JPS62221661A - 脂肪族ジイソシアネ−トおよびポリウレタンプラスチツクの製造のためのそれらの使用 - Google Patents
脂肪族ジイソシアネ−トおよびポリウレタンプラスチツクの製造のためのそれらの使用Info
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- JPS62221661A JPS62221661A JP62054317A JP5431787A JPS62221661A JP S62221661 A JPS62221661 A JP S62221661A JP 62054317 A JP62054317 A JP 62054317A JP 5431787 A JP5431787 A JP 5431787A JP S62221661 A JPS62221661 A JP S62221661A
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Classifications
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C265/00—Derivatives of isocyanic acid
-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は立体障害を起こしていないイソシアネート基の
ほかに、立体障害を起こしているイソシアネート基を有
する新規な脂肪族ジイソシアネート、特に1,≠−ジイ
ソシアナトー弘−メチルペンタン、およびこれらのジイ
ソシアネートをポリウレタングラスチックの製造に使用
することに関するものである。
ほかに、立体障害を起こしているイソシアネート基を有
する新規な脂肪族ジイソシアネート、特に1,≠−ジイ
ソシアナトー弘−メチルペンタン、およびこれらのジイ
ソシアネートをポリウレタングラスチックの製造に使用
することに関するものである。
〔従来技術および発明が解決しようとする問題点〕耐光
性のポリウレタンエラストマー、分散液またはラッカー
の製造には、純粋な脂肪族ジイソシアネートまたは脂環
式ジイソシアネート、例えば3、!、!; −トリメチ
ル−3−インシアナトメチル−シクロヘキシルイソシア
ネート(「インホロンジイソシアネート」)が普通使用
されている(例えばベラカー(BeCker ) 、プ
ラウ7 (Braun )著。
性のポリウレタンエラストマー、分散液またはラッカー
の製造には、純粋な脂肪族ジイソシアネートまたは脂環
式ジイソシアネート、例えば3、!、!; −トリメチ
ル−3−インシアナトメチル−シクロヘキシルイソシア
ネート(「インホロンジイソシアネート」)が普通使用
されている(例えばベラカー(BeCker ) 、プ
ラウ7 (Braun )著。
グラスチック便覧(Kunatstoffe −Han
dbuch) 、第7巻、第λ版、/りに3年カルルハ
ンザーフエルラーク(Cart Hanger Ver
lag )発行を参照)。
dbuch) 、第7巻、第λ版、/りに3年カルルハ
ンザーフエルラーク(Cart Hanger Ver
lag )発行を参照)。
商業的なポリウレタン化学において使用される脂肪族ジ
イソシアネート、特にヘキサメチレンジイソシアネート
ばかシでなく、トリメチル−1,乙−ヘキサンジイソシ
アネートおよび2−メチル−1,j−ペンタンジイソシ
アネートもそれらの脂肪族特性によって耐光性ポリウレ
タングラスチックの製造に著しく適している。それ故、
これらのジイソシアネートは主としてポリウレタンラッ
カーの製造あるいはラッカープリイソシアネートの製造
に使用されている。当該技術において知られているこれ
らの重要な脂肪族ジイソシアネートの一つの欠点は、そ
れらのイソシアネート基がイソシアネート反応性の基と
の反応性について同一であるか、あるいは類似している
ということであり、これは、例えば、7つのイソシアネ
ート基のみに反応を起こさせることを意図しているプロ
セス、例えばジイソシアネートの7つのイソシアネート
基と1,1 +7ウレタン化学において普通に使用され
ている種類のポリヒドロキシル化合物のヒドロキシル基
とを反応させることによってイソシアネートブレポリマ
ーを製造するプロセスにおいて問題を生ずる。
イソシアネート、特にヘキサメチレンジイソシアネート
ばかシでなく、トリメチル−1,乙−ヘキサンジイソシ
アネートおよび2−メチル−1,j−ペンタンジイソシ
アネートもそれらの脂肪族特性によって耐光性ポリウレ
タングラスチックの製造に著しく適している。それ故、
これらのジイソシアネートは主としてポリウレタンラッ
カーの製造あるいはラッカープリイソシアネートの製造
に使用されている。当該技術において知られているこれ
らの重要な脂肪族ジイソシアネートの一つの欠点は、そ
れらのイソシアネート基がイソシアネート反応性の基と
の反応性について同一であるか、あるいは類似している
ということであり、これは、例えば、7つのイソシアネ
ート基のみに反応を起こさせることを意図しているプロ
セス、例えばジイソシアネートの7つのイソシアネート
基と1,1 +7ウレタン化学において普通に使用され
ている種類のポリヒドロキシル化合物のヒドロキシル基
とを反応させることによってイソシアネートブレポリマ
ーを製造するプロセスにおいて問題を生ずる。
インホロンジイソシアネートのすぐれた特徴は、それが
反応性の高い第一のイソシアネート基と反応性の低い第
二のイソシアネート基を持っているという事実にある。
反応性の高い第一のイソシアネート基と反応性の低い第
二のイソシアネート基を持っているという事実にある。
これは1例えばプレポリマーの製造においてジイソシア
ネートの2個のイソシアネート基のうちの一方のみを反
応させようとする場合に重要である。しかしながら、イ
ンホロンジイソシアネートの中の2個のイソシアネート
基の反応性の違いは、第一級イソシアネート基と第三級
イソシアネート基とを有するジイソシアネートのような
多くの場合において望まれるほど大きくない。
ネートの2個のイソシアネート基のうちの一方のみを反
応させようとする場合に重要である。しかしながら、イ
ンホロンジイソシアネートの中の2個のイソシアネート
基の反応性の違いは、第一級イソシアネート基と第三級
イソシアネート基とを有するジイソシアネートのような
多くの場合において望まれるほど大きくない。
