JPS6221346B2 - - Google Patents
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は2−メルカプトピリミジン類のチオー
ルカーボネート(以下、単にチオールカーボネー
トと言う)の製造法に関するものである。 例えば、t−ブチル−4・6−ジメチルピリミ
ジル−2−チオールカーボネート、ベンジル−
4・6−ジメチルピリミジル−2−チオールカー
ボネート、p−メトキシベンジル−4・6−ジメ
チルピリミジル−2−チオールカーボネートなど
のチオールカーボネートはペプチド合成又は抗生
物質などの製造時に用いるアミノ基保護剤として
有用なものである。 チオールカーボネートの製造法としては、例え
ば、特公昭51−5390号に記載あるように、下記一
般式〔〕 (式中、R1及びR2は水素原子又はアルキル基を示
し、Mはアルカリ金属を示す)で表わされるメル
カプトピリミジン類のアルカリ金属塩を不活性溶
媒中でホスゲン化して得られる下記一般式〔〕 (式中、R1及びR2は前示一般式と同じ意味を示
す)で表わされる2−メルカプトピリミジン類の
チオールクロロホーメート(以下、単にチオール
クロロホーメートと言う)と例えば、置換基を有
していてもよいベンジルアルコール又は脂肪族第
2級もしくは第3級アルコールなどと反応させる
ことにより、下記一般式〔〕 (式中、R1及びR2は前示一般式と同じ意味を示
し、R3は置換基を有していてもよいベンジル基
又はアルキル基を示す)で表わされるチオールカ
ーボネートを製造する方法が知られている。 しかしながら、この方法では、チオールクロロ
ホーメートの製造の際に、生成した前示一般式
〔〕で表わされるチオールクロロホーメートの
一部が原料である前示一般式〔〕で表わされる
2−メルカプトピリミジン類のアルカリ金属塩と
反応を起すとともに、生成したチオールクロロホ
ーメート自体が熱的に不安定であるため、その一
部が分解反応を起す傾向がある。そのため、最終
的に得られるチオールカーボネート中には、これ
らの副反応により生成した下記一般式〔〕 (式中、R1及びR2は前示一般式と同じ意味を示
す)で表わされるピリミジンチオール類のS・
S′−ジ置換ジチオ炭酸エステル(以下、単にビス
副生成物と言う)が含有される結果となる。ビス
体副生物はチオールカーボネートと性状が類似し
ているため、チオールカーボネート中に含有され
たビス体副生物の除去は難しい。 本出願人は先に、チオールカーボネート中のビ
ス体副生物を除去するための方法として、反応で
得られたチオールカーボネートを有機塩基のハロ
ゲン化水素酸塩の存在下、水と接触させる方法を
提案した。(特開昭55−157573号)しかしなが
ら、この方法はチオールカーボネートの精製法と
して優れたものであるが、対象とするチオールカ
ーボネートの種類によつては、処理時間が長く、
また、処理時間を短かくするため加温すると、チ
オールカーボネートの分解も起る傾向がある。 本発明者等は上記実情に鑑み、チオールカーボ
ネートの分解を抑制し、しかも、処理時間の短か
い更に改良されたチオールカーボネートの精製法
につき検討した結果、反応で得られたチオールカ
ーボネートをある特定の化合物と接触させること
により、本発明の目的が達成されることを知り本
発明を完成した。 すなわち、本発明の要旨は、前示一般式〔〕
で表わされる2−メルカプトピリミジン類のチオ
ールクロロホーメートを有機塩基の存在下、置換
基を有していてもよいベンジルアルコール又は脂
肪族第2級もしくは第3級アルコールとを反応さ
せて、前示一般式〔〕で表わされる2−メルカ
プトピリミジン類のチオールカーボネートを製造
する方法において、得られた前記チオールカーボ
ネートを脂肪族第1級アルコールと接触処理する
ことを特徴とする2−メルカプトピリミジン類の
チオールカーボネートの製造法に存する。 以下、本発明を詳細に説明する。 本発明で対象となるチオールクロロホーメート
としては、前示一般式〔〕で表わされる化合物
であり、通常、4・6−ジメチルピリミジル−2
−チオールクロロホーメート、4・6−ジメチル
ピリミジル−2−チオールクロロホーメート、4
−メチルピリミジル−2−チオールクロロホーメ
