JPS62227158A - 特定の下引層を有する電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは感度、暗減衰
特性、電荷受容性、緑返し特性等の諸特性において優れ
た電子写真感光体に関する。

［５！明の背景］ 従来、電子写真感光体に用いられる感光層には、　Ｓｅ
、　ＣｄＳ　、　ＺｎＯ等の無機系の光導電性物質が広
く用いられている。一方、近年この無機光導電性物質の
かわりに有機系の光導電性物質を用いる研究が盛んに行
われている。かかる有機系の光導電性物質は無機系のも
のと比べて、感光層が柔軟性に富み、製造が容易てあり
、より安価で電子写真特性の安定した感光体が得られる
等の利点があり、近年数多くの提案かなされている。中
でも感光層を電荷発生層と電荷輸送層に機能分離したタ
イプの感光体は、高感度であり、機能に合せて多様に材
料を選択できることなどから実用化されてきている。

しかるに、かかるＩａ能分子１ｌｆｆｉの感光体は、通
常導電性基体に電荷発生層と電荷輸送層が順に塗布形成
されており、入射光量の大部分が電荷発生層で吸収され
てキャリアを生成し、さらに発生したキャリアを再結合
や捕獲により失活することなく電荷輸送層に注入される
ように構成されている。

一方、感光層の電気的特性の劣化防止、導電性基体から
感光層への電荷の注入の防止等の目的て、導電性基体と
感光層の間に下引層を設けることか検討されてきた。

この下引層に用いる樹脂としては、ニトロセルロース樹
脂（特開昭４８−３５４４号公報参照）ポリビニルブチ
ラール樹脂（特開昭５０−２８８３７号、同５９−３６
２５８号公報参照）、ポリビニルアルコール樹脂（特開
昭５２−１００２４０公報参照）、アルコール系溶剤に
可溶なナイロン樹脂（特開昭５２−２５６３８号公報参
照）、ポリビニルホルマール樹脂（特開昭５７−９０６
３９号公報参照）、水溶性ポリビニルブチラール樹脂（
特開昭５８−１０６５４９号公報参照）、ポリビニルブ
チラール樹脂とフェノール樹脂のブレンド（特開昭５９
−３６２５９号公報参照）等が知られており、またポリ
ビニルメチルエーテル、ポリビニルイミダゾール、ポリ
エチレンオキシド、ポリウレタン、ポリアミド、メラミ
ン、ポリビニルピロリドン、セルロースエステル、カゼ
イン、ゼラチン等の樹脂も知られている。

しかるに、下引層を設けた場合、一般には感光層の光導
電性の低下かひきおこされるために、電子写真感光体の
感度の犠牲を余儀なくされる。

また近年機能分離型感光体が検討され、高感度化が達成
されるに従い、下引層の特性及び下引層の膜厚変化が感
光体特性に一層鋭敏に反映されるようになってきたため
、感度の低下を引き起すことなく、暗減衰特性、電荷受
容性及び耐久性等の品持性を向上させる下引層、また膜
厚の許容巾の広い下引層の開発の要請が一層強くなって
きている。

そこで本発明は、■感度が良好で、暗減衰特性に優れ、
電荷受容性のよい電子写真感光体を得ること、■繰返し
特性に優れ、繰返し、帯電・露光・除電な行っても、受
容電位、残留電位、感度特性が安定した電子写真感光体
を得ることを目的とする。

［問題点を解決するための手段］ 上記目的を達成する本発明の電子写真感光体は、導電性
基体上に下引層と感光層を有する電子写真感光体におい
て、該下引層がヒドロキシスチレン重合体もしくはヒド
ロキシスチレンをｔ金成分とする共重合体樹脂を主成分
とすることを特徴とする。

