JPS62222535A - シャドウマスクの製造方法 - Google Patents
シャドウマスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS62222535A JPS62222535A JP62010119A JP1011987A JPS62222535A JP S62222535 A JPS62222535 A JP S62222535A JP 62010119 A JP62010119 A JP 62010119A JP 1011987 A JP1011987 A JP 1011987A JP S62222535 A JPS62222535 A JP S62222535A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- color display
- display tube
- temperature
- iron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims abstract description 43
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 18
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims abstract description 15
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 15
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 4
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 4
- 230000000153 supplemental effect Effects 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N iron nickel Chemical compound [Fe].[Ni] UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0727—Aperture plate
- H01J2229/0777—Coatings
- H01J2229/0783—Coatings improving thermal radiation properties
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、シャドウマスクシートを続けて焼なましそ
してドレープ圧伸(drape draw) してシャ
ドウマスクを形成し、次いで酸化するようにした鉄−ニ
ッケル合金のシャドウマスクシートよりシャドウマスク
を製造する方法に関するものである。
してドレープ圧伸(drape draw) してシャ
ドウマスクを形成し、次いで酸化するようにした鉄−ニ
ッケル合金のシャドウマスクシートよりシャドウマスク
を製造する方法に関するものである。
この発明はまた本発明の製造方法によってつくられたシ
ャドウマスクに関するものである。
ャドウマスクに関するものである。
この発明は更にまた本発明のシャドウマスクを有するカ
ラー表示管に関するものである。
ラー表示管に関するものである。
カラー表示管は外部磁界に敏感で、この外部磁界により
その動作に有害な影響を受けることがある。外部干渉磁
界の一つは地磁気である。したがってカラー表示管には
有効な磁気じゃへいを設けねばならない。カラー表示管
の横方向の干渉磁界に対しては軟磁性材料の外囲器が有
効な保護を与えることができる。けれどもこのような外
囲器をカラー表示管の軸方向の磁界を無効にするために
カラー表示管の表示窓の正面に設けることはできない。
その動作に有害な影響を受けることがある。外部干渉磁
界の一つは地磁気である。したがってカラー表示管には
有効な磁気じゃへいを設けねばならない。カラー表示管
の横方向の干渉磁界に対しては軟磁性材料の外囲器が有
効な保護を与えることができる。けれどもこのような外
囲器をカラー表示管の軸方向の磁界を無効にするために
カラー表示管の表示窓の正面に設けることはできない。
軟磁性材料より成るシャドウマスクは軸方向の磁界に対
して適度なしゃへいを与える。けれども、軸方向磁界に
よるカラー表示管の動作の影響は、°カラー表示管の磁
気じゃへいを最適にするのに大きな問題となる。適度な
磁気じゃへいを与える軟磁性材料は例えば鉄とニッケル
の合金である。鉄とニッケルの合金のシャドウマスクシ
ートより成るシャドウマスクの製造においては、シャド
ウマスクシートは、圧伸工程の前に焼なまし処理を受け
る。この焼なまし処理は還元性ガスふん回申で行われて
[オ料の再結晶を生じ、この結果内部の機械的応力が除
去される。その上材料の炭素含有量は拡散によって減少
される。この焼なまし処理の後、シャドウマスクシート