ート、4−メチル−6−エチルピリミジル−2−
チオールクロロホーメート、ピリミジル−2−チ
オールクロロホーメートなどが挙げられる。な
お、前示一般式〔〕のR1又はR2がアルキル基
である場合には、炭素数1〜5のアルキル基が好
ましい。 一方、置換基を有していてもよいベンジルアル
コール又は脂肪酸第2級アルコールもしくは第3
級アルコールとしては、例えば、ベンジルアルコ
ール;P−メトキシベンジルアルコール、P−エ
トキシベンジルアルコール、P−クロルベンジル
アルコール、P−ニトロベンジルアルコールなど
の炭素数1〜5の低級アルコキシ基、ハロゲン原
子、ニトロ基などの置換基を有するベンジルアル
コール;sec−ブチルアルコール、sec−アミルア
ルコールなどの炭素数3〜12の脂肪族第2級アル
コール;tert−ブチルアルコール、tert−アミル
アルコールなどの炭素数3〜12の脂肪族第3級ア
ルコールが挙げられる。 上述のチオールクロロホーメートとアルコール
との反応は有機塩基の存在下で実施されるが、有
機塩基としては、通常、ピリジン、キノリン、ト
リエチルアミン、N・N−ジエチルアニリンなど
の第3級アミンが使用される。有機塩基の使用量
は通常、チオールクロロホーメートに対して、
0.5〜10モル倍、好ましくは1〜1.5モル倍であ
る。 本発明の反応は溶媒の不存在下でも実施できる
が、好ましくは溶媒の存在下で実施される。本発
明で用いられる溶媒としては、例えば、ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族
炭化水素、ベンゼン、トルエン、クロルベンゼン
などの芳香族炭化水素、クロロホルム、四塩化炭
素、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素、ジ
イソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジエ
チルエーテルなどのエーテル類等の不活性有機溶
媒が挙げられ、特に、炭化水素又はハロゲン化炭
化水素などの水不溶性の有機溶媒が好ましい。こ
れらの不活性溶媒は単独又は2種以上混合して用
いることができる。この場合の溶媒の使用量は通
常、クロロホーメートに対して、0.2〜10重量倍
である。 反応温度は通常、−10〜50℃であり、あまり低
いと反応速度が遅く、逆に、あまり高くても副生
物の生成が多くなるので好ましくない。また、反
応時間は前記温度において、通常、2〜24時間で
ある。本発明の反応ではクロロホーメートが水と
反応しやすいので、通常、反応系内の水分濃度を
できるだけ低く抑えて反応を行なうのが好まし
い。 本発明では上述のような反応で得た前示一般式
〔〕のチオールカーボネートを脂肪酸第1級ア
ルコールと接触させることを必須条件とするもの
であるが、接触処理の時点としては、反応混合物
をそのまま引き続き処理しても、また、反応混合
物よりチオールカーボネートを一旦、分離したの
ちでもよい。なお、チオールカーボネートを分離
したのちに接触処理を行なう場合には、通常、上
述の反応時に用いる不活性溶媒中にチオールカー
ボネートを溶解させて処理するのが好ましい。 脂肪族第1級アルコールとしては、通常、メタ
ノール、エタノール、n−プロパナール、n−ブ
タノール、n−オクタノールなどの炭素数1〜10
好ましくは1〜5の脂肪族第1級アルコールが挙
げられ、なかでも、メタノール又はエタノールが
特に好ましい。これらのアルコールの使用量は通
常、チオールカーボネートに対し、0.1〜10モル
倍、好ましくは0.2〜5モル倍であり、この使用
量があまり少ないと前示一般式〔〕のビス体副
生物を十分に除去することができず、また、あま
り多くても効果としては変りはなく経済的でな
い。 脂肪族第1級アルコールとの接触処理の温度は
チオールカーボネートの種類により多少異なる
が、通常、−10〜60℃、好ましくは0〜50℃であ
り、この温度があまり低い場合には、ビス体副生
物の分解速度が遅いため処理時間が長くなり、一
方、あまり高い場合には、チオールカーボネート
の一部が分解する恐れがあるので好ましくない。
また、処理時間は処理温度により異なるが、通
