JPS62230202A

JPS62230202A - スパイラルアンテナの製造方法

Info

Publication number: JPS62230202A
Application number: JP7289686A
Authority: JP
Inventors: Mineo Maruoka; 丸岡　峰男
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1986-03-31
Filing date: 1986-03-31
Publication date: 1987-10-08

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［発明の目的］（産業上の利用分野）この発明は例えば船舶及び航空機等に搭載されて広帯域
（８Ｇ　Ｈｚ〜１８ＧＩｈ）の走査に用いられるスパイ
ラルアンテナの製造方法に関する。

（従来の技術）従来、この種のスパイラルアンテナは、第２図に示すよ
うに例えばＰＰＯ樹脂またはＡＢＳ樹脂等で誘電体１の
所定の位置に対して銅箔及び金メッキを施した帯等のう
ず巻状の導体２を接着剤３（第３図参照）を用いて巻付
けることにより製造されている。

ところが、上記のような製造方法では、その誘電体１に
対して例えば厚さ９０βＬ程度の導体２を接着剤３を用
いて巻付けて形成するので、導体２の空間位置が一定せ
ず、第３図に示すように導体２と誘電体１の間隙が不揃
いとなって二層の誘電体（誘電体１と接着剤３）が存在
することとなり、Ｑ値が低下するという問題を有してい
た。これによれば、Ｑ値の補正を設計上において、電気
的に行なわなければならないので、その解析が非常に面
倒なものとなり、製作が非常に煩雑なものとなっていた
。

また、これによれば、導体２が底部から頂点方向にパタ
ーンが狭くなるとともに、２本のうず巻ラインを形成す
ることとなるので、導体２と誘電体１とに位置ずれが生
じ易い。これは、特に高い周波数（Ｋｕバンド）及び広
帯域になればなるほど、位置ずれが大きくなり問題とな
る。

さらに、上記製造方法では、導体２をレーザ加工及びワ
イヤーカットでうず巻状にパターンニングしなければな
らないことで、その作業が非常に面倒であると共に、導
体２を所望の膜厚（５ｍ）に形成するのが国難であると
いう問題も有していた。

（発明が解決しようとする問題点）この発明は上記のＱ値が低く広帯域に好適しない点とパ
ターンニング作業が面倒である点を解決するためになさ
れたもので、製作性の向上を実現し得と共に、製作精度
の向上を図り得るスパイラルアンテナの製造方法を提供
することを目的とする。

［発明の構成］（問題点を解決するための手段及び作用）この発明は誘
電体を形成して化学メッキ層を形成する第１の工程と、
この第１の工程後、前記誘電体を回転駆動して前記化学
メッキ層上にうず巻パターンを形成する第２の工程と、
この第２の工程後、前記誘電体上に化学メッキ層及び電
気メッキ層を順に形成する第３の工程と、この第３の工
程後、前記誘電体を回転駆動しながらそのメッキ層上に
前記うず巻きパターンに対応してうず巻パターンを形成
する第４の工程と、この第４の工程後、前記誘電体に金
メッキ層を形成する第５の工程とを備えることにより、
前記誘電体に対して高精度で、しかも、剥離のおそれの
ない前記うず巻パターンを形成するものである。

（実施例）以下、この発明の一実施例に係るスパイラルアンテナの
製造方法について、第１図を参照して詳細に説明する。

すなわち、第１の工程では、先ず第１図（ａ）に示すよ
うに例えばＰＰＯ樹脂またはＡＢＳ樹脂等を成形加工し
て例えば円錐状の誘電体１０が形成されて、その表面に
化学メッキ１１により例えば銅メッキ層１１ａ（同図（
ｄ）参照）が形成される。そして、第２の工程では、同
図（ｂ）に示すようにその誘電体１０に対して例えば厚
さ７０−のポリエステルフィルム等の印刷配線用フィル
ムで所定の形状に形成した露光用マスク１２を例えば瞬
間接着剤を用いて接着した後、誘電体１０を回転駆動部
１３に装着して回転駆動させながら立体的に感光させて
うず巻パターン１４が形成される。次に、第３の工程で
は、同図（Ｃ）に示すように電気メッキ１５を施して例
えばニッケルメッキ層１５ａが形成された後、化学メッ
キ１６を施して例えば銅メッキ層１６ａが形成される。