は機械的な変形によってドレープ圧伸される。シャドウ
マスクが鉄−ニッケル合金よりつくられた場合には15
0℃と200℃の間の温度で行われるこの圧伸工程は、
シャドウマスク材料の本来の好ましい磁気じゃへい特性
に悪影響を与える。
して適度なしゃへいを与える。けれども、軸方向磁界に
よるカラー表示管の動作の影響は、°カラー表示管の磁
気じゃへいを最適にするのに大きな問題となる。適度な
磁気じゃへいを与える軟磁性材料は例えば鉄とニッケル
の合金である。鉄とニッケルの合金のシャドウマスクシ
ートより成るシャドウマスクの製造においては、シャド
ウマスクシートは、圧伸工程の前に焼なまし処理を受け
る。この焼なまし処理は還元性ガスふん回申で行われて
[オ料の再結晶を生じ、この結果内部の機械的応力が除
去される。その上材料の炭素含有量は拡散によって減少
される。この焼なまし処理の後、シャドウマスクシート
は機械的な変形によってドレープ圧伸される。シャドウ
マスクが鉄−ニッケル合金よりつくられた場合には15
0℃と200℃の間の温度で行われるこの圧伸工程は、
シャドウマスク材料の本来の好ましい磁気じゃへい特性
に悪影響を与える。
種々の理由から、シャドウマスクをドレープ圧伸した後
これを酸化性ふん囲気中で焼なましする酸化処理を該シ
ャドウマスクに施すのが普通である。このようにして、
例えば、この酸化がシャドウマスクの無制限なさびつき
を阻止する。この酸化の結果シャドウマスク上に黒い酸
化物層が形成される。
これを酸化性ふん囲気中で焼なましする酸化処理を該シ
ャドウマスクに施すのが普通である。このようにして、
例えば、この酸化がシャドウマスクの無制限なさびつき
を阻止する。この酸化の結果シャドウマスク上に黒い酸
化物層が形成される。
この理由でこの酸化は黒化とも呼ばれる。この酸化層は
、放射によるシャドウマスクの熱放散を改良する。
、放射によるシャドウマスクの熱放散を改良する。
通常の方法でつくられた鉄−ニッケル合金より成るシャ
ドウマスクは未だ所望通りの磁気じゃへい特性を有して
いない。
ドウマスクは未だ所望通りの磁気じゃへい特性を有して
いない。
この発明の目的は、改良された磁気特性を有するシャド
ウマスクを供する鉄−ニッケルより成るシャドウマスク
の製造方法を得ることにある。
ウマスクを供する鉄−ニッケルより成るシャドウマスク
の製造方法を得ることにある。
この発明の特徴とするところは、冒頭に記載したタイプ
の製造方法において、ドレープ圧伸後酸化前に、シャド
ウマスクに非酸化性ふん囲気中で700℃と1200℃
の間の温度で補足焼なまし処理を施すことにある。実際
に、圧伸法で得られたシャドウマスクの磁気じゃへい特
性はこの補足焼なまし処理によって改良される。補足焼
なまし処理は700℃以上の温度で行うべきであること
がわかった。1200℃以上で行う補足焼なまし処理に
よって得られる磁気じゃへい特性の改良は経済的に引き
合わない。
の製造方法において、ドレープ圧伸後酸化前に、シャド
ウマスクに非酸化性ふん囲気中で700℃と1200℃
の間の温度で補足焼なまし処理を施すことにある。実際
に、圧伸法で得られたシャドウマスクの磁気じゃへい特
性はこの補足焼なまし処理によって改良される。補足焼
なまし処理は700℃以上の温度で行うべきであること
がわかった。1200℃以上で行う補足焼なまし処理に
よって得られる磁気じゃへい特性の改良は経済的に引き
合わない。
この発明の一実施態様では、補足焼なましを、シャドウ
マスクを焼なます温度と少なくとも実質的に等しい温度
で行う。補足焼なまし処理をシャドウマスクシートの焼
なまし温度と略々同じ温度で行うと、シャドウマスクシ
ートの焼なまし処理にも使用したと同じ炉を補足焼なま
し処理に用いることができる。
マスクを焼なます温度と少なくとも実質的に等しい温度
で行う。補足焼なまし処理をシャドウマスクシートの焼
なまし温度と略々同じ温度で行うと、シャドウマスクシ
ートの焼なまし処理にも使用したと同じ炉を補足焼なま
し処理に用いることができる。
シャドウマスクをカラー表示管内に入れる場合このシャ
ドウマスクを固定する支持フレームを用いるのが普通で
ある。この支持フレームをカラー表示管内に置く前に、
該支持フレームはシャドウマスクと同様に酸化焼なま処
理を受ける。この支持フレームはカラー表示管内でシャ
ドウマスクと略々同じ位置にあるので、支持フレームも
また管軸方向の干渉磁界のしゃへいに寄与する。
ドウマスクを固定する支持フレームを用いるのが普通で
ある。この支持フレームをカラー表示管内に置く前に、
該支持フレームはシャドウマスクと同様に酸化焼なま処
理を受ける。この支持フレームはカラー表示管内でシャ
ドウマスクと略々同じ位置にあるので、支持フレームも
また管軸方向の干渉磁界のしゃへいに寄与する。
この発明の別の実施態様では、酸化後のシャドウマスク
を酸化焼なまし処理を施した支持フレームに連結する場
合、支持フレームを鉄−ニッケル合金よりつくり、酸化
前に、非酸化性ふん囲気中で700℃と1200℃の間
の温度で補足焼なまし処理を施す。非酸化性ふん囲気内