常、20分〜10時間程度である。 本発明では上述の接触処理の際に、有機塩基の
ハロゲン化水素酸塩を存在させると処理時間が短
縮されるので好ましい。有機塩基としては上述の
チオールカーボネートの製造の際に用いたものと
同様のものでよく、そのハロゲン化水素酸の存在
量は通常、チオールカーボネートに対し、0.1〜
2倍モルである。なお、反応混合物をそのまま引
き続き処理する場合には、反応混合物中に有機塩
基のハロゲン化水素酸塩が含有されているので、
新たに加える必要はない。 上述の処理により、チオールカーボネート中に
含有されるビス体副生物はピリミジンチオールと
脂肪族第1級アルコールとのチオールカーボネー
トとに変化する。そして、ピリミジンチオールは
水可溶であるため水洗浄の後、水相を分離するこ
とにより容易に除去され、目的化合物は精製され
た形で有機溶媒相に残る。また、一方の新たに生
成したチオールカーボネートは目的混合物である
前示一般式〔〕のチオールカーボネートと溶解
度及び融点が異なるため有機溶媒相を冷却晶析す
る時に容易に除去されるのである。 接触処理を終えた混合物は通常、チオールカー
ボネートに対し、0.2〜10重量倍の水で1〜10回
程度、好ましくは25℃以下の低温で洗浄処理した
のち、常法に従つて晶析し前示一般式〔〕のチ
オールカーボネートの結晶を析出させ、次いで、
これを回収する。 本発明によれば、反応により得たチオールカー
ボネートより簡単にビス体副生物を除去すること
ができ、その結果、高純度のチオールカーボネー
ト結晶を回収することができる。 次に、本発明を実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実
施例に限定されるものではない。 実施例 1〜3 撹拌機及び温度調節器を有する2反応器に、
tert−ブチルアルコール89g(1.2モル)及びピ
リジン94.9g(1.2モル)を仕込み、反応系内の
温度を30℃±3℃の範囲に保持しながら、4・6
−ジメチルピリミジル−2−チオールクロロホー
メート202.5g(1.0モル)を含むヘプタン溶液
646.7gを撹拌下、5時間かけて滴下し、更に、
同温度で2時間、反応を行なつた。 反応終了後、反応混合物に第1表に示すアルコ
ール77gを添加し、25℃の温度で2時間、撹拌
下、接触処理を行なつた。 接触処理後、混合物に水600gを加え水洗した
のち、有機相と水相とに分液し、更に、有機層を
水600gで同じく3回洗浄した。そして、回収し
た有機相を0℃まで冷却し、tert−ブチル−4・
6−ジメチルピリミジル−2−チオールカーボネ
ートの結晶を析出させ、次いで、これを分離し室
温で減圧乾燥した。 このようにして得た結晶につき、原料チオール
クロロホーメートに対する収率及びビス体副生物
の含有量を測定し、第1表に示す結果を得た。 比較例 1 実施例1の方法において、反応混合物とアルコ
ールとの接触処理を省略した以外は全く同様な方
法で行なつた場合の結果を第1表に示す。
ルカーボネート(以下、単にチオールカーボネー
トと言う)の製造法に関するものである。 例えば、t−ブチル−4・6−ジメチルピリミ
ジル−2−チオールカーボネート、ベンジル−
4・6−ジメチルピリミジル−2−チオールカー
ボネート、p−メトキシベンジル−4・6−ジメ
チルピリミジル−2−チオールカーボネートなど
のチオールカーボネートはペプチド合成又は抗生
物質などの製造時に用いるアミノ基保護剤として
有用なものである。 チオールカーボネートの製造法としては、例え
ば、特公昭51−5390号に記載あるように、下記一
般式〔〕 (式中、R1及びR2は水素原子又はアルキル基を示
し、Mはアルカリ金属を示す)で表わされるメル
カプトピリミジン類のアルカリ金属塩を不活性溶
媒中でホスゲン化して得られる下記一般式〔〕 (式中、R1及びR2は前示一般式と同じ意味を示
す)で表わされる2−メルカプトピリミジン類の
チオールクロロホーメート(以下、単にチオール
クロロホーメートと言う)と例えば、置換基を有
していてもよいベンジルアルコール又は脂肪族第
2級もしくは第3級アルコールなどと反応させる
ことにより、下記一般式〔〕 (式中、R1及びR2は前示一般式と同じ意味を示