さらに、脂環式ジイソシアネートを基とするポリウレタ
ンは脂肪族ジイソシアネートを基とするポリウレタンと
は異なる特性を示し、特に脂環式ジイソシアネートを基
とするポリウレタンは脂肪族ジイソシアネートを基とし
た対応するポリウレタンよシも屡々機械的特性および熱
特性が劣っている。
ンは脂肪族ジイソシアネートを基とするポリウレタンと
は異なる特性を示し、特に脂環式ジイソシアネートを基
とするポリウレタンは脂肪族ジイソシアネートを基とし
た対応するポリウレタンよシも屡々機械的特性および熱
特性が劣っている。
それ故、本発明の目的は、耐光性ポリウレタンプラスチ
ックの製造に使用される公知の脂肪族ジイソシアネート
と同じ様に適しているが、1個のイソシアネート基の反
応性の間に著しい相違を示す新しい脂肪族ジイソシアネ
ートを提供することであった。
ックの製造に使用される公知の脂肪族ジイソシアネート
と同じ様に適しているが、1個のイソシアネート基の反
応性の間に著しい相違を示す新しい脂肪族ジイソシアネ
ートを提供することであった。
この問題は以下に示す本発明のジイソシアネートな提供
することによって解決された。
することによって解決された。
本発明は下記の一般式に該当するジイソシアネートに関
するものであシ、 R2−C−R,−CH2NCO1 CO この式の中で、 R4およびR2は同じかまたは異っていて、/〜≠個の
炭素原子を有するアルキル基を表わし、そしてR3は2
〜7個の炭素原子を有する2価の、随意に枝分れした飽
和脂肪族炭化水素基を表わし、最も好ましくはR1およ
びR2はともにメチル基であり、そしてR3は1,2−
エチレン基である。
するものであシ、 R2−C−R,−CH2NCO1 CO この式の中で、 R4およびR2は同じかまたは異っていて、/〜≠個の
炭素原子を有するアルキル基を表わし、そしてR3は2
〜7個の炭素原子を有する2価の、随意に枝分れした飽
和脂肪族炭化水素基を表わし、最も好ましくはR1およ
びR2はともにメチル基であり、そしてR3は1,2−
エチレン基である。
本発明はまた、イソシアネート重付加方法によって、ポ
リイソシアネート重付加生成物、好ましくけポリウレタ
ンプラスチックを製造するためのイソシアネート成分と
して本発明のジイソシアネートを使用することに関する
ものである。
リイソシアネート重付加生成物、好ましくけポリウレタ
ンプラスチックを製造するためのイソシアネート成分と
して本発明のジイソシアネートを使用することに関する
ものである。
本発明のジイソシアネートは、下記の式■または■に該
当する不飽和アミン C=CH−R3’−CH2NH2II ■ H2C= C−R3−CH2NH2III(これらの式
の中で、R1,R2およびR3は上記の意味を有し、そ
してR3′はメチレン基、または/〜r個の炭素原子を
有する、随意に枝分れした、2価の飽和脂肪族炭化水素
基を表わす)、あるいは下記の式■に該当するアミノア
ルコールR2−C−R3−CH2聞2■ ■ H (式中、R4,R2およびR3は上記の意味を有する)
を、リッター反応により、下記の式■に該当するニトリ
ルと反応させて。
当する不飽和アミン C=CH−R3’−CH2NH2II ■ H2C= C−R3−CH2NH2III(これらの式
の中で、R1,R2およびR3は上記の意味を有し、そ
してR3′はメチレン基、または/〜r個の炭素原子を
有する、随意に枝分れした、2価の飽和脂肪族炭化水素
基を表わす)、あるいは下記の式■に該当するアミノア
ルコールR2−C−R3−CH2聞2■ ■ H (式中、R4,R2およびR3は上記の意味を有する)
を、リッター反応により、下記の式■に該当するニトリ
ルと反応させて。
R−CN V(式中、Rは水
素、あるいは随意に置換されたアルキル基、脂環式基ま
たはアリール基、好ましくは水素を表わす) 下記の式■に該当するジアミンを生成させることによっ
て製造できる。
素、あるいは随意に置換されたアルキル基、脂環式基ま
たはアリール基、好ましくは水素を表わす) 下記の式■に該当するジアミンを生成させることによっ
て製造できる。
R2−c−R,−0M2NH2V1
H2
(式中、R1,R,2およびR3は上記の意味を有する
)一般式Iに該当するジイソシアネートはホスダン化に
よって式■に該当するジアミンから得られる。
)一般式Iに該当するジイソシアネートはホスダン化に
よって式■に該当するジアミンから得られる。
式■または■に該当する不飽和アミンおよび式■に該当
するアミノアルコールは既に公知であるか、あるいは、
還元的アミノ化または水素添加により、下記の式■、■
または■に該当する化合物から製造することができる。
するアミノアルコールは既に公知であるか、あるいは、
還元的アミノ化または水素添加により、下記の式■、■
または■に該当する化合物から製造することができる。
C=CH−R3′−X ■R2−C−R
5−X ■H (これらの式の中で、 R,、R2,R,およびR3′
は上記の意味を有し、そしてXはC)IOまたはCNを
表わす) 好ましい出発材料は一般式■または■に該当する材料、
例えば≠−メチルーペントー3−エンニトリル、j−メ
fルーへクスー弘−エナール、ヨーメチル−ヘクス−j
−エンニトリル、2..2A;−)リメテルーへクスー
弘−エナールおよび天然産のシトロネラールである。こ
れらの出発材料は、本発明の好ましいジイソシアネート
、すなわちへ!−ジイソシアナト−よ一メチルヘキサン
、1,乙−ノインシアナト−乙−メチルへブタン、1,
j−ジイソシアナト−2,2J−)リメチルヘキサンま
たはへ7−ジイツシアナトー3,7−シメチルオクタン
を製造するために使用される。
5−X ■H (これらの式の中で、 R,、R2,R,およびR3′
は上記の意味を有し、そしてXはC)IOまたはCNを
表わす) 好ましい出発材料は一般式■または■に該当する材料、
例えば≠−メチルーペントー3−エンニトリル、j−メ
fルーへクスー弘−エナール、ヨーメチル−ヘクス−j
−エンニトリル、2..2A;−)リメテルーへクスー
弘−エナールおよび天然産のシトロネラールである。こ
れらの出発材料は、本発明の好ましいジイソシアネート
、すなわちへ!−ジイソシアナト−よ一メチルヘキサン
、1,乙−ノインシアナト−乙−メチルへブタン、1,
j−ジイソシアナト−2,2J−)リメチルヘキサンま
たはへ7−ジイツシアナトー3,7−シメチルオクタン
を製造するために使用される。
本発明の最も好ましいジイソシアネートを製造するため