での支持フレームの補足焼なまし処理は、その材料の磁
気じゃへい特性の改良を生じる。この補足焼なまし処理
の温度範囲は、シャドウマスクの補足焼なまし処理に記
載したのと同じ考え方で選ばれる。補足焼なまし処理の
結果得られたより良い磁気じゃへい特性を有するシャド
ウマスクと組合されて、補足焼なまし処理を受けた支持
フレームは、カラー表示管内の軸方向干渉磁界に対する
改良された磁気じゃへいを保証する。この結果、カラー
表示管の動作が改良される。
を酸化焼なまし処理を施した支持フレームに連結する場
合、支持フレームを鉄−ニッケル合金よりつくり、酸化
前に、非酸化性ふん囲気中で700℃と1200℃の間
の温度で補足焼なまし処理を施す。非酸化性ふん囲気内
での支持フレームの補足焼なまし処理は、その材料の磁
気じゃへい特性の改良を生じる。この補足焼なまし処理
の温度範囲は、シャドウマスクの補足焼なまし処理に記
載したのと同じ考え方で選ばれる。補足焼なまし処理の
結果得られたより良い磁気じゃへい特性を有するシャド
ウマスクと組合されて、補足焼なまし処理を受けた支持
フレームは、カラー表示管内の軸方向干渉磁界に対する
改良された磁気じゃへいを保証する。この結果、カラー
表示管の動作が改良される。
以下にこの発明を図面を参照して実施例により更に詳し
く説明する。第1図は、シャドウマスクと支持フレーム
を有するカラー表示管の一部切欠斜視図である。模型的
に示したこのカラー表示管は、表示窓2、コーン3およ
びネック4より成るガラス容器1と、3つの電子ビーム
8,9.10を発生する3つの電子銃5.6.7とを有
する。前記の表示窓2はその内側に多数の3つ組のけい
光体ラインを有する。各3つの組は、青発光けい光体よ
り成るライン11と緑発光けい光体より成るライン12
と赤発光けい光体より成るライン13とより成る。すべ
ての3つ組が一緒になって表示スクリーン14を形成す
る。電子ビーム8,9および10を極めて多数のアパー
チャを通して夫々1つの色のけい光体ラインにのみ衝突
させるようにしたシャドウマスク15が電子銃5.6お
よび7と表示スクリーン14との間に位置される。この
シャドウマスク15は、カラー表示管内に取付けられた
支持フレーム17に設けられる。外部磁界が電子ビーム
8゜9および10の運動に影響を及ぼし、その結果干渉
誤差が生じる。例えば誤導入や集中誤差に基く色不純が
そうである。外部磁界の影響を見出すには、このような
磁界をカラー表示管に関して3つの互に直角な成分に分
解するのが適当である。これ等の成分の一つ、軸方向成
分は管軸に沿って作用する。軟磁性材料のシャドウマス
ク15はこの軸方向の干渉磁界を有効にじゃへいするこ
とができる。
く説明する。第1図は、シャドウマスクと支持フレーム
を有するカラー表示管の一部切欠斜視図である。模型的
に示したこのカラー表示管は、表示窓2、コーン3およ
びネック4より成るガラス容器1と、3つの電子ビーム
8,9.10を発生する3つの電子銃5.6.7とを有
する。前記の表示窓2はその内側に多数の3つ組のけい
光体ラインを有する。各3つの組は、青発光けい光体よ
り成るライン11と緑発光けい光体より成るライン12
と赤発光けい光体より成るライン13とより成る。すべ
ての3つ組が一緒になって表示スクリーン14を形成す
る。電子ビーム8,9および10を極めて多数のアパー
チャを通して夫々1つの色のけい光体ラインにのみ衝突
させるようにしたシャドウマスク15が電子銃5.6お
よび7と表示スクリーン14との間に位置される。この
シャドウマスク15は、カラー表示管内に取付けられた
支持フレーム17に設けられる。外部磁界が電子ビーム
8゜9および10の運動に影響を及ぼし、その結果干渉
誤差が生じる。例えば誤導入や集中誤差に基く色不純が
そうである。外部磁界の影響を見出すには、このような
磁界をカラー表示管に関して3つの互に直角な成分に分
解するのが適当である。これ等の成分の一つ、軸方向成
分は管軸に沿って作用する。軟磁性材料のシャドウマス
ク15はこの軸方向の干渉磁界を有効にじゃへいするこ
とができる。
良好なしゃへい特性を有する軟磁性材料は鉄とニッケル
の合金で、この場合ニッケル含有量は例えば35%と3
7%の間である。この合金は、鉄−ニッケルの外に炭素
と不純物を有する。このような合金よりのンヤドウマス
クの製造は次のようにして行うことができる。アパーチ
ャを有する鉄−ニッケル合金より成るシャドウマスクシ
ートを、例えば700℃、!1820℃の間の温度で、
シャドウマスクシートの材料の完全な再結晶を生ずるに
十分な時間焼なまし処理する。材料内の機械的応力はこ
の再結晶によって低減される。この焼なまし処理は、例
えば水素含有窒素ふん囲気(6%H2+ 残りN2)の
ような非酸化性ふん囲気中で行う。鉄−ニッケル合金内
の炭素含有量は水素によって低減される。
の合金で、この場合ニッケル含有量は例えば35%と3
7%の間である。この合金は、鉄−ニッケルの外に炭素
と不純物を有する。このような合金よりのンヤドウマス