以下、本発明について詳細に説明する。

本発明の電子写真感光体は導電性基体上に下引層と感光
層が形成されたものである。

該感光体の好ましい層構成としては、下記（１）〜（４
）の層構成を挙げることができる。

（１）第１図に示すように、下層より、導電性基体１、
下引層２、電荷発生層３、電荷輸送層４の順に構成され
ているもの。

（２）第２図に示すように、下層より、導電性基体ｌ、
下引層２、電荷輸送層４、電荷発生層３の順に構成され
ているもの。

（３）第３図に示すように、下層より、導電性基体１、
下引層２．電荷発生物質と電荷輸送物質を含む電荷発生
層３Ａ、電荷輸送層４の順に構成されているもの。

（４）第４図に示すように、導電性基体ｌ上に。

電荷発生物質または電荷発生物質及び電荷輸送物が均一
に分散あるいは溶解している電荷発生層３のみが形成さ
れているもの。

また上記層構成において、各層の間に中間層を設けても
よく、最上層に表面保護層を形成したものであってもよ
い。

導電性基体としては、アルミニウム、黄銅、ステンレス
等の金属をドラム状に成型するか、シート状のフィルム
や箔にして用いられ、さらにポリエチレンテレフタレー
ト、ナイロン、ポリアリ−レート、ポリイミド、ポリカ
ーボネート等の高分子材料、硬質紙等の絶縁性材料をド
ラム状に成型したものやシート状のフィルムに導電処理
して用いられる。導電処理をする方法としては、導電性
物質の含浸、金属箔（例えばアルミ箔）のラミネート、
金属（例えばアルミニウム、インジウム、酸化スズ、イ
ツトリウム等）の蒸着、導電加工等の方法がある。

下引層はヒドロキシスチレン重合体もしくはヒドロキシ
スチレンを重合成分とする共重合体樹脂を主成分とする
層である。

本発明におけるヒドロキシスチレン重合体及びヒドロキ
シスチレンを重合成分とする共重合体とは、水酸基を有
するスチレンモノマ一単位を有する樹脂であり、水酸基
の他にアルキル基、ハロゲン原子等の置換基を有してい
てもよい、一般的にはヒドロキシスチレン或は置換基を
有するヒドロキシスチレン単独でもしくはスチレン、ア
クリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニ
トリル、エチレン、プロピレン、酢酸ビニル、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン等の任意の重合性モノマーと一緒に
熱重合、ラジカル重合、或はイオン重合させることによ
って、得ることができる。

本発明の下引層は、上記の樹脂を溶剤に溶解し、導電性
基体上に塗布することにより所定の膜厚に形成される。

ここに溶剤としては、テトラヒドロフラン、メタノール
、エタノール、ブタノール、アセトン、酢酸エチル、ジ
オキサン等が好ましく用いられ、さらにケトン系溶剤と
アルコール系溶剤、エーテル系溶剤とケトン系溶剤、芳
香族系溶剤とアルコール系溶剤の組合せ等が好ましく用
いられる。塗布法としては、導電性基体がドラム状であ
る場合には、浸漬法、スプレー法、押出又はスライドホ
ッパー法等が好ましく、また導電性基体がシート状であ
る場合には、ロール法、押出又はスライドホッパー法等
が好ましく採用される。上記のようにして形成された下
引層の膜厚は、０．０１〜１０ｇｍ　Ｏ）ａ囲が好まし
く、０．０５〜２ｐｍの範囲がより好ましい。

なお下引層には本発明の効果を損なわない範囲でヒドロ
キシスチレン重合体以外の樹脂やカーボン、酸化チタン
、酸化マグネシウム、アルミニウム、コロイダルシリカ
等の微粉末を含んでもよい、ヒドロキシスチレン重合体
以外の樹脂としては、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ウレ
タン樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、アルキ
ド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラミ
ン樹脂、ポリビニルホルマール樹脂。

ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂
、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル−無水マレイン酸共重合体。

塩化ビニリデン−７クリロニトリル共重合体、スチレン
−ブタジェン共重合体等の高分子材料、エチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース等のセルロース類等が
挙げられ、それぞれ単独あるいは二種以上組合わせて用
いることができる。