し、R3は置換基を有していてもよいベンジル基
又はアルキル基を示す)で表わされるチオールカ
ーボネートを製造する方法が知られている。 しかしながら、この方法では、チオールクロロ
ホーメートの製造の際に、生成した前示一般式
〔〕で表わされるチオールクロロホーメートの
一部が原料である前示一般式〔〕で表わされる
2−メルカプトピリミジン類のアルカリ金属塩と
反応を起すとともに、生成したチオールクロロホ
ーメート自体が熱的に不安定であるため、その一
部が分解反応を起す傾向がある。そのため、最終
的に得られるチオールカーボネート中には、これ
らの副反応により生成した下記一般式〔〕 (式中、R1及びR2は前示一般式と同じ意味を示
す)で表わされるピリミジンチオール類のS・
S′−ジ置換ジチオ炭酸エステル(以下、単にビス
副生成物と言う)が含有される結果となる。ビス
体副生物はチオールカーボネートと性状が類似し
ているため、チオールカーボネート中に含有され
たビス体副生物の除去は難しい。 本出願人は先に、チオールカーボネート中のビ
ス体副生物を除去するための方法として、反応で
得られたチオールカーボネートを有機塩基のハロ
ゲン化水素酸塩の存在下、水と接触させる方法を
提案した。(特開昭55−157573号)しかしなが
ら、この方法はチオールカーボネートの精製法と
して優れたものであるが、対象とするチオールカ
ーボネートの種類によつては、処理時間が長く、
また、処理時間を短かくするため加温すると、チ
オールカーボネートの分解も起る傾向がある。 本発明者等は上記実情に鑑み、チオールカーボ
ネートの分解を抑制し、しかも、処理時間の短か
い更に改良されたチオールカーボネートの精製法
につき検討した結果、反応で得られたチオールカ
ーボネートをある特定の化合物と接触させること
により、本発明の目的が達成されることを知り本
発明を完成した。 すなわち、本発明の要旨は、前示一般式〔〕
で表わされる2−メルカプトピリミジン類のチオ
ールクロロホーメートを有機塩基の存在下、置換
基を有していてもよいベンジルアルコール又は脂
肪族第2級もしくは第3級アルコールとを反応さ
せて、前示一般式〔〕で表わされる2−メルカ
プトピリミジン類のチオールカーボネートを製造
する方法において、得られた前記チオールカーボ
ネートを脂肪族第1級アルコールと接触処理する
ことを特徴とする2−メルカプトピリミジン類の
チオールカーボネートの製造法に存する。 以下、本発明を詳細に説明する。 本発明で対象となるチオールクロロホーメート
としては、前示一般式〔〕で表わされる化合物
であり、通常、4・6−ジメチルピリミジル−2
−チオールクロロホーメート、4・6−ジメチル
ピリミジル−2−チオールクロロホーメート、4
−メチルピリミジル−2−チオールクロロホーメ
ート、4−メチル−6−エチルピリミジル−2−
チオールクロロホーメート、ピリミジル−2−チ
オールクロロホーメートなどが挙げられる。な
お、前示一般式〔〕のR1又はR2がアルキル基
である場合には、炭素数1〜5のアルキル基が好
ましい。 一方、置換基を有していてもよいベンジルアル
コール又は脂肪酸第2級アルコールもしくは第3
級アルコールとしては、例えば、ベンジルアルコ
ール;P−メトキシベンジルアルコール、P−エ
トキシベンジルアルコール、P−クロルベンジル
アルコール、P−ニトロベンジルアルコールなど
の炭素数1〜5の低級アルコキシ基、ハロゲン原
子、ニトロ基などの置換基を有するベンジルアル
コール;sec−ブチルアルコール、sec−アミルア
ルコールなどの炭素数3〜12の脂肪族第2級アル
コール;tert−ブチルアルコール、tert−アミル
アルコールなどの炭素数3〜12の脂肪族第3級ア
ルコールが挙げられる。 上述のチオールクロロホーメートとアルコール
との反応は有機塩基の存在下で実施されるが、有
機塩基としては、通常、ピリジン、キノリン、ト
リエチルアミン、N・N−ジエチルアニリンなど
の第3級アミンが使用される。有機塩基の使用量
は通常、チオールクロロホーメートに対して、
0.5〜10モル倍、好ましくは1〜1.5モル倍であ
る。 本発明の反応は溶媒の不存在下でも実施できる
が、好ましくは溶媒の存在下で実施される。本発