の出発材料として使用される1,lA−ジアミノ−≠−
メチルペンタンは公知であって、文献(例えば米国特許
第2.fl、’AJ乙3号明細書)に記載されており、
それは、例えば、弘−ニドローダ−メチルバレロニトリ
ルの接触水素添加によって製造できる。明らかに、この
ジアミンは、本発明により、その他のあらゆる公知の方
法によっても製造できる。
の出発材料として使用される1,lA−ジアミノ−≠−
メチルペンタンは公知であって、文献(例えば米国特許
第2.fl、’AJ乙3号明細書)に記載されており、
それは、例えば、弘−ニドローダ−メチルバレロニトリ
ルの接触水素添加によって製造できる。明らかに、この
ジアミンは、本発明により、その他のあらゆる公知の方
法によっても製造できる。
上記ジアミンを製造するために使用される≠−二トロー
≠−メチルバレロニトリルも公知であって、文献(例え
ば、ジャーナルオプケミカルソサイアテイ(J、 Ch
em、 Soc、 ) + /り≠7年、第1J″0乙
頁)に記載されており、それはコーニトロプロパンとア
クリル酸ニトリルとの反応によって製造される。
≠−メチルバレロニトリルも公知であって、文献(例え
ば、ジャーナルオプケミカルソサイアテイ(J、 Ch
em、 Soc、 ) + /り≠7年、第1J″0乙
頁)に記載されており、それはコーニトロプロパンとア
クリル酸ニトリルとの反応によって製造される。
1,弘−ジアミノ−弘−メチルペンタンもまた、R1お
よびR2がメチル基を意味し、R5が1,2−エチレン
基を意味し、そしてR,/がメチレン基を意味している
場合の式■、■または■に該当する化合物から出発して
、同じ方法によって製造することができる。1,4A−
ジアミノ−弘−メチルペンタンは、工業的な純度、それ
の製造中に集積する形。
よびR2がメチル基を意味し、R5が1,2−エチレン
基を意味し、そしてR,/がメチレン基を意味している
場合の式■、■または■に該当する化合物から出発して
、同じ方法によって製造することができる。1,4A−
ジアミノ−弘−メチルペンタンは、工業的な純度、それ
の製造中に集積する形。
あるいは好ましくは精製した形で、本発明のプロセスに
おいて製造することができる。この精製は、例えば抽出
、しかし好ましくは分留によって遂行することができる
。
おいて製造することができる。この精製は、例えば抽出
、しかし好ましくは分留によって遂行することができる
。
式■または■に該当する不飽和アミン、あるいは式■に
該当するアミノアルコールのリッター反応は硫酸、燐酸
、アルキルスルホン酸またはアリールスルホン酸、トリ
フルオル酢酸あるいは蟻酸のような強酸の存在下で遂行
され、硫酸が好ましく使用される。この酸の水分含有量
はQ〜約≠0チであり得るが、好ましくは約/3−2r
%である。使用される酸の量は不飽和アミン1モルに付
き約7〜20モル、好ましくは約/〜3−Eニル、最も
好ましくは約2モルである。使用されるニトリルハシア
ン化水素酸、アセトニトリル、グロピオニトリル、シア
ン化ベンジルtたはベンゾニトリルであシ得;シアン化
水素が好ましい。式■または■に該当する不飽和アミン
、あるいは式■に該当するアミノアルコールの量を基に
して、等モル量〜!倍モル過剰に変化できる量の式Vに
該当するニトリルが使用され、7〜7.3倍モル過剰が
好ましい。好ましい処理方法においては式■または■に
該当する不飽和アミン、あるいは式■に該当するアミノ
アルコールおよびシアン化水素酸は同時に酸に加えられ
る。これらの反応剤の添加中、温度は約θ〜70℃、好
ましくは約30−J”(17℃に維持される。反応中お
よび反応後の温度は約30〜10O℃、好ましくは約≠
O〜乙O℃に維持される。リッター反応は加圧下で遂行
することができるが、好ましくは圧力を加えないで遂行
される。
該当するアミノアルコールのリッター反応は硫酸、燐酸
、アルキルスルホン酸またはアリールスルホン酸、トリ
フルオル酢酸あるいは蟻酸のような強酸の存在下で遂行
され、硫酸が好ましく使用される。この酸の水分含有量
はQ〜約≠0チであり得るが、好ましくは約/3−2r
%である。使用される酸の量は不飽和アミン1モルに付
き約7〜20モル、好ましくは約/〜3−Eニル、最も
好ましくは約2モルである。使用されるニトリルハシア
ン化水素酸、アセトニトリル、グロピオニトリル、シア
ン化ベンジルtたはベンゾニトリルであシ得;シアン化
水素が好ましい。式■または■に該当する不飽和アミン
、あるいは式■に該当するアミノアルコールの量を基に
して、等モル量〜!倍モル過剰に変化できる量の式Vに
該当するニトリルが使用され、7〜7.3倍モル過剰が
好ましい。好ましい処理方法においては式■または■に
該当する不飽和アミン、あるいは式■に該当するアミノ
アルコールおよびシアン化水素酸は同時に酸に加えられ
る。これらの反応剤の添加中、温度は約θ〜70℃、好
ましくは約30−J”(17℃に維持される。反応中お
よび反応後の温度は約30〜10O℃、好ましくは約≠
O〜乙O℃に維持される。リッター反応は加圧下で遂行
することができるが、好ましくは圧力を加えないで遂行
される。
約/〜/よ時間、好ましくは約2〜j時間の反応時間の
後、反応中に生成したホルムアミドを加水分解する。加
水分解は酸の状態、あるいは水酸化ナトリウムのような
塩基を加えた後アルカリ状態において遂行することがで
きる。ついで、式■に該当するジアミンはアルカリ性の
廃水から分離される。
後、反応中に生成したホルムアミドを加水分解する。加
水分解は酸の状態、あるいは水酸化ナトリウムのような
塩基を加えた後アルカリ状態において遂行することがで
きる。ついで、式■に該当するジアミンはアルカリ性の
廃水から分離される。
ホスダ7化方法においては、弐■に該当するジアミンを
そのままの形で、あるいはまた塩化水素または二酸化炭
素との付加化合物の形で使用できる。本発明のホスダン
化はまた、例えば/り4L′?年に刊行されたリービツ
ヒスアナーレンrルヘミ−(Liebigs Anna
lsn der Chemie ) 、第562巻。
そのままの形で、あるいはまた塩化水素または二酸化炭
素との付加化合物の形で使用できる。本発明のホスダン
化はまた、例えば/り4L′?年に刊行されたリービツ
ヒスアナーレンrルヘミ−(Liebigs Anna
lsn der Chemie ) 、第562巻。
第741〜第1Oり頁;ウルマンズエンツイクロ/’?