上記樹脂及び微粉末の含有量は、下引用樹脂に対し７０
重量％以下が好ましい。

又、上記の樹脂層は接着性や機械的強度を向上させる目
的で、■インシアネート化合物、エポキシ化合物等の硬
化剤を含有させて、硬化させる方法、■シラン系のカッ
プリング剤、チタン系のカップリング剤等で導電性基体
表面を処理する方法、或は■これらのカップリング剤を
樹脂層中に含有させる方法等によって処理してもよい。

このような処理に有用な硬化剤としては１例えばヘキサ
メチレンテトラミン、ホルムアルデヒド、パラホルムア
ルデヒド、フェニレンジイソシアネート、トリレンジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ナフ
タレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシア
ネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、ビス
フェノールＡ型ジグリシジルエーテル、レゾルシン型ジ
グリシジルエーテル、ビスフェノールＦｙ！１ジグリシ
ジルエーテル、ポリアルキレングリコール型ジグリシジ
ルエーテル、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等
が挙げられ、又、シラン系のカップリング剤としては、
β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロビルトリメトキシ
シラン、γ−７ミノプロビルトリエトキシシラン、Ｎ−
β−（アミノエチル）−γ−７ミノプロビルトリメトキ
シシラン、Ｎ−β−（アミンエチル）−γ−７ミノプロ
ビルメチルジメトキシシラン等が挙げられ、チタン系の
カップリング剤としては、テトライソプロポキシチタン
、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトライソグロポキシ
チタンポリマー、テトラ−ｎ−ブトキシチタンポリマー
、トリーｎ−ブトキシチタンステアレート、ジイソプロ
ポキシチタンビスアセチルアセトナート、ジヒドロキシ
ビスラフタ−トチタン等が挙げらる。

本発明において上記下引層の上には、感光層が形成され
る。感光層は、電荷発生層と電荷輸送層に機能分離した
層であってもよく、さらにこの上に表面保護層が形成さ
れていてもよい。

電荷発生層に用いられる電荷発生物質としては、グアイ
アズレン系顔料（例えば特開昭５９−５３８５０号）、
ペリレン系顔料（例えば同５９−２４８５２号、同４７
−３０３３０号）、フタロシアニン系顔料（例えば同５
３−９５３８号、同５９−９５３７号）、ピリリウム系
顔料（例えば同５３−４０５３１号）、キナクリドン系
顔料（例えば同４？−３０３３２号）、インジゴ系顔料
（例えば同４？−３０３３１号）、シアニン系顔料（例
えば同５４−２１３４３号）、アゾ系顔料（例えば同５
８−１９４０３５号、同５８−１１５４４７号、同５９
−７２３７５７号、同５９−７２３７８号、同５９−７
３８２０号）の物質が挙げられ、特にアゾ系顔料、フタ
ロシアニン系顔料が好ましく用いられ、そのなかでもア
ゾ系顔料がより好ましく用いられる。

本発明に用いられるアゾ顔料としては、下記のものが挙
げられる。

（１）特開昭５４−２１７２８号公報に記載のジベンゾ
チオフェン骨格を有するアゾ顔料 （２）特開昭５４−１２７２４号公報に記載のオキサジ
アゾール骨格を有するアゾ顔料 （３）特開昭５４−２２１１１３４号公報に記載のフル
オレノン骨格を有するアゾ顔料 （４）特開昭５４−２０７３７号公報に記載のスチルベ
ン骨格を有するアゾ顔料 （５）特開昭５４−２１２９号公報に記載のジスチリル
オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料 （８）特開昭５７−１３Ｈ４Ｂ号公報に記載のアントラ
キノン骨格を有するアゾ顔料 （７）特開昭５７−１８２７４７号公報に記載のスチル
ベン骨格を有するアゾ顔料 （８）特開昭５７−１８２７４８号公報に記載のＡ−Ｎ
＝Ｎ−Ａｒｌ　　Ｎ＝Ｎ　　Ａｒ２−Ｎ＝Ｎ　　Ａ（９
）特開昭５８−７０２３２号公報に記載のスチリルスチ
ルベン骨格を有するアゾ顔料 （１０）特開昭５８−１９４０３５号公報に記載の（１
１）特開昭５８−１７３７４８号公報に記載の（１２）
特開昭５１１−１１５４４７号公報に記載のシアノスチ
ルベン骨格を有するアゾ顔料 （１３）特開昭５９−７２３７５７．同５９−７２３７
８　、同５８−７３８２０号公報に記載の （１４）特願昭５９−２２９７９３号記載の中でも好ま
しいのは、（１０）、　（１３）、（１４）のアゾ顔料
である。