明で用いられる溶媒としては、例えば、ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族
炭化水素、ベンゼン、トルエン、クロルベンゼン
などの芳香族炭化水素、クロロホルム、四塩化炭
素、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素、ジ
イソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジエ
チルエーテルなどのエーテル類等の不活性有機溶
媒が挙げられ、特に、炭化水素又はハロゲン化炭
化水素などの水不溶性の有機溶媒が好ましい。こ
れらの不活性溶媒は単独又は2種以上混合して用
いることができる。この場合の溶媒の使用量は通
常、クロロホーメートに対して、0.2〜10重量倍
である。 反応温度は通常、−10〜50℃であり、あまり低
いと反応速度が遅く、逆に、あまり高くても副生
物の生成が多くなるので好ましくない。また、反
応時間は前記温度において、通常、2〜24時間で
ある。本発明の反応ではクロロホーメートが水と
反応しやすいので、通常、反応系内の水分濃度を
できるだけ低く抑えて反応を行なうのが好まし
い。 本発明では上述のような反応で得た前示一般式
〔〕のチオールカーボネートを脂肪酸第1級ア
ルコールと接触させることを必須条件とするもの
であるが、接触処理の時点としては、反応混合物
をそのまま引き続き処理しても、また、反応混合
物よりチオールカーボネートを一旦、分離したの
ちでもよい。なお、チオールカーボネートを分離
したのちに接触処理を行なう場合には、通常、上
述の反応時に用いる不活性溶媒中にチオールカー
ボネートを溶解させて処理するのが好ましい。 脂肪族第1級アルコールとしては、通常、メタ
ノール、エタノール、n−プロパナール、n−ブ
タノール、n−オクタノールなどの炭素数1〜10
好ましくは1〜5の脂肪族第1級アルコールが挙
げられ、なかでも、メタノール又はエタノールが
特に好ましい。これらのアルコールの使用量は通
常、チオールカーボネートに対し、0.1〜10モル
倍、好ましくは0.2〜5モル倍であり、この使用
量があまり少ないと前示一般式〔〕のビス体副
生物を十分に除去することができず、また、あま
り多くても効果としては変りはなく経済的でな
い。 脂肪族第1級アルコールとの接触処理の温度は
チオールカーボネートの種類により多少異なる
が、通常、−10〜60℃、好ましくは0〜50℃であ
り、この温度があまり低い場合には、ビス体副生
物の分解速度が遅いため処理時間が長くなり、一
方、あまり高い場合には、チオールカーボネート
の一部が分解する恐れがあるので好ましくない。
また、処理時間は処理温度により異なるが、通
常、20分〜10時間程度である。 本発明では上述の接触処理の際に、有機塩基の
ハロゲン化水素酸塩を存在させると処理時間が短
縮されるので好ましい。有機塩基としては上述の
チオールカーボネートの製造の際に用いたものと
同様のものでよく、そのハロゲン化水素酸の存在
量は通常、チオールカーボネートに対し、0.1〜
2倍モルである。なお、反応混合物をそのまま引
き続き処理する場合には、反応混合物中に有機塩
基のハロゲン化水素酸塩が含有されているので、
新たに加える必要はない。 上述の処理により、チオールカーボネート中に
含有されるビス体副生物はピリミジンチオールと
脂肪族第1級アルコールとのチオールカーボネー
トとに変化する。そして、ピリミジンチオールは
水可溶であるため水洗浄の後、水相を分離するこ
とにより容易に除去され、目的化合物は精製され
た形で有機溶媒相に残る。また、一方の新たに生
成したチオールカーボネートは目的混合物である
前示一般式〔〕のチオールカーボネートと溶解
度及び融点が異なるため有機溶媒相を冷却晶析す
る時に容易に除去されるのである。 接触処理を終えた混合物は通常、チオールカー
ボネートに対し、0.2〜10重量倍の水で1〜10回
程度、好ましくは25℃以下の低温で洗浄処理した
のち、常法に従つて晶析し前示一般式〔〕のチ
オールカーボネートの結晶を析出させ、次いで、
これを回収する。 本発明によれば、反応により得たチオールカー