7’イーf’ルテヒニシエンヘミ(Ul 1manns
Enzyklopadis der Technisc
h@n Chsmie ) 、第111−巻、第≠版、
/り77年、第3J″0頁〜第3jlI−頁;またはハ
ウペン−バイル(Houbsn−Weyl )著。
7’イーf’ルテヒニシエンヘミ(Ul 1manns
Enzyklopadis der Technisc
h@n Chsmie ) 、第111−巻、第≠版、
/り77年、第3J″0頁〜第3jlI−頁;またはハ
ウペン−バイル(Houbsn−Weyl )著。
有機化学の方法(Methoden der Orga
nisehenChemie ) *第E≠巻、第≠版
、/り!r3年、第71/頁〜第7j′3頁に記載され
ているような公知の方法によっても起こる。
nisehenChemie ) *第E≠巻、第≠版
、/り!r3年、第71/頁〜第7j′3頁に記載され
ているような公知の方法によっても起こる。
本発明のホスダン化は好ましくは有機溶剤の存在下にお
いて連続式またはパッチ式で遂行することができる。好
適な溶剤はホスダン化のために一般に使用されている溶
剤、例えば脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素、ハロ
ダン化炭化水素、ニトロ炭化水素、脂肪族−芳香族エー
テル、芳香族エーテル、カルボン酸エステル、カルメン
酸ニトリル、スルホン、燐酸ハライドまたは燐酸エステ
ルである。好適な溶剤の例はトリメチルペンタン、メチ
ルシクロヘキサン、トルエン、7.2−ジクロルエタン
、クロルベンゼン、クロルトルエン、i、、z−ジクロ
ルベンゼン、アニソール、ジ7工二ルエーテル、酢酸ブ
チルエステル、テトラメチレンスルホン、アセトニトリ
ルおよびオキシ塩化燐を包含しており、所望ならば溶剤
の混合物も使用できる。
いて連続式またはパッチ式で遂行することができる。好
適な溶剤はホスダン化のために一般に使用されている溶
剤、例えば脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素、ハロ
ダン化炭化水素、ニトロ炭化水素、脂肪族−芳香族エー
テル、芳香族エーテル、カルボン酸エステル、カルメン
酸ニトリル、スルホン、燐酸ハライドまたは燐酸エステ
ルである。好適な溶剤の例はトリメチルペンタン、メチ
ルシクロヘキサン、トルエン、7.2−ジクロルエタン
、クロルベンゼン、クロルトルエン、i、、z−ジクロ
ルベンゼン、アニソール、ジ7工二ルエーテル、酢酸ブ
チルエステル、テトラメチレンスルホン、アセトニトリ
ルおよびオキシ塩化燐を包含しており、所望ならば溶剤
の混合物も使用できる。
本発明方法においては、溶剤の全重量を基にして、ホス
ゲン化すべき基本材料の一般に2〜70重量%、好まし
くは2〜≠0重量%の溶液が使用される。
ゲン化すべき基本材料の一般に2〜70重量%、好まし
くは2〜≠0重量%の溶液が使用される。
一般にホスゲン化しようとする基本材料はホスゲンの化
学量論的な蓋の約7〜70倍、好ましくは約7.05〜
7倍と組み合わせられる。上述の量のホスダンは一度に
、あるいは別法として、数個の部分に分けて反応混合物
中に添加することができる。例えば、バッチ方法におい
ては、使用すべきホスゲン量の一部のみを最初に反応混
合物に加え、ついで所定の期間にわたって分割しながら
、あるいは連続的に反応混合物中に残りの量を導入する
のが有利となり得る。
学量論的な蓋の約7〜70倍、好ましくは約7.05〜
7倍と組み合わせられる。上述の量のホスダンは一度に
、あるいは別法として、数個の部分に分けて反応混合物
中に添加することができる。例えば、バッチ方法におい
ては、使用すべきホスゲン量の一部のみを最初に反応混
合物に加え、ついで所定の期間にわたって分割しながら
、あるいは連続的に反応混合物中に残りの量を導入する
のが有利となり得る。
本発明のホスゲン化反応は、2段階の「冷−熱ホスゲン
化」という公知の原理、あるいは/段階の「熱ホスゲン
化」という原理にしたがって起こすことができる。「冷
−熱ホスゲン化」方法においては、ホスゲン化しようと
する基本材料の反応は一般に反応の開始時において約−
20〜+≠O℃、好ましくは約−10〜+30℃で起こ
シ、それにつづく熱ホスゲン化は約≠Q〜260℃、好
ましくは杓子0〜.230℃で起こる。この「冷−熱ホ
スゲン化」方法においては出発温度と上昇した温度との
間の範囲は滑らかに、あるいは段階的て通過させること
ができる。
化」という公知の原理、あるいは/段階の「熱ホスゲン
化」という原理にしたがって起こすことができる。「冷
−熱ホスゲン化」方法においては、ホスゲン化しようと
する基本材料の反応は一般に反応の開始時において約−
20〜+≠O℃、好ましくは約−10〜+30℃で起こ
シ、それにつづく熱ホスゲン化は約≠Q〜260℃、好
ましくは杓子0〜.230℃で起こる。この「冷−熱ホ
スゲン化」方法においては出発温度と上昇した温度との
間の範囲は滑らかに、あるいは段階的て通過させること
ができる。
「熱ホスダン化」方法においては、ホスゲン化しようと
する基本材料は約弘O〜λ乙O℃、好ましくは約r0〜
2.20℃の温度におりて直ちにホスゲンと接触する。
する基本材料は約弘O〜λ乙O℃、好ましくは約r0〜
2.20℃の温度におりて直ちにホスゲンと接触する。
本発明のホスゲン化は好ましくは常圧または加圧下にお
いて起こり、反応圧力は一般に約0.7〜10Qパール
、好ましくは約/〜70パール−’する。
いて起こり、反応圧力は一般に約0.7〜10Qパール
、好ましくは約/〜70パール−’する。
原則として本発明のホスゲン化はジメチルホルムアミド
のような触媒および/またはピリノンのような酸受容体
を添加することによって促進できるが、概して、ホスダ
ン化方法の反応速度はこの種の触媒を加えなくても十分
である。
のような触媒および/またはピリノンのような酸受容体
を添加することによって促進できるが、概して、ホスダ
ン化方法の反応速度はこの種の触媒を加えなくても十分
である。
本発明のホスゲン化方法の反応時間は適用される反応条
件、特に反応温度、ホスダンの過剰量、溶剤による希釈
の度合および随意に添加される触媒および/または酸受
容体によって左右される。
件、特に反応温度、ホスダンの過剰量、溶剤による希釈
の度合および随意に添加される触媒および/または酸受
容体によって左右される。
ホスダン化方法において起こシ得るあらゆる副反応を抑
制するためには、反応時間を比較的短かく、例えば0.