また、好ましく用いられるフタロシアニン顔料としては
、下記に示すようなものがあげられる。

（１５）特公昭４５−１１０２１号、同４５−１２０１
３号、同４６−４２５１１号、同４Ｂ−４２５１２号、
特開昭８０−１１８４７号公報に記載の無金属フタロシ
アニン顔料。

（ＩＢ）特公昭４Ｂ−４２５１２号、特開昭５０−３８
５４３号、同５１−８７３１号、同５２−１４１２２９
号、同５２−１４３８２７号、特願昭５３−１３３２８
４号、特開昭５７−１４８７４５号、同５３−４４０５
４、同５１１−４４０５３号公報に各々記載の金属フタ
ロシアニン顔料。

電荷発生層は、電荷発生物質をバインダーに分散したり
、溶剤に溶解して導電性基体上に塗布形成されることが
好ましい、ここに分散手段は、サンドミル、ボールミル
等の方法を用いることができる。

電荷発生物質の含有量は、バインダー１００重量部に対
し、１０〜４００　ｆｉｆｉ部が好ましく、より好まし
くは５０〜２０Ｏｆｆ！量部である。

電荷輸送層は電荷輸送物質とバインダーとを適当な溶剤
に溶解して上記電荷発生層又は下引層上に塗布、形成さ
れる。

電荷輸送物質としては、トリアゾール誘導体（例えば特
公昭３４−５４８７号）、オキサゾール誘導体（例えば
同３５−１１２５号）、オキサジアゾール誘導体（例え
ば同３４−５４８８号）、ピラゾリン誘導体（例えば同
３４−１０３８８号）、イミダゾール誘導体（例えば同
３５−１１２１５号、同３７−１８０９８号）、フルオ
レノン誘導体（特開昭５２−１２８３７３号、同５４−
１１０８３７号）、カルバゾール誘導体（例えば同５４
−５９１４２号）更に同５８−１３４８４２号、同５１
１−８５４４０号等に記載の物質が挙げられる。

電荷輸送物質の含有量は、バインダー１００重量部に対
し、２５〜２００重量部が好ましく、より好ましくは５
０〜１００重量部である。

本発明の感光層に用いられるバインダー樹脂としては、
電荷発生物質あるいは電荷輸送物質との組合せで種々の
樹脂が使用できるが、一般にポリエステル、ポリエチレ
ン、ポリアミド、ポリカーボネート、エポキシ、ポリ−
Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリスチレン、ポリビニルブ
チラール、ポリメチルメタクリレート等の樹脂が用いら
れる。

本発明において感光層には、シリコンオイル、各種のア
ンモニウム化合物、増感剤等の添加剤を加えることがで
きる。なかでも低分子のアンモニウム塩化合物が好まし
い。

低分子アンモニウム塩の代表的なものとしては、下記（
イ）及び（ロ）が挙げられ、更にこれらの中でも具体的
には一般式Ｉならびに一般式■および一般式ｍが挙げら
れる。