クの製造は次のようにして行うことができる。アパーチ
ャを有する鉄−ニッケル合金より成るシャドウマスクシ
ートを、例えば700℃、!1820℃の間の温度で、
シャドウマスクシートの材料の完全な再結晶を生ずるに
十分な時間焼なまし処理する。材料内の機械的応力はこ
の再結晶によって低減される。この焼なまし処理は、例
えば水素含有窒素ふん囲気(6%H2+ 残りN2)の
ような非酸化性ふん囲気中で行う。鉄−ニッケル合金内
の炭素含有量は水素によって低減される。
鉄−ニッケル合金よりつくられたシャドウマスクでは、
焼なまし処理は引張り応力を低減するのにも役立ち、こ
の場合材料の0.2%オフセット降伏応力(proof
5tress)が、再現可能な圧伸工程の得られる値
になる。この再現可能性のために、シャドウマスクは室
温でドレープ圧伸されるのではなくて高温例えば150
℃と250℃の間の温度でドレープ圧伸される。第2図
はシャドウマスクシートをドレープ圧伸する装置の断面
図を示す。この装置は、圧伸ダイ18(マンドレルとも
云う)、圧力リング19(プリーツ・ホルダとも云う)
および圧伸リング2i、rを有する。方形のシャドウマ
スクシー)21が圧伸ダイ18上に置かれる。圧伸リン
グ20が圧力リング19に向けて垂直方向に動かされる
結果、シャドウマスクシート21は、圧力リング19と
圧伸リング20の対向する2つの側部間にクランプされ
る。シャドウマスクシート21の所望形状への圧伸は、
延伸リング20と圧力リング19を同時に下げることに
より行われる。この場合シャドウマスクシート21は圧
伸ダイ18上で引張られる。この圧伸工程の間、シャド
ウマスクシート21の温度は略々200℃に保たれる。
焼なまし処理は引張り応力を低減するのにも役立ち、こ
の場合材料の0.2%オフセット降伏応力(proof
5tress)が、再現可能な圧伸工程の得られる値
になる。この再現可能性のために、シャドウマスクは室
温でドレープ圧伸されるのではなくて高温例えば150
℃と250℃の間の温度でドレープ圧伸される。第2図
はシャドウマスクシートをドレープ圧伸する装置の断面
図を示す。この装置は、圧伸ダイ18(マンドレルとも
云う)、圧力リング19(プリーツ・ホルダとも云う)
および圧伸リング2i、rを有する。方形のシャドウマ
スクシー)21が圧伸ダイ18上に置かれる。圧伸リン
グ20が圧力リング19に向けて垂直方向に動かされる
結果、シャドウマスクシート21は、圧力リング19と
圧伸リング20の対向する2つの側部間にクランプされ
る。シャドウマスクシート21の所望形状への圧伸は、
延伸リング20と圧力リング19を同時に下げることに
より行われる。この場合シャドウマスクシート21は圧
伸ダイ18上で引張られる。この圧伸工程の間、シャド
ウマスクシート21の温度は略々200℃に保たれる。
これを実現するために、圧伸ダイ18は銅ブロック22
を有し、この銅ブロツク内に加熱素子23が挿入される
。同様に、圧力リング19には銅ブロック24と加熱素
子25がまた圧伸リング20には銅ブロック26と加熱
素子27が設けられる。圧伸工程の間シャドウマスクシ
ート上の温度を均一にするために、延伸ダイ18は多数
の加熱パイプ28を有し、この加熱パイプによって圧伸
ダイの表面の温度の均一化が保証される。ドレープ圧伸
されたシャドウマスクの磁気じゃへい特性はこの圧伸工
程によって悪影響を受ける。非酸化性ふん占(・:中で
の補足焼なまし処理は磁気じゃへい特性を改良する。こ
の補足焼なまし処理が行われる温度は700℃と120
0℃の間にある。700℃以下では目立つ程の改良は得
られず、一方、1200℃以上では、しゃへい特性の改
良がこのような高温に維持する努力に見合わない。補足
焼なまし処理を行う非酸化性ふん囲気は、例えば還元性
の水素含有窒素ふん囲気でよい。実際には6%の水素を
含む窒素ふん囲気を使用するのが良いことがわかった。
を有し、この銅ブロツク内に加熱素子23が挿入される
。同様に、圧力リング19には銅ブロック24と加熱素
子25がまた圧伸リング20には銅ブロック26と加熱
素子27が設けられる。圧伸工程の間シャドウマスクシ
ート上の温度を均一にするために、延伸ダイ18は多数
の加熱パイプ28を有し、この加熱パイプによって圧伸
ダイの表面の温度の均一化が保証される。ドレープ圧伸
されたシャドウマスクの磁気じゃへい特性はこの圧伸工
程によって悪影響を受ける。非酸化性ふん占(・:中で
の補足焼なまし処理は磁気じゃへい特性を改良する。こ
の補足焼なまし処理が行われる温度は700℃と120
0℃の間にある。700℃以下では目立つ程の改良は得
られず、一方、1200℃以上では、しゃへい特性の改
良がこのような高温に維持する努力に見合わない。補足
焼なまし処理を行う非酸化性ふん囲気は、例えば還元性
の水素含有窒素ふん囲気でよい。実際には6%の水素を
含む窒素ふん囲気を使用するのが良いことがわかった。
けれども、非酸化性ふん囲気の使用は前記の例に限られ
るものではない。例えば窒素だけを有するふん囲気を用