1−1分間とし、そして反応温度を高く、例えば約/7
0−2.20℃にするのが有利である。これは、730
〜/乙o℃に予熱した不活性溶剤中にジアミンを溶かし
た溶液と、200〜230℃に予熱した不活性溶剤中に
化学量論的な量の5〜7倍の量のホスゲンを溶かした溶
液を使用することによって遂行できる。この2つの溶液
は、混合装置、例えばミキシングジェットを使用し、随
意に加熱され、それに対応して約O,!r〜j分間の平
均滞留時間全般にわたって加圧下にセットされている反
応管中に反応混合物を連続的に流しながら反応させるよ
うな方法で、互に連続的に混合される。最終段階におい
て、反応混合物は圧力の解放によって速やかに冷却され
る。
制するためには、反応時間を比較的短かく、例えば0.
1−1分間とし、そして反応温度を高く、例えば約/7
0−2.20℃にするのが有利である。これは、730
〜/乙o℃に予熱した不活性溶剤中にジアミンを溶かし
た溶液と、200〜230℃に予熱した不活性溶剤中に
化学量論的な量の5〜7倍の量のホスゲンを溶かした溶
液を使用することによって遂行できる。この2つの溶液
は、混合装置、例えばミキシングジェットを使用し、随
意に加熱され、それに対応して約O,!r〜j分間の平
均滞留時間全般にわたって加圧下にセットされている反
応管中に反応混合物を連続的に流しながら反応させるよ
うな方法で、互に連続的に混合される。最終段階におい
て、反応混合物は圧力の解放によって速やかに冷却され
る。
適用される反応温度においてジアミンと塩化水素または
ジアミンと二酸化炭素との付加化合物を僅かしか溶解し
ない溶剤中でこれらの付加化合物を使用する場合は、一
般にその付加化合物を微細に分割した形で反応させるの
が有利である。こうすると付加化合物の表面積が増大す
るので、その溶華度が小さいにも拘らず、許容できる反
応時間内で付加化合物が反応を起こすことができる◎ホ
スrノ化反応が終了した後、気体汚染物(塩化水素、過
剰のホスゲン)を分離し、蒸留により溶剤を除去するか
、あるいはジイソシアネートよりも沸点の高い溶剤を使
用した場合は、蒸留によりジイソシアネートを遊離する
ことにより、公知の方法で反応混合物が仕上げられる。
ジアミンと二酸化炭素との付加化合物を僅かしか溶解し
ない溶剤中でこれらの付加化合物を使用する場合は、一
般にその付加化合物を微細に分割した形で反応させるの
が有利である。こうすると付加化合物の表面積が増大す
るので、その溶華度が小さいにも拘らず、許容できる反
応時間内で付加化合物が反応を起こすことができる◎ホ
スrノ化反応が終了した後、気体汚染物(塩化水素、過
剰のホスゲン)を分離し、蒸留により溶剤を除去するか
、あるいはジイソシアネートよりも沸点の高い溶剤を使
用した場合は、蒸留によりジイソシアネートを遊離する
ことにより、公知の方法で反応混合物が仕上げられる。
存在する可能性のある固体の副産物および/または存在
する可能性のある固体の基本材料は濾過または遠心分離
によって除去できる。
する可能性のある固体の基本材料は濾過または遠心分離
によって除去できる。
このようにして得られた本発明のジイソシアネートは、
所望ならばさらに、好ましくは分留によって一層精製す
ることができる。望ましいと思われる場合には、約/3
0−230℃、好ましくは約/jO〜770℃の温度で
焼き戻すことによって、問題を生ずる副産物、例えば塩
素を含む熱に不安定な化合物を除くこともできる。
所望ならばさらに、好ましくは分留によって一層精製す
ることができる。望ましいと思われる場合には、約/3
0−230℃、好ましくは約/jO〜770℃の温度で
焼き戻すことによって、問題を生ずる副産物、例えば塩
素を含む熱に不安定な化合物を除くこともできる。
反応混合物を蒸留によって仕上処理するときには、式I
に該当する本発明のジイソシアネートな純粋な形で得る
ことができる。このジイソシアネートのイソシアネート
含有量は一般に約20〜jO重量%、好ましくは約3!
j;−!;0重量%である。それらのジイソシアネート
はイソシアネート反応性の基、好ましくはヒドロキシル
基を含む化合物との反応によってポリイソシアネート重
付加生成物、好ましくはポリウレタンゲラステックを製
造するための貴重な出発原料である。これらの新規なジ
イソシアネートを本発明の上記目的に使用するとき、特
にそれをポリウレタンのペイントおよびコーティングを
製造するために使用するとき、これらのジイソシアネー
トは、公知の反応ノe−トナーとの反応によってこの目
的のために従来使用されていたジイソシアネートの代り
に使用される(例えば、「グラスチック便覧(Kuns
tstoff −Handbuch ) J 、第7巻
、ビーペツヒ(Vievreg )およびホヒトレン(
Hochtlan )著「ポリウレタン」・第、2版、
/ 9℃3年、発行所カルルノ・ンゼルフエルラーク(
Carl Hanger Verlmg )発行、の特
に第j≠O頁〜第j♂O頁を参照)。
に該当する本発明のジイソシアネートな純粋な形で得る
ことができる。このジイソシアネートのイソシアネート
含有量は一般に約20〜jO重量%、好ましくは約3!
