JPS62199018A - ポジ型レジストの現像装置 - Google Patents
ポジ型レジストの現像装置Info
- Publication number
- JPS62199018A JPS62199018A JP4257786A JP4257786A JPS62199018A JP S62199018 A JPS62199018 A JP S62199018A JP 4257786 A JP4257786 A JP 4257786A JP 4257786 A JP4257786 A JP 4257786A JP S62199018 A JPS62199018 A JP S62199018A
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- JP
- Japan
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- resist
- developer
- upper plate
- workpiece
- holding
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- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
、産１ユｊ冴旧１止夏
本発明は、レジストプロセスにおけるポジ型レジストの
現像装置に関する。
現像装置に関する。
丈来夏技五
近年のレジストプロセスでは、ネガ型のレジストに比較
して解像度が高いなどの理由からネガ型に代わってポジ
型のレジストが実用化されてきている。ポジ型のレジス
トの現像には、例えば当該レジスト上に現像液を表面張
力によってのせて一定時間おくことでレジストの露光部
分を現像させる方法が用いられている。
して解像度が高いなどの理由からネガ型に代わってポジ
型のレジストが実用化されてきている。ポジ型のレジス
トの現像には、例えば当該レジスト上に現像液を表面張
力によってのせて一定時間おくことでレジストの露光部
分を現像させる方法が用いられている。
このような現像方法においては第３図に示すような現像
装置を用いる。つまり、真空チャ・ツク機能を備えた保
持台１の載置板１ａに、ポジ型のレジスト２が被着され
ているウェハなどの被加工物３をそのレジスト２を上に
してチャッキングする。
装置を用いる。つまり、真空チャ・ツク機能を備えた保
持台１の載置板１ａに、ポジ型のレジスト２が被着され
ているウェハなどの被加工物３をそのレジスト２を上に
してチャッキングする。
そして、保持台１の上方に配置されている現像液供給源
（図示省略）のノズル４から現像液５を滴下して、被加
工物３の表面張力でレジスト２全面に現像液５をのせて
、一定時間おいておくことによりレジスト２の露光部分
を現像させる。なお、現像液５をのせてからはレジスト
２の現像効率を高めるために、保−持合ｌを第３図矢印
のようにゆっくり回転させたり止めたりしてレジスト２
上の現像液５を攪拌させることもある。
（図示省略）のノズル４から現像液５を滴下して、被加
工物３の表面張力でレジスト２全面に現像液５をのせて
、一定時間おいておくことによりレジスト２の露光部分
を現像させる。なお、現像液５をのせてからはレジスト
２の現像効率を高めるために、保−持合ｌを第３図矢印
のようにゆっくり回転させたり止めたりしてレジスト２
上の現像液５を攪拌させることもある。
＜ｎＳシよ゛と る。占
上述した現像法では、現像液５が被加工物３の表面張力
のみで保持されているため、レジスト２上に充分な量の
現像液５をのせることが困難となる傾向がある。それと
、現像液５を攪拌するときでもあまり高速で回転させる
ことは不可能であり、現像効率を高めるにも一定の限度
がある。このようなことから、上記従来の現像方法では
現像に要する時間が比較的長くかかっていた。
のみで保持されているため、レジスト２上に充分な量の
現像液５をのせることが困難となる傾向がある。それと
、現像液５を攪拌するときでもあまり高速で回転させる
ことは不可能であり、現像効率を高めるにも一定の限度
がある。このようなことから、上記従来の現像方法では
現像に要する時間が比較的長くかかっていた。
本発明は上記事情に鑑みて創案されたもので、現像に要
する時間を短縮させることができるポジ型レジストの現
像装置を提供することを目的としている。
する時間を短縮させることができるポジ型レジストの現
像装置を提供することを目的としている。
ｉ 占 ° るための
本発明のポジ型レジストの現像装置は、ポジ型のレジス
トが被着されている被加工物をそのレジストを上にして
保持する保持台と、この保持台の上方に昇降自在に配置
されかつ前記被加工物上のレジストとの間に現像液保持
間隙を形成する上板と、この上板と前記被加工物とで形
成する現像液保持間隙に対して現像液を供給させる現像
液供給手段とを備えている。
トが被着されている被加工物をそのレジストを上にして
保持する保持台と、この保持台の上方に昇降自在に配置
されかつ前記被加工物上のレジストとの間に現像液保持
間隙を形成する上板と、この上板と前記被加工物とで形
成する現像液保持間隙に対して現像液を供給させる現像
液供給手段とを備えている。
作且
被加工物に被着させているレジストを上にして、該被加
工物が保持台上に保持される。現像液の供給時には、上
板を下降させて被加工物に対して近接させることにより
現像液保持間隙を狭める。そして、前記現像液保持間隙
内に現像液供給手段から現像液を適量ずつ供給させつつ
前記上板をゆっ（り上昇させて該現像液保持間隙を広げ