いることも可能である。補足焼なまし処理ラシャドウマ
スクシートの焼なまし温度例えば760℃で行うと、こ
れ等2つの焼なまし処理に同じ炉を使うことができる。
るものではない。例えば窒素だけを有するふん囲気を用
いることも可能である。補足焼なまし処理ラシャドウマ
スクシートの焼なまし温度例えば760℃で行うと、こ
れ等2つの焼なまし処理に同じ炉を使うことができる。
例えば760℃の温度での10分間の焼なまし処理は、
磁気じゃへい特性の十分な改良を与える。完全な再結晶
を得るための補足焼なまし処理の時間は、使用するふん
囲気によって決まる。
磁気じゃへい特性の十分な改良を与える。完全な再結晶
を得るための補足焼なまし処理の時間は、使用するふん
囲気によって決まる。
41ラ一表示管の動作中電子流のかなりの部分が表示ス
クリーン14への途中シャドウマスク15に衝突するの
で、シャドウマスク15が加熱される。種々の理由で、
この加熱はできる限り小さくそして/または熱放散がで
きる限り大きくあるべきである。カラー表示管のガラス
容器1内は真空なので、放射による熱伝達が最も大切で
ある。表面の熱放射は公知のように所謂黒体が最も高い
。特別な処理を受けてない金属は反射面を有するので、
放射による熱伝達の割合は僅かである。この割合を大き
くするには、金属表面に黒体の特性を有する被覆層を設
けねばならない。酸化ふん囲気中で300℃と600℃
の間の温度でシャドウマスクに焼なまし処理を施すこと
により被覆層が形成され、その結果放射による熱の放散
が増加する。実際には600℃での焼なまし処理が十分
な満足を与える。このシャドウマスクの酸化は一般に用
いられている。
クリーン14への途中シャドウマスク15に衝突するの
で、シャドウマスク15が加熱される。種々の理由で、
この加熱はできる限り小さくそして/または熱放散がで
きる限り大きくあるべきである。カラー表示管のガラス
容器1内は真空なので、放射による熱伝達が最も大切で
ある。表面の熱放射は公知のように所謂黒体が最も高い
。特別な処理を受けてない金属は反射面を有するので、
放射による熱伝達の割合は僅かである。この割合を大き
くするには、金属表面に黒体の特性を有する被覆層を設
けねばならない。酸化ふん囲気中で300℃と600℃
の間の温度でシャドウマスクに焼なまし処理を施すこと
により被覆層が形成され、その結果放射による熱の放散
が増加する。実際には600℃での焼なまし処理が十分
な満足を与える。このシャドウマスクの酸化は一般に用
いられている。
シャドウマスク15を連結した支持フレーム17は、カ
ラー表示管内にシャドウマスクを懸吊するのに用いられ
る。軸方向の干渉磁界のしゃへいを増すために、例えば
鉄−ニッケル合金がそうであるように、良好な磁気じゃ
へい特性を有する材料でつくるのが有利である。カラー
表示管内に支持フレーム17を取付ける前に、この支持
フレームは、放射による熱伝達のわりあいが増すように
酸化処理を受ける。この酸化に先立って、支持フレーム
は非酸化性ふん囲気中で700℃と1200℃の間の温
度で補足焼なまし処理を受ける。磁気じゃへい特性はこ
の補足焼なまし処理によって改良される。支持フレーム
とシャドウマスクの非酸化性焼なまし処理を同じ温度例
えば760℃で行うと、この非酸化性焼なまし処理は唯
一つの炉ですむ。最終的に得られたシャドウマスク支持
フレーム組合せ体くまたはシャドウマスク単体)は、カ
ラー表示管内の軸方向干渉磁界の良好なしゃへいを与え
るだけでなく、シャドウマスク支持フレーム組合せ体は
その壁がカラー表示管の縦方向に延在する箱と見做せる
ので、軸方向磁界に直角な干渉磁界もまたじゃへいされ
る。
ラー表示管内にシャドウマスクを懸吊するのに用いられ
る。軸方向の干渉磁界のしゃへいを増すために、例えば
鉄−ニッケル合金がそうであるように、良好な磁気じゃ
へい特性を有する材料でつくるのが有利である。カラー
表示管内に支持フレーム17を取付ける前に、この支持
フレームは、放射による熱伝達のわりあいが増すように
酸化処理を受ける。この酸化に先立って、支持フレーム
は非酸化性ふん囲気中で700℃と1200℃の間の温
度で補足焼なまし処理を受ける。磁気じゃへい特性はこ
の補足焼なまし処理によって改良される。支持フレーム
とシャドウマスクの非酸化性焼なまし処理を同じ温度例
えば760℃で行うと、この非酸化性焼なまし処理は唯
一つの炉ですむ。最終的に得られたシャドウマスク支持
フレーム組合せ体くまたはシャドウマスク単体)は、カ
ラー表示管内の軸方向干渉磁界の良好なしゃへいを与え
るだけでなく、シャドウマスク支持フレーム組合せ体は
その壁がカラー表示管の縦方向に延在する箱と見做せる
ので、軸方向磁界に直角な干渉磁界もまたじゃへいされ
る。
図面は本発明を説明するためのカラー表示管の一部切欠
斜視図である。 1・・・ガラス容器 2・・・表示窓3・・・コ
ーン 4・・・ネック5、6.7・・・電子
銃 8.肌10・・・電子ビーム11、12.13
・・・3つ組けい光体ライン14・・・表示スクリーン