j;−!;0重量%である。それらのジイソシアネート
はイソシアネート反応性の基、好ましくはヒドロキシル
基を含む化合物との反応によってポリイソシアネート重
付加生成物、好ましくはポリウレタンゲラステックを製
造するための貴重な出発原料である。これらの新規なジ
イソシアネートを本発明の上記目的に使用するとき、特
にそれをポリウレタンのペイントおよびコーティングを
製造するために使用するとき、これらのジイソシアネー
トは、公知の反応ノe−トナーとの反応によってこの目
的のために従来使用されていたジイソシアネートの代り
に使用される(例えば、「グラスチック便覧(Kuns
tstoff −Handbuch ) J 、第7巻
、ビーペツヒ(Vievreg )およびホヒトレン(
Hochtlan )著「ポリウレタン」・第、2版、
/ 9℃3年、発行所カルルノ・ンゼルフエルラーク(
Carl Hanger Verlmg )発行、の特
に第j≠O頁〜第j♂O頁を参照)。
本発明を適用するに当っては、この新規なジイソシアネ
ートは、そのままの形で、あるいはε−カプロラクタム
、メチル一二チルーケトオキシム。
ートは、そのままの形で、あるいはε−カプロラクタム
、メチル一二チルーケトオキシム。
マロ/酸エステルまたはエチルアセトアセ−rネートの
ようなイソシアネート基に対するマスキング剤で遮蔽し
た形で使用できる。
ようなイソシアネート基に対するマスキング剤で遮蔽し
た形で使用できる。
この新規なジイソシアネートは、第1段階において本発
明のジイソシアネートと、当量以下の量の、ポリウレタ
ン化学から公知の有機?リヒドロキシル化合物とから、
遊離のイソシアネート基を含むゾレポリマーを製造する
2段階プロセスによってポリウレタンプラスチックを製
造するのに特に適している。ついで、これらのグレ?リ
マーは、第2段階において、適当な連鎖延長剤により高
分子量のポリウレタンに転化される。
明のジイソシアネートと、当量以下の量の、ポリウレタ
ン化学から公知の有機?リヒドロキシル化合物とから、
遊離のイソシアネート基を含むゾレポリマーを製造する
2段階プロセスによってポリウレタンプラスチックを製
造するのに特に適している。ついで、これらのグレ?リ
マーは、第2段階において、適当な連鎖延長剤により高
分子量のポリウレタンに転化される。
以下の実施例においては、前記の文献と同様に、すべて
の圧力(沸点)はミリパールで、またすべての温度は℃
で示されている。
の圧力(沸点)はミリパールで、またすべての温度は℃
で示されている。
? !;l /7″1宙′##朝1fも(へイ冷のス伯
翻7 タ ンル傅田した。
翻7 タ ンル傅田した。
不飽和アミンA
!−メチルーヘクスー≠−エナール、2oooi、酢酸
アンモニウム20I、ラネー’lパ#)、2θθIおよ
び液体アンモニア3,200)jLlを70ノのオート
クレーブに導入した。70パールの圧力の下で水素を圧
入し、ついで水素圧力なざ0〜100バールに維持して
いる間攪拌しながら反応混合物をり0℃に加熱した。水
素の吸収は弘時間後に完了した。反応混合物が冷却し終
ったときに圧力を解放し、そしてアンモニアを蒸発させ
た。生成物を触媒からテ遇して、真空蒸留した。Bp2
o:夕2〜j≠℃を有するよ一メチルーヘクスー弘−二
二ルアミン/7!;011が得られた。
アンモニウム20I、ラネー’lパ#)、2θθIおよ
び液体アンモニア3,200)jLlを70ノのオート
クレーブに導入した。70パールの圧力の下で水素を圧
入し、ついで水素圧力なざ0〜100バールに維持して
いる間攪拌しながら反応混合物をり0℃に加熱した。水
素の吸収は弘時間後に完了した。反応混合物が冷却し終
ったときに圧力を解放し、そしてアンモニアを蒸発させ
た。生成物を触媒からテ遇して、真空蒸留した。Bp2
o:夕2〜j≠℃を有するよ一メチルーヘクスー弘−二
二ルアミン/7!;011が得られた。
不飽和アミンB
シトロネラールタooy、酢酸アンモニウム101、ラ
ネーコバルト1ooiおよび液体アンモニア1000−
を31のオートクレーブに導入した。90℃および♂O
〜700パールの水素圧における還元的アミン化がり0
分後に完了した。
ネーコバルト1ooiおよび液体アンモニア1000−
を31のオートクレーブに導入した。90℃および♂O
〜700パールの水素圧における還元的アミン化がり0
分後に完了した。
アンモニアを蒸発させた後、触媒を濾過によって除去し
、そして生成物を真空蒸留した。Bplo:り3〜77
℃を有する3、7−ノメチルーオクトー乙−エニルアミ
ン乙りOgが得られた。
、そして生成物を真空蒸留した。Bplo:り3〜77
℃を有する3、7−ノメチルーオクトー乙−エニルアミ
ン乙りOgが得られた。
実施例/
a)よ−メチル−ヘキサン−1,!−ノアミンの製造
≠O℃において激しく攪拌しながら、205≠IのKO
%硫酸中にシアン化水素酸300rlLlと不飽和アミ
ンA6719を7時間にわたって少しずつ加えた。≠0
℃において3時間攪拌を続け、≠j%の水酸化す) I
Jウム溶液を加えた。反応混合物を還流下で5時間加熱
してから、21のクロルベンゼンを加えた。有機相をど
0°で分離してから、70〜f00において塩の水性憑
濁液をllのクロルベンゼンで抽出した。真空蒸留によ
って、Bplo:/10〜//j0を有する3、7−
J メfルオクタンー7,7−ジアミンj了りIが生成
した。
%硫酸中にシアン化水素酸300rlLlと不飽和アミ
ンA6719を7時間にわたって少しずつ加えた。≠0
℃において3時間攪拌を続け、≠j%の水酸化す) I
Jウム溶液を加えた。反応混合物を還流下で5時間加熱
してから、21のクロルベンゼンを加えた。有機相をど
0°で分離してから、70〜f00において塩の水性憑
濁液をllのクロルベンゼンで抽出した。真空蒸留によ
って、Bplo:/10〜//j0を有する3、7−
J メfルオクタンー7,7−ジアミンj了りIが生成
した。
b) 3.7−シメチルオクタンー1,7−ノイソシ
アネートの製造 りCl /L/ペンゼア1100rttlVC30の3
.7−シメチルオクタンー1,7−ツアミンjOIを溶
かした溶液を、り0℃においてCO2で飽和させた。一
部蒸留させたクロルベンゼンsoomt中にigogの
ホスゲンを溶かした溶液を0〜20°において加えてか
ら、この反応混合物を、ホスゲンを通しながら、7時間
の間≠00に加熱した。ついでホスダン化をさらに≠0
6において≠時間、そして730゜において2時間続け
てから、窒素でホスゲンを吹き払った。蒸留によって溶
剤を除去した後、粗製ノイソシアネートを真空蒸留した
。Bpo、2: f j〜どり0を有する3、7−ノメ
チルーオクタンー1,7−ジイソシアネートj♂Iが得
られた。
アネートの製造 りCl /L/ペンゼア1100rttlVC30の3
.7−シメチルオクタンー1,7−ツアミンjOIを溶
かした溶液を、り0℃においてCO2で飽和させた。一
部蒸留させたクロルベンゼンsoomt中にigogの