ていくと、現像液保持間隙に現像液が被加工物と上板の
間における表面張力で保持される。
工物が保持台上に保持される。現像液の供給時には、上
板を下降させて被加工物に対して近接させることにより
現像液保持間隙を狭める。そして、前記現像液保持間隙
内に現像液供給手段から現像液を適量ずつ供給させつつ
前記上板をゆっ（り上昇させて該現像液保持間隙を広げ
ていくと、現像液保持間隙に現像液が被加工物と上板の
間における表面張力で保持される。
１崖■
以下図面を参照して本発明の一実施例について説明する
。
。
第１図に示す現像装置において、符号１０は熱伝導率の
低い材質例えばテフロンなどからなる縦断面略丁字形状
をした保持台で、真空チャック機能を有している。具体
的には、保持台１０は、平面視略円板状をした載置板工
１と、載置板ｌｌの下面中心位置に連結し鉛直方向に延
在する中空状の回転軸１２とを備えている。保持台１０
の載置板１１には、ポジ型のレジスト２０が被着されて
いる例えば半導体ウェハなどの被加工物３０がそのレジ
スト２０を上にして保持されるようになっている。この
保持台１０の上方には、昇降自在な平面視略円板状の上
板４０が配置されている。上板４０は、その上面中心位
置に連結し鉛直方向に延在する回転軸４１によって支持
されていて、被加工物３０のレジスト２０との間に現像
液保持間隙りが形成される構成になっている。
低い材質例えばテフロンなどからなる縦断面略丁字形状
をした保持台で、真空チャック機能を有している。具体
的には、保持台１０は、平面視略円板状をした載置板工
１と、載置板ｌｌの下面中心位置に連結し鉛直方向に延
在する中空状の回転軸１２とを備えている。保持台１０
の載置板１１には、ポジ型のレジスト２０が被着されて
いる例えば半導体ウェハなどの被加工物３０がそのレジ
スト２０を上にして保持されるようになっている。この
保持台１０の上方には、昇降自在な平面視略円板状の上
板４０が配置されている。上板４０は、その上面中心位
置に連結し鉛直方向に延在する回転軸４１によって支持
されていて、被加工物３０のレジスト２０との間に現像
液保持間隙りが形成される構成になっている。
回転軸４１は保持台１０の回転、軸１２と同軸伏に配置
されている。そして、上板４０には、被加工物３０のレ
ジスト２０上に現像液５０を供給させる現像液供給手段
（図示省略）のノズル６０が複数本取付けられている。
されている。そして、上板４０には、被加工物３０のレ
ジスト２０上に現像液５０を供給させる現像液供給手段
（図示省略）のノズル６０が複数本取付けられている。
さて、本実施例において、上記した保持台１０および上
板４０は、図中矢印のようにそれぞれの回転軸１２．４
１を中心として回動しうるように構成されている。その
動きとしては、例えば正転・反転の繰り返し、或いは正
転させたり止めたりするなどが可能である。
板４０は、図中矢印のようにそれぞれの回転軸１２．４
１を中心として回動しうるように構成されている。その
動きとしては、例えば正転・反転の繰り返し、或いは正
転させたり止めたりするなどが可能である。
このような現像装置を用いて被加工物３０に被着させて
いるポジ型のレジスト２０を現像する手順を説明する。
いるポジ型のレジスト２０を現像する手順を説明する。
まず、保持台１０の載置板１１上にレジスト２０を上に
して被加工物３０を載せ、真空排気して被加工物３０を
保持する。次に、上板４０を下降させてることにより被
加工物３０に近接させて現像液保持間隙りを狭めておき
、ノズル６０から現像液５０を滴下させて現像液保持間
１１ｈつまりレジスト２０と上板４０の下面４２との間
に現像液５０を供給させながら、上板４０を少しずつ上
昇させて現像液保持間隙りを広げることで、上板４０と
レジスト２０間の表面張力により、現像液５０を現像液
保持間隙り内に保持させる。勿論、上板４０と被加工物
３０のレジスト２０とによる表面張力は従来のそれに比
べて大きいのが明白である。よって、充分な量の現像液
５０を利用してレジスト２０の現像が行えるのである。
して被加工物３０を載せ、真空排気して被加工物３０を
保持する。次に、上板４０を下降させてることにより被
加工物３０に近接させて現像液保持間隙りを狭めておき
、ノズル６０から現像液５０を滴下させて現像液保持間
１１ｈつまりレジスト２０と上板４０の下面４２との間
に現像液５０を供給させながら、上板４０を少しずつ上
昇させて現像液保持間隙りを広げることで、上板４０と
レジスト２０間の表面張力により、現像液５０を現像液
保持間隙り内に保持させる。勿論、上板４０と被加工物
３０のレジスト２０とによる表面張力は従来のそれに比
べて大きいのが明白である。よって、充分な量の現像液
５０を利用してレジスト２０の現像が行えるのである。
この状態で一定時間おいておくのであるが、本実施例で
は、保持台１０および上板４０をそれぞれ同期させて矢
印のようにゆっくり正転・反転させて現像液５０を攪拌
させることによってレジスト２０の現像効率を向上させ
るようにしている。このようにしてレジスト２０の現像
が終了した被加工物３０はリンス工程へと送られる。
は、保持台１０および上板４０をそれぞれ同期させて矢
印のようにゆっくり正転・反転させて現像液５０を攪拌
させることによってレジスト２０の現像効率を向上させ
るようにしている。このようにしてレジスト２０の現像
が終了した被加工物３０はリンス工程へと送られる。
金里少劾釆
本発明にかかる現像装置では、上板と被加工物のレジス
ト間の表面張力が従来のそれよりも大きくなる上、上板
と被加工物間の表面張力によって現像液保持間隙内に現