そして、このニッケルメッキ層１５ａ及び銅メッキ層１
６ａが形成された誘電体１０は第４の工程で、再び上記
マスク１２がかぶされて回転駆動部１３に装着された後
、回転駆動されながら上述した第３の工程で形成された
うず巻パターン１４に対応して銅メッキ層１６ａ上にう
ず巻パターン１４が形成される。この第４の工程後、第
５の工程では電気メッキ１７でニッケル層１７ａが形成
された後、例えばパルスメッキ等の電気メッキ１８が施
されて、さらに金メッキ層１８ａが形成され、ここに同
図（ｄ）に示すように各メッキ層１１ａ。

１５ａ、１６ａ、１７ａ、１８ａが順に形成されて製作
工程を完了する。この場合、上記誘電体１８はその表面
にパルスメッキで金メッキ層１８ａを形成すると、特に
表面粒界が小さなマイクロ波特性を有することで、顕著
な効果を期待できるが、その他の電気メッキにより金メ
ッキ層を形成することも可能である。

このように、゛上記スパイラルアンテナの製造装置はう
ず巻パターン１４を立体的に形成すると共に、このうず
巻パターン１４上にニッケルメッキ層１５ａ及び銅メッ
キ層１６ａを順に形成した後、再びうず巻パターン１４
を形成して最後に金メッキ層１８ａを形成するように構
成したので、簡易な作業で、うず巻パターン１４の高精
度な製作が可能となることで、特に、精度の要求される
広帯６一域においても好適するものである。また、これによれば
、各メッキ層１５ａ、１６ａ、１７ａ。

１８ａにより錆び等の進入が確実に阻止されることで、
耐食性が優れ、しかも、ニッケルメッキ層１５８．１７
ａに生じる電気メッキによる引張り応力と銅メッキ層１
６ａに生じる化学メッキによる圧縮応力により、うず巻
パターン１４のふくれや剥離が確実に防止されるので、
熱衝撃性が極めて良好となる。これは、特に−４０’〜
＋９０″において、顕著な効果が確認される。

なお、上記実施例では、電気メッキ１５．１７でニッケ
ルメッキ層１５ａ、１７ａ及び化学メッキ１１．１６で
銅メッキ層１１８．１６ａを形成した場合で説明したが
、この発明はこれに限ることなく、適用可能なものであ
る。

［発明の効果］以上詳述したように、この発明によれば、製作性の向上
を実現し得と共に、製作精度の向上を図り得るスパイラ
ルアンテナの製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例に係るスパイラルアンテナ
の製造方法を示す工程説明図、第２図及び第３図はそれ
ぞれ従来のスパイラルアンテナの製造方法を説明するた
めに示した構成説明図である。１０・・・誘電体、１１・・・化学メッキ、１１ａ・・
・銅メッキ層、１２・・・マスク、１３・・・回転駆動
部、１４・・・うず巻パターン、１５・・・電気メッキ
、１５ａ・・・ニッケルメッキ層、１６・・・化学メッ
キ、１６ａ・・・銅メッキ層、１７・・・電気メッキ、
１７ａ・・・ニッケルメッキ層、１８・・・電気メッキ
、１８ａ・・・金メッキ層。

Claims

【特許請求の範囲】

誘電体を形成して化学メッキ層を形成する第１の工程と
、この第１の工程後、前記誘電体を回転駆動して前記化
学メッキ層上にうず巻パターンを形成する第２の工程と
、この第２の工程後、前記誘電体上に化学メッキ層及び
電気メッキ層を順に形成する第３の工程と、この第３の
工程後、前記誘電体を回転駆動しながらそのメッキ層上
に前記うず巻きパターンに対応してうず巻パターンを形
成する第４の工程と、この第４の工程後、前記誘電体に
金メッキ層を形成する第５の工程とを具備したことを特
徴とするスパイラルアンテナの製造装置。