ホスゲンを溶かした溶液を0〜20°において加えてか
ら、この反応混合物を、ホスゲンを通しながら、7時間
の間≠00に加熱した。ついでホスダン化をさらに≠0
6において≠時間、そして730゜において2時間続け
てから、窒素でホスゲンを吹き払った。蒸留によって溶
剤を除去した後、粗製ノイソシアネートを真空蒸留した
。Bpo、2: f j〜どり0を有する3、7−ノメ
チルーオクタンー1,7−ジイソシアネートj♂Iが得
られた。
実施例3 (1,≠−ゾイソシアナトー≠−メチルペン
タンの製造;直接ホスケ゛ン化) 21のクロルベンゼンにtooiのホスゲンを溶かした
溶液を実験室において使用する6!のホスダン化装置の
中に装入した後、10〜20℃において激しく攪拌しな
がら、Ajlの無水クロルベンゼン中に//乙Iの1,
1lt−ノアミノ−弘−メチルペンタンを含む溶液と7
時間にわたって混合した。ついでなおホスケ゛ンを導入
しながら(約/ 001/hr )、反応混合物を、初
めは急速にt。
タンの製造;直接ホスケ゛ン化) 21のクロルベンゼンにtooiのホスゲンを溶かした
溶液を実験室において使用する6!のホスダン化装置の
中に装入した後、10〜20℃において激しく攪拌しな
がら、Ajlの無水クロルベンゼン中に//乙Iの1,
1lt−ノアミノ−弘−メチルペンタンを含む溶液と7
時間にわたって混合した。ついでなおホスケ゛ンを導入
しながら(約/ 001/hr )、反応混合物を、初
めは急速にt。
℃まで、ついで3時間かけて還流温度(1,27℃)ま
で加熱した。最後に、混合物を還流温度においてさらに
7時間ホスダン化してから過剰のホスダンを蒸留によっ
て除去した。濁った溶液を冷却して濾過した。分離させ
た固体をクロルベンゼンと石油エーテルで洗浄してから
真空下で乾燥した。
で加熱した。最後に、混合物を還流温度においてさらに
7時間ホスダン化してから過剰のホスダンを蒸留によっ
て除去した。濁った溶液を冷却して濾過した。分離させ
た固体をクロルベンゼンと石油エーテルで洗浄してから
真空下で乾燥した。
この固体は1,≠−ジアミノー弘−メチルペンタン−ビ
ス−ヒドロクロリドと同定された(収量:lA3g=使
用したジアミンを基にした理論量の23チ)。透明な反
応溶液から蒸留によってクロルベンゼンを除去した。後
に残った帯褐色の流体を真空蒸留することによって、7
3ミリバールで10/〜703℃の沸点を有する無色の
流体の形で/2’AIのノイソシアネート(使用したジ
アミノを基にした理論量の71%)が得られた。
ス−ヒドロクロリドと同定された(収量:lA3g=使
用したジアミンを基にした理論量の23チ)。透明な反
応溶液から蒸留によってクロルベンゼンを除去した。後
に残った帯褐色の流体を真空蒸留することによって、7
3ミリバールで10/〜703℃の沸点を有する無色の
流体の形で/2’AIのノイソシアネート(使用したジ
アミノを基にした理論量の71%)が得られた。
C3H12N202
NCO含有量 計算値:30.0%、測定値:≠Z乙チ
実施例+L (1,≠−ノイソシアナトー≠−メチルペ
ンタンの製造;カルバメート法) 無水(1)1,、2−ゾクロルベンゼン≠l中に//乙
Iの1,≠−ジアミノー≠−メチルペンタンを溶かした
溶液を、実験室で使用する乙lのホスダン化装置の中に
入れた。室温で強く攪拌しながら、微細に分布させた気
泡の形で無水の二酸化炭素を、前記溶液中に、それが飽
和されるまで導入した。
実施例+L (1,≠−ノイソシアナトー≠−メチルペ
ンタンの製造;カルバメート法) 無水(1)1,、2−ゾクロルベンゼン≠l中に//乙
Iの1,≠−ジアミノー≠−メチルペンタンを溶かした
溶液を、実験室で使用する乙lのホスダン化装置の中に
入れた。室温で強く攪拌しながら、微細に分布させた気
泡の形で無水の二酸化炭素を、前記溶液中に、それが飽
和されるまで導入した。
つぎに、ホスゲンを導入しながら(約/ 00 &/h
r )。
r )。
初めにす早<to′C−*で、ついで3.!r待時間間
にゆつくシと還流温度(/ 7!℃)−まで混合物を加
熱した。さらに30分間還流温度でホスケ9ン化した後
、蒸留によって反応混合物から過剰のホスケ。
にゆつくシと還流温度(/ 7!℃)−まで混合物を加
熱した。さらに30分間還流温度でホスケ9ン化した後
、蒸留によって反応混合物から過剰のホスケ。
ンを除去し、ついでこの混合物を冷却し、濾過によって
固体を除去した(収量71,1/=八≠−ジアミノ−グ
ーメチルペンタン−ビス−ヒドロクロリドの理論量のl
l−%)。真空下で透明な反応溶液から分離カラムを経
て溶剤を留出させた。残った暗色の粗製イソシアネート
を真空蒸留することによって、≠と7%のNGO含有量
を有する無色の留出物/j♂Iが得られた。ガスクロマ
トグラフィー分析によれば、留出物のりlA♂チは/淳
−ゾイソシアナトー弘−メチルペンタンから構成されて
いた。
固体を除去した(収量71,1/=八≠−ジアミノ−グ
ーメチルペンタン−ビス−ヒドロクロリドの理論量のl
l−%)。真空下で透明な反応溶液から分離カラムを経
て溶剤を留出させた。残った暗色の粗製イソシアネート
を真空蒸留することによって、≠と7%のNGO含有量
を有する無色の留出物/j♂Iが得られた。ガスクロマ
トグラフィー分析によれば、留出物のりlA♂チは/淳
−ゾイソシアナトー弘−メチルペンタンから構成されて
いた。
収率:使用したジアミンを基にした理論量のg9チ。
実m例J−(1,≠−ジイソシアナトー≠−メチルペン
タンの製造;塩化水素ホスゲン化)11−1の無水1,
2−ジクロルベンゼンに//611の1,4!−ジアミ
ノ−≠−メチルペ/タンを溶かした溶液を、実験室で使
用する6ノのホスダン化装置の中に入れた。この溶液を
冷却し、かつ強く攪拌している間に、微細に分布させた
気泡の形で7311の塩化水素を室温で徐々に前記溶液
の中に導入した。ついで、生成した細かく分散した状態
の懸濁液を、ホスダンを導入している間に(約/ 30
1/br )、す早く還流温度(/7j℃)まで加熱し
、その後還流温度で≠時間ホスrン化した。
タンの製造;塩化水素ホスゲン化)11−1の無水1,
2−ジクロルベンゼンに//611の1,4!−ジアミ
ノ−≠−メチルペ/タンを溶かした溶液を、実験室で使
用する6ノのホスダン化装置の中に入れた。この溶液を
冷却し、かつ強く攪拌している間に、微細に分布させた
気泡の形で7311の塩化水素を室温で徐々に前記溶液
の中に導入した。ついで、生成した細かく分散した状態
の懸濁液を、ホスダンを導入している間に(約/ 30
1/br )、す早く還流温度(/7j℃)まで加熱し
、その後還流温度で≠時間ホスrン化した。
つぎに、蒸留によって反応混合物から過剰のホスダンを
除いてから冷却し、濾過によって固体な遊離させた(3
≠g=使用したジアミンを基にした、1,弘−ジアミン
−≠−メチルペンタンービスーヒドロクロリドの理論量
の/♂%)。ついで1分離カラムを使用して真空下で透