像液を保持させているから、現像液が被加工物から簡単
に落ちるおそれはない。
ト間の表面張力が従来のそれよりも大きくなる上、上板
と被加工物間の表面張力によって現像液保持間隙内に現
像液を保持させているから、現像液が被加工物から簡単
に落ちるおそれはない。
したがって、本発明の現像装置を用いてポジ型のレジス
トを現像するときは充分な量の現像液を利用できるから
、現像に要する時間を短縮させることができる。
トを現像するときは充分な量の現像液を利用できるから
、現像に要する時間を短縮させることができる。
第１図は本発明の一実施例である現像装置の構成を示す
概略図、第２図は第１図に示す上坂の平面図、第３図は
従来用いていた現像装置の構成を示す概略図である。 １０・・・保持台 ２０・・・レジスト ３０・・・被加工物 ４０・・・上板 ｈ・・・現像液保持間隙。 特許出願人 ローム株式会社 代理人 弁理士 大 西 孝 治 す。 第２図 第３図
概略図、第２図は第１図に示す上坂の平面図、第３図は
従来用いていた現像装置の構成を示す概略図である。 １０・・・保持台 ２０・・・レジスト ３０・・・被加工物 ４０・・・上板 ｈ・・・現像液保持間隙。 特許出願人 ローム株式会社 代理人 弁理士 大 西 孝 治 す。 第２図 第３図
Claims (1)
- （１）ポジ型のレジストが被着されている被加工物をそ
のレジストを上にして保持する保持台と、この保持台の
上方に昇降自在に配置されかつ前記被加工物上のレジス
トとの間に現像液保持間隙を形成する上板と、この上板
と前記被加工物とで形成する現像液保持間隙に対して現
像液を供給させる現像液供給手段とを備えていることを
特徴とするポジ型レジストの現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4257786A JPS62199018A (ja) | 1986-02-26 | 1986-02-26 | ポジ型レジストの現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4257786A JPS62199018A (ja) | 1986-02-26 | 1986-02-26 | ポジ型レジストの現像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62199018A true JPS62199018A (ja) | 1987-09-02 |
Family
ID=12639917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4257786A Pending JPS62199018A (ja) | 1986-02-26 | 1986-02-26 | ポジ型レジストの現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62199018A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016004894A (ja) * | 2014-06-17 | 2016-01-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像方法、現像装置及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5655048A (en) * | 1979-10-11 | 1981-05-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Developing method and device therefor |
| JPS60138550A (ja) * | 1983-12-27 | 1985-07-23 | Toshiba Corp | レジスト現像装置 |
| JPS60140350A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-25 | Toshiba Corp | 現像装置 |
-
1986
- 1986-02-26 JP JP4257786A patent/JPS62199018A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5655048A (en) * | 1979-10-11 | 1981-05-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Developing method and device therefor |
| JPS60138550A (ja) * | 1983-12-27 | 1985-07-23 | Toshiba Corp | レジスト現像装置 |
| JPS60140350A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-25 | Toshiba Corp | 現像装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016004894A (ja) * | 2014-06-17 | 2016-01-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像方法、現像装置及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
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