（イ）（一般式１） 式中、Ｒ１は置換基を有してもよい非環状炭化水素基、
置換基を有してもよい環状炭化水素基を表わし、Ｒ２−
Ｒ４は各々水素原子、置換基を有してもよい非環状炭化
水素基、置換基を有してもよい環状炭化水素基を表わし
、ＸＱはアニオンを表わす。

置換基を有してもよい非環状炭化水素基としては、置換
基を有してもよい飽和又は不飽和非環状炭化水素基が挙
げられ、飽和非環状炭化水素基としてはアルキル基（特
に炭素数１〜２０のアルキル基）が挙げられ、不飽和非
環状炭化水素基としてはアルケニル基（特に炭素数２〜
２０のアルケニル基）、アルキニル基、アルカジェニル
基が挙げられる。これらの中でもアルキル基（特に炭素
数１〜２０のアルキル基）およびアルケニル基（特に炭
素数２〜２０のアルケニル基）が好ましく、特にアルキ
ル基（中でも炭素数１〜２０のアルキル基）が最も好ま
しい。

飽和非環状炭化水素基のアルキル基の例としては１例え
ばメチル基、エチル基、！Ｉ−プロピル基、１ｓｏ−プ
ロピル基、ｎ−ブチル基、１ｓｏ−ブチル基、ｔｅｒｔ
−メチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘ
プチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ド
デシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等が挙げら
れる。一方不飽和非環状炭化水素基のアルケニル基の例
としては１例えばビニル基、アリル基、３−メチル−２
−ブテニル基、インプロペニル基、２−ブチニル基等が
あり、アルキニル基の例としては、エチニル基、ブチニ
ル基等があり、またアルカジェニル基の例としては、例
えば１．３−ブタンジェニル基等が挙げられる。

これら飽和又は不飽和非環状炭化水素基の置換基の例と
しては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子ニジアノ
基：ヒドロキシ基；アシル基；メトキシ基、エトキシ基
等のフルコキシ基；フェニル基等の７リール基、フェノ
キシ基等の７リールオキシ基等が挙げられる。

置換基を有するアルキル基としては、例えば、ベンジル
基、フェネチル基、トリチル基、ジフェニルメチル基、
ヒドロキシエチル基、メトキシエチル基、シアノエチル
基、アセトキシエチル基。

アセチルエチル基、クロロメチル基等があり、前記置換
基を有するアルケニル基としては、例えばスチリル基、
シンナミル基等がある。

また、置換基を有してもよい環状炭化水素基としては、
各々置換基を有してもよい単環炭化水素基（例えば炭素
数３〜１２の単環炭化水素基）、有橋炭化水素基（例え
ば炭素数６〜１８の有橋炭化水素基）、縮合多環炭化水
素基（例えば炭素数７〜１８の縮合多環炭化水素基）が
ある。

単環炭化水素基の例としては、シクロアルキル基５単環
の芳香族基等が挙げられ、シクロアルキル基の例として
は、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙
げられ、単環の芳香族基としては、フェニル基が挙げら
れ、その他シクロドデ力トリエニル基等がある。また、
有橋炭化水素基の例としては１例えばジシクロペンタジ
ェニル基、／ルポルニル基、アダマンチル基等がある。

さらに、縮合多環炭化水素基の例としては、例えばナフ
チル基、アントリル基、アニオントリル基、インデニル
基等がある。

これら環状炭化水素基の置換基の例としては、フッ素、
塩素、臭素等のハロゲン原子；メチル。

エチル等のアルキル基；シアノ基ニアシル基：二トロ基
：水酸基：メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ２！
ｉ：フェノ午シ基等のアリールオキシ基等が挙げられる
。

