、PI
(1(10のアンモニア水70d、エチルアルコール5
00−を添加し、充分攪拌・混合を行ない加水分解して
ゾルとする。
以下実施例4と同様にして、ドライゲル及び焼結ゲルを
作寝し、同様のリーチング、ガラス比処理を行なった。
第6図に、この時の内壁から外壁へ至る各部の屈折率の
値を示す。
ここでKは内壁、tは外壁を示し、3はドライゲルから
の試料、4は焼結ゲルからの試料を示す。
次にこのガラスを中実化して線引きすると、グレーティ
ントインデックス型の石英ファイバが得られ、伝送損失
は、ドライゲルからの試料が10dB/Km、焼結ゲル
からの試料が15dB/−であつ之・ 〔発明の効果〕 以上述べ九ように本発明によれば、ケイ素のアルコキシ
ドを主原料とする、ゾルゲル法による光ファイバ用母材
の夷造に2いて、核母材の屈折率を低下せしめる元素を
予め添加し虎管状のドライゲル、又は焼結ゲルを作製し
、該管状ゲルの内面をリーチングすることで、該屈折率
低下元素を溶出せしめることにより、高精度な屈折製分
布ぞ有し、農道速度が速く、安酒な光ファイバ用量オの
製造が可能となる。
更に本発明の手法は、該光ファイバ用母材ばかりでなく
、セル7才ツクレンズ等各種の光学部品にも適用可能で
るるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1喫は本発明の実施例における、リーチング処理の経
過時間とイオン!1度の相関図。 92図は本発明の実施列における、ガラス内部の屈折率
分布図。 第5図は本発明の他の51!施例に2ける、リーチング
処理の経通時間とイオン濃度の相関図。 第4図は本発明の他の実施列に分ける、ガラス内部の屈
折率分布図。 傳5図は本発明の(に他の実施列1cおける、ガラス内
部の屈折率分布図。 第6図は本発明の更に別の実施例に2ける、ガラス内部
の屈折率分布図。 以上 出願人  セイコーエプソン株式会社 吟聞 、151図 第2図 第3図 第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ケイ素のアルコキシドを主原料とする、ゾルゲル法によ
    る光ファイバ用母材の製造において、該母材の屈折率を
    低下せしめる元素を、予め添加した管状のドライゲル、
    又は焼結ゲルを作製し、該管状ゲルの内面をリーチング
    することにより、該屈折率低下元素を、溶出せしめるこ
    とを特徴とする光ファイバ用母材の製造方法。
JP7479286A 1986-04-01 1986-04-01 光フアイバ用母材の製造方法 Pending JPS62230640A (ja)

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