15・・・シャドウマスク16・・・アパーチャ 特許出願人 エヌ・べ−・フィリップス・フルーイラ
ンペンファブリケン FIG、2 手 続 補 正 書(方式) %式% 1、事件の表示 昭和62年特許願第10119号 2、発明の名称 シャドウマスクの製造方法とこの製造方法で製造された
シャドウマスクおよびこのシャドウマスクを有するカラ
ー表示管 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 エヌ・べ−・フィリップス・ フルーイランベンファブリケン 4、代 理 人 6、補正の対象 ■、明細書第14頁の「図面の簡単な説明」の欄を乙の
通りに補正する。 [第1図は本発明を説明するためのカラー−水管の一部
切欠斜視図、 第2図はシャドウマスクをドレープ圧伸−こる装置の断
面図である。」
斜視図である。 1・・・ガラス容器 2・・・表示窓3・・・コ
ーン 4・・・ネック5、6.7・・・電子
銃 8.肌10・・・電子ビーム11、12.13
・・・3つ組けい光体ライン14・・・表示スクリーン
15・・・シャドウマスク16・・・アパーチャ 特許出願人 エヌ・べ−・フィリップス・フルーイラ
ンペンファブリケン FIG、2 手 続 補 正 書(方式) %式% 1、事件の表示 昭和62年特許願第10119号 2、発明の名称 シャドウマスクの製造方法とこの製造方法で製造された
シャドウマスクおよびこのシャドウマスクを有するカラ
ー表示管 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 エヌ・べ−・フィリップス・ フルーイランベンファブリケン 4、代 理 人 6、補正の対象 ■、明細書第14頁の「図面の簡単な説明」の欄を乙の
通りに補正する。 [第1図は本発明を説明するためのカラー−水管の一部
切欠斜視図、 第2図はシャドウマスクをドレープ圧伸−こる装置の断
面図である。」
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、シャドウマスクシートを続けて焼きなましそしてド
レープ圧伸してシャドウマスクを形成し、次いで酸化す
るようにした鉄−ニッケル合金のシャドウマスクシート
よりシャドウマスクを製造する方法において、ドレープ
圧伸後酸化前に、シャドウマスクに非酸化性ふん囲気中
で700℃と1200℃の間の温度で補足焼なまし処理
を施すことを特徴とするシャドウマスクの製造方法。 2、補足焼なましを、シャドウマスクシートを焼なます
温度と少なく実質的に等しい温度で行う特許請求の範囲
第1項記載の製造方法。 3、酸化後のシャドウマスクを酸化焼なまし処理を施し
た支持フレームに連結する場合、支持フレームを鉄−ニ
ッケル合金よりつくり、酸化前に、非酸化性ふん囲気中
で700℃と1200℃の間の温度で補足焼なまし処理
を施す特許請求の範囲第1項又は第2項記載の製造方法
。 4、鉄−ニッケル合金は重量百分率で35から37%の
ニッケルを有する特許請求の範囲の第1項から第3項の
何れか1項記載の製造方法。 5、特許請求の範囲第1項から第4項の何れかに記載の
方法で製造されたシャドウマスク。 6、特許請求の範囲第5項記載のシャドウマスクを有す
るカラー表示管。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8600141 | 1986-01-23 | ||
NL8600141A NL8600141A (nl) | 1986-01-23 | 1986-01-23 | Werkwijze voor het vervaardigen van een schaduwmasker, schaduwmasker vervaardigd volgens zulk een werkwijze en kleurenbeeldbuis voorzien van zulk een schaduwmasker. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62222535A true JPS62222535A (ja) | 1987-09-30 |
JPH07111871B2 JPH07111871B2 (ja) | 1995-11-29 |
Family
ID=19847453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62010119A Expired - Lifetime JPH07111871B2 (ja) | 1986-01-23 | 1987-01-21 | シャドウマスクの製造方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5026312A (ja) |
EP (1) | EP0233658B1 (ja) |
JP (1) | JPH07111871B2 (ja) |
CN (1) | CN1008027B (ja) |
AT (1) | ATE48922T1 (ja) |
DD (1) | DD254463A5 (ja) |