ボネートより簡単にビス体副生物を除去すること
ができ、その結果、高純度のチオールカーボネー
ト結晶を回収することができる。 次に、本発明を実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実
施例に限定されるものではない。 実施例 1〜3 撹拌機及び温度調節器を有する2反応器に、
tert−ブチルアルコール89g(1.2モル)及びピ
リジン94.9g(1.2モル)を仕込み、反応系内の
温度を30℃±3℃の範囲に保持しながら、4・6
−ジメチルピリミジル−2−チオールクロロホー
メート202.5g(1.0モル)を含むヘプタン溶液
646.7gを撹拌下、5時間かけて滴下し、更に、
同温度で2時間、反応を行なつた。 反応終了後、反応混合物に第1表に示すアルコ
ール77gを添加し、25℃の温度で2時間、撹拌
下、接触処理を行なつた。 接触処理後、混合物に水600gを加え水洗した
のち、有機相と水相とに分液し、更に、有機層を
水600gで同じく3回洗浄した。そして、回収し
た有機相を0℃まで冷却し、tert−ブチル−4・
6−ジメチルピリミジル−2−チオールカーボネ
ートの結晶を析出させ、次いで、これを分離し室
温で減圧乾燥した。 このようにして得た結晶につき、原料チオール
クロロホーメートに対する収率及びビス体副生物
の含有量を測定し、第1表に示す結果を得た。 比較例 1 実施例1の方法において、反応混合物とアルコ
ールとの接触処理を省略した以外は全く同様な方
法で行なつた場合の結果を第1表に示す。
【表】
実施例 4
比較例1において回収した結晶100gをヘプタ
ン250gに溶解したのち、35℃の温度でメタノー
ル20gを加え6時間、撹拌処理した。 処理後、混合物に水250gを加え水洗したの
ち、有機相と水相とを分液し、更に、有機相を同
様に3回洗浄し、次いで、有機相を0℃まで冷却
し精製された結晶を回収した。 このようにして得た結晶につき、ビス体副生物
の含有量を測定したところ、第2表に示す結果を
得た。
ン250gに溶解したのち、35℃の温度でメタノー
ル20gを加え6時間、撹拌処理した。 処理後、混合物に水250gを加え水洗したの
ち、有機相と水相とを分液し、更に、有機相を同
様に3回洗浄し、次いで、有機相を0℃まで冷却
し精製された結晶を回収した。 このようにして得た結晶につき、ビス体副生物
の含有量を測定したところ、第2表に示す結果を
得た。
【表】
実施例 5
実施例1と同じ反応器に、P−メトキシベンジ
ルアルコール124.3g(0.9モル)、ピリジン85.4g
(10.8モル)及び塩化メチレン300gを仕込み、反
応系内の温度を5〜10℃の範囲に保持しながら、
4・6−ジメチルピリミジル−2−チオールクロ
ロホーメート182.3g(0.9モル)を含むジブチル
エーテル溶液600gを撹拌下、3時間かけて滴下
し、更に、同時度で2時詰、反応を行なつた。 反応終了後、反応混合物にメタノール48gを添
加し、10℃の温度で2時間、撹拌処理を行なつ
た。 処理後、混合物に5%食塩水307gを加え洗浄
したのち、有機相と水相とを分液し、更に、有機
相をクエン酸56.7gを含む水363.7gで1回、水
307gで2回、洗浄した。 そして、回収した有機相を減圧下、65℃以下の
温度で加熱処理し、塩化メチレンを主体とする軽
沸分300gを留去したのち、残つた有機相を0℃
まで冷却し、P−メトキシベンジル−4・6−ジ
メチルピリミジル−2−チオールカーボネートの
結晶を析出させ、次いで、これを分離し室温で減
圧乾燥した。 このようにして得た結晶につき、実施例1と同
様に、収率及びビス体副生物の含有量を測定した
結果を第3表に示す。 比較例 2 実施例5の方法において、反応混合物とメタノ
ールとの接触処理を省略した以外は全く同様な方
法で行なつた場合の結果を第3表に示す。
ルアルコール124.3g(0.9モル)、ピリジン85.4g
(10.8モル)及び塩化メチレン300gを仕込み、反
応系内の温度を5〜10℃の範囲に保持しながら、
4・6−ジメチルピリミジル−2−チオールクロ
ロホーメート182.3g(0.9モル)を含むジブチル
エーテル溶液600gを撹拌下、3時間かけて滴下