これら置換基を有する単環炭化水素基としては１例えば
トリル基、キシリル基、クメニル基、メトキシフェニル
基、メシチル基等がある。

また、Ｘ−で表されるアニオンの例としては、フッ素、
塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン陰イオン；四フッ化ホウ
素イオン、六フッ化リンイオン、炭酸イオン、硫酸イオ
ン、リン酸イオン、硝酸イオン、過塩素酸イオン等の無
機酸陰イオン：水酸イオン等の無機陰イオン；酢酸イオ
ン、シュウ酸イオン、プロピオン酸イオン、安息香酸イ
オン等のカルボン酸イオン：ベンゼンスルホン酸等のス
ルホン酸イオン；メトキシイオン、エトキシイオン等の
フルコキシイオン等が挙げられる。なかでもハロゲン陰
イオン、無機酸陰イオンが好ましい。

（ロ）含四価窒素複素環化合物塩 含四価窒素複素環化合物は、三価窒素を含む複素環化合
物の三価窒素がイオン化されたもので、ヘテロ原子とし
て他に、イオウ、酸素、セレン、リン、ヒ素、ケイ素、
ゲルマニウム、ホウ素等を含んでいてもよい。

該含四価窒素複素環化合物塩の代表的な例は。

次の一般式■又は■で示される化合物がある。

（一般式■） （一般式■） 上式において、Ｒ５及びＲ６は水素原子、置換基を有し
てもよい非環状及び環状炭化水素基から選ばれる。置換
基を有してもよい非環状及び環状炭化水素基としては前
記Ｒ１で説明したものと同義であるａＲ７及びＲ８は窒
素原子と共同して含窒素複素環を形成するに必要な原子
群を表し、Ｒ９は前記Ｒ５と同義である。ＲＢ、Ｒｈ及
びＲ１２は窒素原子と共同して含窒素複素環を形成する
に必要な原子群を表す、ｘＯは前記ｘ（Ｅ）と同義の７
ニオンを表す。

該含四価窒素複素環化合物塩の母核の代表例としては次
の（Ａ）〜（Ｋ）に示すものが挙げられる。これらの母
核には必要に応じて置換基が導入されていてもよい。

以下余白 （Ｅ）　　　　　　　　　　　　　　　（Ｆ）（１）　
　　　　　　　　　　　　　　　（Ｊ）なお上式（Ｃ）
、（Ｅ）及び（Ｊ）において、ＸＯは１価の７ニオン、
Ｘ　２０は２価のアニオンを各々意味し、２　ｘｏ　Ｏ
ｒ　　Ｘ　７０士同式中の左側の構造式中に２ｘ○とｘ
２０のいずれか一方が付くことを意味する。

また、前記（Ｃ）において、異なる窒素原子と結合して
いる２つのＲ５は同じであっても異なってもよい、また
Ｒ６についても同様である。また（Ｅ）についても同様
である。更に（Ｊ）における異なる窒素原子と結合した
Ｒ９は同じであっても異なってもよい、さらにまた（Ａ
）〜（Ｋ）各々において、母核に導入される置換基の例
としては、前記一般式Ｉで記載した置換基と同じものを
挙げることができる。

一般式■、■、■またはＶで表されるアンモニウム塩化
合物の具体例としては、下記のものが挙げられる。

［例示化合物］ ｅ　　　　　ｅ （Ｌ　）　　（ＣＨｓ）ｒ　Ｎｔｔｌ　　ＣＱ（５）　
　（ｎ−Ｃ４Ｈａ）−ｒＮＨｔ　　ＣＱｅ （１１）　　　　ｎ−Ｃ４ＨＩ−ＮＨ３ＣＱ（１３）　
　　　ｎ−Ｃｈａｎｔｓ−ＮＨｓ　　　　ＣＱ（１４）
　　　　ｎ−ＣｔａＨ３ｔ−ＮＨａ　　　　ＣＱ（１６
）　　　　（ＣＪｓ＋Ｔ−ＮＨＣＱｅ　　　　　　　　
ｅ （１７）　　　　（ｎ−ＣＪｓテ「ＮＨＰｈｅ　　　　
　　　　　　ｅ （１８）　　　　（ｎ−ＣＪｔｔ）’ｒＮＨＣＱｅ　　
　　　　　　ｅ （１９）　　　　（ｎ−ｃ、■＊５−ＴｈＮＨＣＱΦ　
　　　　　　　　θ （２０）　　　　（ｎ−ＣＪｓテ＊　Ｎｕｔ　　　　Ｂ
Ｆ−ｅ　　　　　　　　　ｅ （２１）　　　　（ｎ　　Ｃａ■、すｒＮＨｚ　　　　
ＰＦ。