DE (1) | DE3761237D1 (ja) |
NL (1) | NL8600141A (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3639657A1 (de) * | 1986-11-20 | 1988-06-01 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zum reinigen von metallbauteilen fuer kathodenstrahlroehren |
US4769089A (en) * | 1987-08-25 | 1988-09-06 | Allegheny Ludlum Corporation | Method of annealing an aperture shadow mask for a color cathode ray tube |
IT1251416B (it) * | 1991-10-23 | 1995-05-09 | Videocolor Spa | Processo di fabbricazione di una maschera di selezione dei colori per un tubo a raggi catodici e dispositivo per la realizzazione di tale processo |
BE1008028A4 (nl) * | 1994-01-17 | 1995-12-12 | Philips Electronics Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een schaduwmasker van het nikkel-ijzer type. |
JP2004331997A (ja) * | 2003-04-30 | 2004-11-25 | Nikko Metal Manufacturing Co Ltd | シャドウマスク用高強度Fe−Ni−Co系合金 |
CN101552168B (zh) * | 2008-04-01 | 2011-03-30 | 四川海英电子科技有限公司 | 高清显示器荫罩板的生产工艺 |
KR102479945B1 (ko) * | 2017-12-08 | 2022-12-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 시트 및 이의 제조 방법 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3909311A (en) * | 1974-08-05 | 1975-09-30 | Hitachi Ltd | Shadow mask for use in color picture tube and method for fabricating same |
JPS5951703B2 (ja) * | 1980-06-05 | 1984-12-15 | 三菱電機株式会社 | シャドウマスク用フレ−ムの黒化膜形成方法 |
NL8100730A (nl) * | 1981-02-16 | 1982-09-16 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een kleurselektie-elektrode voor een kleurenbeeldbuis. |
FR2532108A1 (fr) * | 1982-08-20 | 1984-02-24 | Videocolor Sa | Procede de preparation des pieces ferreuses d'un tube de television en couleurs et four pour la mise en oeuvre d'un tel procede |
US4612061A (en) * | 1984-03-15 | 1986-09-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing picture tube shadow mask |
US4698545A (en) * | 1984-09-26 | 1987-10-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Color picture tube having a shadow mask with a Cr enriched layer |
-
1986
- 1986-01-23 NL NL8600141A patent/NL8600141A/nl not_active Application Discontinuation
-
1987
- 1987-01-16 EP EP87200054A patent/EP0233658B1/en not_active Expired