明な反応混合物から溶剤を留出させた。残った暗色の粗
製生成物を真空蒸留することによって、≠7..6 %
のNCO含有量を有する無色の留出物/Uり9が得られ
た。ガスクロマトグラフィー分析によれば、留出物の1
9.7チは1,弘−ジイソシアナト−≠−メチルペンタ
ンから構成されていた。
除いてから冷却し、濾過によって固体な遊離させた(3
≠g=使用したジアミンを基にした、1,弘−ジアミン
−≠−メチルペンタンービスーヒドロクロリドの理論量
の/♂%)。ついで1分離カラムを使用して真空下で透
明な反応混合物から溶剤を留出させた。残った暗色の粗
製生成物を真空蒸留することによって、≠7..6 %
のNCO含有量を有する無色の留出物/Uり9が得られ
た。ガスクロマトグラフィー分析によれば、留出物の1
9.7チは1,弘−ジイソシアナト−≠−メチルペンタ
ンから構成されていた。
収率:使用したジアミンを基にした理論量の乙タチ本発
明はこれまで説明の目的で詳細に述べてきたけれども、
このような詳細な説明は単にその目的のために述べたも
ので、本発明が特許請求の範囲に記載された事項によっ
て制限されることを除き、本発明の精神と範囲から逸脱
しないで、その詳細な説明の中で当業者が種々の変更を
加えることができるものと理解されるべきである。
明はこれまで説明の目的で詳細に述べてきたけれども、
このような詳細な説明は単にその目的のために述べたも
ので、本発明が特許請求の範囲に記載された事項によっ
て制限されることを除き、本発明の精神と範囲から逸脱
しないで、その詳細な説明の中で当業者が種々の変更を
加えることができるものと理解されるべきである。
Claims (11)
- (1)下記の式に該当するジイソシアネート、▲数式、
化学式、表等があります▼ I 式中、R_1およびR_2は同じか、または異つていて
、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表わし、そ
して R_3は2〜9個の炭素原子を有する2価の、随意に枝
分れした飽和脂肪族炭化水素基を表わす。 - (2)R_1およびR_2がメチル基である、特許請求
の範囲第(1)項記載のジイソシアネート。 - (3)R_3が1,2−エチレン基である、特許請求の
範囲第(2)項記載のジイソシアネート。 - (4)R_3が1,3−プロピレン基である、特許請求
の範囲第(2)項記載のジイソシアネート。 - (5)R_3が1,4−ブチレン基である、特許請求の
範囲第(2)項記載のジイソシアネート。 - (6)R_3が1,1−ジメチル−1,3−プロピレン
基である、特許請求の範囲第(2)項記載のジイソシア
ネート。 - (7)R_3が2−メチル−1,5−ペンタメチレン基
である、特許請求の範囲第(2)項記載のジイソシアネ
ート。 - (8)特許請求の範囲第(1)項記載のジイソシアネー
トを、イソシアネート反応性の水素を含む化合物と反応
させることからなる、ポリイソシアネート重付加生成物
の製造方法。 - (9)前記ポリイソシアネート重付加生成物がポリウレ
タンであり、かつ前記イソシアネート反応性の基がヒド
ロキシル基である、特許請求の範囲第(8)項記載の製
造方法。 - (10)前記ジイソシアネートが1,4−ジイソシアナ
ト−4−メチルペンタンである、特許請求の範囲第(8
)項記載の製造方法。 - (11)前記ジイソシアネートが1,4−ジイソシアナ
ト−4−メチルペンタンである、特許請求の範囲第(9
)項記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3608354.2 | 1986-03-13 | ||
DE19863608354 DE3608354A1 (de) | 1986-03-13 | 1986-03-13 | 1,4-diisocyanato-4-methylpentan, ein verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung als isocyanatkomponente bei der herstellung von polyurethankunststoffen |
DE3620821.3 | 1986-06-21 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62221661A true JPS62221661A (ja) | 1987-09-29 |
Family
ID=6296237
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62054317A Pending JPS62221661A (ja) | 1986-03-13 | 1987-03-11 | 脂肪族ジイソシアネ−トおよびポリウレタンプラスチツクの製造のためのそれらの使用 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62221661A (ja) |
DE (1) | DE3608354A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3620821C2 (de) * | 1986-06-21 | 1994-09-08 | Bayer Ag | Aliphatische Diisocyanate und ihre Verwendung zur Herstellung von Polyurethankunststoffen |
DE3703973A1 (de) * | 1987-02-10 | 1988-08-18 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von isocyanatgruppen aufweisenden praepolymeren, die so hergestellten praepolymeren und ihre verwendung |
DE4142275A1 (de) * | 1991-12-20 | 1993-06-24 | Bayer Ag | Isocyanatocarbonsaeuren, ein verfahren zu ihrer herstellung und ihrer verwendung |
-
1986
- 1986-03-13 DE DE19863608354 patent/DE3608354A1/de not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-03-11 JP JP62054317A patent/JPS62221661A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3608354A1 (de) | 1987-09-17 |
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