（３３ン　　　　　ｎ−Ｃｍ■ｔｔＮ　＋ＣＨｓ）、　
　　　　　ＣＱ（４Ｇ）　　　（Ｃ＋ａ［１ｓｔｂＮ　
＋　ＣＨ３）ｔ　　　ＢｒＣＨ，Ｃｔ［。

上記低分子アンモニウム塩化合物は、例えばオーガニッ
ク　シンセシス　コレクティブ　ボリュウム（Ｏｒｇ、
Ｓｙｎ、ＣｏＭ　、　ＶｏＪｌ　、）４　巻ｐ、８４．
同（１ｂｉｄ）　４巻ｐ、９６等の文献に記載された方
法で合成することができ、また一般的な合成法によって
も得ることができる。該一般的な合成法としては、アミ
ノ化合物の適当な溶液（例えばアセトン、アルコール）
に塩酸ガス、塩酸、硫酸、硝酸、ホウフッ化水素酸、六
フッ化燐酸、過塩素酸、燐酸、炭酸、酢酸等のカルボン
酸、ベンゾスルフォン酸等のスルフォン酸を加えること
で。

容易に合成することができる。また市販品としては、東
京化成工業社製、関東化学社製、和光紬薬工業社製が挙
げられる。

上記低分子アンモニウム塩化合物は、電荷発生層、電荷
輸送層のいずれの層に含有させても好ましいが、特に好
ましくは電荷発生層である。

上記低分子アンモニウム塩化合物の添加量は電荷発生物
質１００重量部に対し０．１重量部以上５０重量部以下
でか好ましく、より好ましくは０．５〜３０重量部であ
る。

感光層の塗布法は上記下引層と同様の方法を採用でき、
膜厚は、電荷発生層が好ましくは０．０５〜１０ｕＬｍ
、より好ましくは０．１〜２終履であり、電荷輸送層が
好ましくは５〜５０ｐｍ、より好ましくは１０〜３０ｕ
Ｌ１１である。

し発明の効果１ 本発明によれば、後述の実施例からも明らかな如く、ヒ
ドロキシスチレン重合体もしくはヒドロキシスチレンを
重合成分とする共重合体樹脂を主成分とする下引層を設
けることなよって、■感度が良好で、暗減衰特性に優れ
、電荷受容性のよい電子写真感光体を得ることができ、
また■緑返し特性に優れ、縁返し、帯Ｔｉ、曝露曝露光
電除電っても、受容電位、在留電位、感度特性が安定し
た電子写真感光体を得ることができる。

［実施例］ 以下に本発明の好ましい実施例を示すが、本発明はこれ
によって限定されるものではない。

実施例１ ｐ−ヒドロキシスチレンの重合体（商品名：マルゼンレ
ジンーに　丸首石油社製）　ｌｏｇを酢酸エチル：ジオ
キサン（５二１）混合液１０００鳳見に溶解し。

アルミニウム板に浸漬塗布法により塗布して、０．２　
鉢ＩＩの膜厚の下引層を形成した。

次にポリカーボネート樹脂（）くンライトＬ−１２５０
帝人化成社製）５ｇ、下記構造式のアゾ顔料（電橋発生
物質）　ｔｏｇ　、　１．２−ジクロロエタン１０ＱＯ
ｍｌＬをサンドミルで１０時間混合分散した。