し、更に、同時度で2時詰、反応を行なつた。 反応終了後、反応混合物にメタノール48gを添
加し、10℃の温度で2時間、撹拌処理を行なつ
た。 処理後、混合物に5%食塩水307gを加え洗浄
したのち、有機相と水相とを分液し、更に、有機
相をクエン酸56.7gを含む水363.7gで1回、水
307gで2回、洗浄した。 そして、回収した有機相を減圧下、65℃以下の
温度で加熱処理し、塩化メチレンを主体とする軽
沸分300gを留去したのち、残つた有機相を0℃
まで冷却し、P−メトキシベンジル−4・6−ジ
メチルピリミジル−2−チオールカーボネートの
結晶を析出させ、次いで、これを分離し室温で減
圧乾燥した。 このようにして得た結晶につき、実施例1と同
様に、収率及びビス体副生物の含有量を測定した
結果を第3表に示す。 比較例 2 実施例5の方法において、反応混合物とメタノ
ールとの接触処理を省略した以外は全く同様な方
法で行なつた場合の結果を第3表に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記一般式〔〕 (式中、R1及びR2は水素原子又はアルキル基を示
す)で表わされる2−メルカプトピリミジン類の
チオールクロロホーメートを有機塩基の存在下、
置換基を有していてもよいベンジルアルコール又
は脂肪族第2級もしくは第3級アルコールとを反
応させて、下記一般式〔〕 (式中、R1及びR2は前示一般式と同じ意味を示
し、R3は置換基を有していてもよいベンジル基
又はアルキル基を示す)で表わされる2−メルカ
プトピリミジン類のチオールカーボネートを製造
する方法において、得られた前記チオールカーボ
ネートを脂肪族第1級アルコールと接触処理する
ことを特徴とする2−メルカプトピリミジン類の
チオールカーボネートの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57220711A JPS59110681A (ja) | 1982-12-16 | 1982-12-16 | 2−メルカプトピリミジン類のチオ−ルカ−ボネ−トの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57220711A JPS59110681A (ja) | 1982-12-16 | 1982-12-16 | 2−メルカプトピリミジン類のチオ−ルカ−ボネ−トの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59110681A JPS59110681A (ja) | 1984-06-26 |
JPS6221346B2 true JPS6221346B2 (ja) | 1987-05-12 |
Family
ID=16755301
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57220711A Granted JPS59110681A (ja) | 1982-12-16 | 1982-12-16 | 2−メルカプトピリミジン類のチオ−ルカ−ボネ−トの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59110681A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03210266A (ja) * | 1990-01-12 | 1991-09-13 | Shinwa Corp | 蒸気加熱滅菌装置 |
-
1982
- 1982-12-16 JP JP57220711A patent/JPS59110681A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03210266A (ja) * | 1990-01-12 | 1991-09-13 | Shinwa Corp | 蒸気加熱滅菌装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59110681A (ja) | 1984-06-26 |
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