- 1987-01-16 DE DE8787200054T patent/DE3761237D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-01-16 AT AT87200054T patent/ATE48922T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-01-20 DD DD87299355A patent/DD254463A5/de unknown
- 1987-01-20 CN CN87100407A patent/CN1008027B/zh not_active Expired
- 1987-01-21 JP JP62010119A patent/JPH07111871B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-05-17 US US07/526,946 patent/US5026312A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN87100407A (zh) | 1987-08-12 |
JPH07111871B2 (ja) | 1995-11-29 |
DD254463A5 (de) | 1988-02-24 |
DE3761237D1 (de) | 1990-01-25 |
CN1008027B (zh) | 1990-05-16 |
US5026312A (en) | 1991-06-25 |
EP0233658A1 (en) | 1987-08-26 |
NL8600141A (nl) | 1987-08-17 |
EP0233658B1 (en) | 1989-12-20 |
ATE48922T1 (de) | 1990-01-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS62222535A (ja) | シャドウマスクの製造方法 | |
JPH0742565B2 (ja) | カラーテレビジョン受像管の鉄系部品の製造方法 | |
US4971590A (en) | Process for improving the emissivity of a non-based tension shadow mask | |
JPH0945257A (ja) | シャドーマスクとその製造方法 | |
US4929864A (en) | NI-based FTM shadow masks having a nickel phosphide black layer | |
KR960010427B1 (ko) | 칼라 음극선관용 구멍난 섀도우 마스크 어닐링방법 및 이에 따라 제조된 마스크 | |
JPS6142838A (ja) | カラ−受像管 | |
US5509842A (en) | Method for pre-stressing CRT tension mask material | |
US4900976A (en) | Material and assemblies for tensioned foil shadow masks | |
KR100232138B1 (ko) | 칼라음극선관용 자기차폐체(inner shield)의 제조 방법 | |
US4854906A (en) | Material, and assemblies for tensioned foil shadow masks | |
KR100252940B1 (ko) | 칼라음극선관용자기차폐체의제조방법 | |
KR100253008B1 (ko) | 음극선관의 제조방법 | |
EP0410965B1 (en) | Material and process for the manufacture of tension masks for cathode ray tubes | |
JPH01195630A (ja) | カラー陰極線管用電子部品の黒化方法 | |
JPS61116734A (ja) | カラ−陰極線管用鋼板部品の黒化被膜形成方法 | |
JP2003073797A (ja) | シャドウマスクの酸化処理方法 | |
JPH09199015A (ja) | シャドウマスク用サポートフレームの表面処理方法 | |
KR19990002612A (ko) | 칼라음극선관용 새도우마스크 및 그 제조 방법 | |
JPS6148523A (ja) | シヤドウマスクの製造方法 | |
JPS60189142A (ja) | カラ−陰極線管用鋼板部品の黒化方法 | |
JPH04500881A (ja) | ブラウン管のテンション・マスクの製造用材料とプロセス | |
JP2003171748A (ja) | ヒートシュリンクバンドおよびヒートシュリンクバンド用鋼板ならびにその製造方法 | |
JPH0714515A (ja) | 鉛ガラス製フリットシール式小型x線管の製造方法 | |
JP2004527084A (ja) | 改良された色選択電極を備えるカラー表示管を製造する方法 |