得られた分散液をワイヤーバー塗布法により、前記下引
層上に塗布し、１００℃で１０分間乾燥して、膜厚的０
．２ＪＬｔｓの電荷発生層を形成した。

さらにポリカーボネート樹脂（商品名；パンライ）　　
Ｋ−１３００帝人化成社製）　１５０ｇ、下記構造式の
電荷輸送物質１２０ｇをテロラヒドロフランｔｏｏ。

ｔａｉｌに溶解混合し、浸漬塗布法により、前記電荷発
生層上に塗布し、１１０℃で２０分間乾燥して、膜厚約
１８終厘の電荷輸送層を形成した。このようにして得ら
れた感光体をサンプルｌとする。

比較例１〜３ 実施例１において、マルゼンレジンーＸからなる下引層
を、下記表−１の下引層に代えた以外は、同様にして感
光体を得た。

これを比較サンプル１〜３とする。

表−１ 実施例２〜３ 実施例１において、感光層に用いた電荷発生物質及び電
荷輸送物質を下記のものに代えた以外は、同様にして感
光体を得た。これをサンプル２．３とする。

（Ｉ）　　電荷発生物質 サンプル２ サンプル３ （ｎ）電荷輸送物質 サンプル２ サンプル３ 実施例４ 実施例１において、感光層に用いた電荷発生物質をε型
銅フタロシアニン顔料（東洋インキ社製）に代えた以外
は同様にして感光体を作成した。これをサンプル４とす
る。

実施例５〜６ 実施例１において、マルゼンレジンー滅をＰ−ヒドロキ
シスチレンとメタクリル酸メチルの共重合体（１：１組
成比）及び、Ｐ−ヒドロキシスチレンとメタクリル酸ヒ
ドロキシエチル（１：１組成比）に代えた外は同様にし
て感光体を作成した。サンプル５．６を得た。

実施例７ 実施例１において、調製したアゾ顔料分散液に、さらに
塩酸ジヘキシルアンモニウム１ｇを添加して電荷発生層
形成用の分散液とした外は、同様にして感光体を作成し
た。これをサンプル７とする。

［評価］ 上記の各サンプルをペーパーアナライザー５Ｐ−４２８
（川口電機社製）を用い、４０ＪＬＡの放電条件て５秒
間帯電し、帯電直後の表面電位［ＶＡ］、　５秒間暗中
放置した後の表面電位［ＶＩ］、表面照度が２ルツクス
になるようにして露光し１表面型位が１１２ｖＩになる
まテノ露光ｆｆｉ［Ｅ１７２］（Ｌｕｘ−ｓｅｃ）、　
１０秒露光後の表面電位［Ｖ＊　］を求め、 さらに Ｖ＾ の式より暗減衰−１［Ｄ］を求めた。

又１通常のカールソンプロセスを行い、初期と１０００
０回後の帯電直後の表面電位の差［Δｖａ１１００００
回後の残存電位［ｖ、１′］を求めた。

以上の結果を表−２に示す。

表−２ 一ヒ記表から明らかなように下引層のないものは、■＾
が低く電荷受容性悪く、またΔｖｅが大きく繰り返し安
定性悪い。

又、本発明によらない下引層の場合、Ｅ３４が大きく感
度が悪く、残存電位（ＶＲ）が大きく、縁り返し使用に
よって、ＶＲ′が大きくなる。

これに対し、本発明の下引層を設けることによって、著
しく優れた特性が得られ、感度、帯電保持性および繰り
返し特性に優れた感光体を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図は本発明の電子写真感光体の好ましい層
構成を示す部分断面図である。 ｌ：導電性基体 ２：下引層 ３：電荷発生音 ４：電荷輸送層

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）導電性基体上に下引層と感光層を有する電子写真
   感光体において、該下引層がヒドロキシスチレン重合体
   もしくはヒドロキシスチレンを重合成分とする共重合体
   樹脂を主成分とすることを特徴とする電子写真感光体。
2. （２）感光層に電荷発生物質としてアゾ顔料を含有する
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の電子写真
   感光体。
3. （３）感光層に電荷発生物質としてフタロシアニン顔料
   を含有することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   の電子写真感光体。