JPS62195836A - X線発生装置 - Google Patents
X線発生装置Info
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- JPS62195836A JPS62195836A JP61037437A JP3743786A JPS62195836A JP S62195836 A JPS62195836 A JP S62195836A JP 61037437 A JP61037437 A JP 61037437A JP 3743786 A JP3743786 A JP 3743786A JP S62195836 A JPS62195836 A JP S62195836A
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- Japan
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- electrodes
- side electrode
- electrode
- anode
- discharge
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- Granted
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明けX線発生装置に係り、特にX線リソグラフィに
好適hX線発生装置に関する。
好適hX線発生装置に関する。
大規模集積回路製造用として近年軟X線を使用するリン
グラフィ装置が検討されている。この軟X線源としては
、対陰極形X線管、シンクロトロン放射光、高温プラズ
マのピンチ効果によるXi発生管などがある。対陰極形
は輝度が小さいと言う欠点があり、シンクロトロン放射
光は、設備費用が高価になる。このため、リソグラフィ
用としては安価で高輝度が得られるプラズマX線源が壱
望視されている。プラズマX線源として例えば公開特許
公報昭58−188040号にて提案されている真空ス
パーク式のものがある。この方式は第3図に示すように
真空容器1内に一対の電極2,3が対向して設けられて
いる。両電極間にit真空容器1外に設けられた充電装
#4により充電されるコンデンサ5が接続されている。
グラフィ装置が検討されている。この軟X線源としては
、対陰極形X線管、シンクロトロン放射光、高温プラズ
マのピンチ効果によるXi発生管などがある。対陰極形
は輝度が小さいと言う欠点があり、シンクロトロン放射
光は、設備費用が高価になる。このため、リソグラフィ
用としては安価で高輝度が得られるプラズマX線源が壱
望視されている。プラズマX線源として例えば公開特許
公報昭58−188040号にて提案されている真空ス
パーク式のものがある。この方式は第3図に示すように
真空容器1内に一対の電極2,3が対向して設けられて
いる。両電極間にit真空容器1外に設けられた充電装
#4により充電されるコンデンサ5が接続されている。
電極2.3間で放電させるには、捷ず第3電極6に適宜
な手段で電圧を印加し電極2.6間、あるいは電極3.
6間で放電させると、これをトリガに電極2.3間が放
電する。この放電により電極2.3間にパルス状の大電
流が流れ、両電極より金属蒸気が大量に発生すると共に
大電流通電、による磁界により電極周辺のプラズマがし
ぼり込まれZピンチが発生する。このZピンチ現象によ
り発生する特性X線を図示矢印の方向に設けられた露光
装置内に引込んでシリコンウェハ等全露光するものであ
る。ところで、真空スパーク式の場合、放電による金輌
蒸気の発生を容易にするため、両電極弁先端針状にする
等の構造が好適である。しかし、この場合、両電極共先
端部の消耗がはげしく両電極を供給する必要があり、装
置が複雑に々る。真空スパーク式の場合、一般に陽極側
電極をX線発生物質とすることが望捷しいとされている
。これは、電極間課電により陰極側より陽極側に電子が
飛び出し、陽極側に衝突することで陽極表面が加熱され
金属蒸気が発生し易いと考えられていた。このため陽極
側電極を針状にする構造が好んで採用されている(例え
ば、安藤他:低インダクタンス真空スパークによる多価
イオンの分光:応用物理、第49巻、第1号(1980
)) 〔発明が解決しようとする問題点] 上記従来技術は電極消耗やそれに伴う放電電圧のばらつ
きなどの点について配慮されておらず、高頻度に耐え、
かつ安定な高輝度のX線が必要とされるリソグラフィ用
のX線源としての適用が困難であった。
な手段で電圧を印加し電極2.6間、あるいは電極3.
6間で放電させると、これをトリガに電極2.3間が放
電する。この放電により電極2.3間にパルス状の大電
流が流れ、両電極より金属蒸気が大量に発生すると共に
大電流通電、による磁界により電極周辺のプラズマがし
ぼり込まれZピンチが発生する。このZピンチ現象によ
り発生する特性X線を図示矢印の方向に設けられた露光
装置内に引込んでシリコンウェハ等全露光するものであ
る。ところで、真空スパーク式の場合、放電による金輌
蒸気の発生を容易にするため、両電極弁先端針状にする
等の構造が好適である。しかし、この場合、両電極共先
端部の消耗がはげしく両電極を供給する必要があり、装
置が複雑に々る。真空スパーク式の場合、一般に陽極側
電極をX線発生物質とすることが望捷しいとされている
。これは、電極間課電により陰極側より陽極側に電子が
飛び出し、陽極側に衝突することで陽極表面が加熱され
金属蒸気が発生し易いと考えられていた。このため陽極
側電極を針状にする構造が好んで採用されている(例え
ば、安藤他:低インダクタンス真空スパークによる多価
イオンの分光:応用物理、第49巻、第1号(1980
)) 〔発明が解決しようとする問題点] 上記従来技術は電極消耗やそれに伴う放電電圧のばらつ
きなどの点について配慮されておらず、高頻度に耐え、
かつ安定な高輝度のX線が必要とされるリソグラフィ用
のX線源としての適用が困難であった。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を除去し、電
極消耗が小さく放電′重圧のバラツキの小さい安定な高
輝度のX線源を提供するにある。
極消耗が小さく放電′重圧のバラツキの小さい安定な高
輝度のX線源を提供するにある。
上記目的を達成するために、本発明では陽極の先端部の
曲率半径全陰極の曲率半径よりも大きくするという手段
を構じる。
曲率半径全陰極の曲率半径よりも大きくするという手段
を構じる。
従来は、陰極並びに陽極とも針状電極に形成されてきた
が、この方式では電極の先端部に電流が集中し、両電極
が溶損する。本発明では陽極の曲f4径が大きくなって
いるため、電子の入射する実効的面積が増大し、電流密
度が下り陽極の消耗が先ず小さくなる。陽極部の電子補
集面積の増大に伴い、陰極側も陰極点が陰極全面に分布
するようになり、陰極は表面が均一に消耗するように々
る。その結果、陰極や陽極の先端部だけが局部的に溶損
することが無くなり、消耗が小さく安定した放電電圧の
X線発生装置を提供できる。
が、この方式では電極の先端部に電流が集中し、両電極
が溶損する。本発明では陽極の曲f4径が大きくなって
いるため、電子の入射する実効的面積が増大し、電流密
度が下り陽極の消耗が先ず小さくなる。陽極部の電子補
集面積の増大に伴い、陰極側も陰極点が陰極全面に分布
するようになり、陰極は表面が均一に消耗するように々
る。その結果、陰極や陽極の先端部だけが局部的に溶損
することが無くなり、消耗が小さく安定した放電電圧の
X線発生装置を提供できる。
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。従来
技術で述べたものと同一機能を有するものは同一番号で
表わした。真空容器1内に対向する電極7.8を設け、
従来技術で述べた第3電極の替わりに外部スイッチ9を
設けである。この場合、両電極に高融点のX線発生物質
例えばタングステンモリブデン等を用い、陽極側電極7
の先端を球状にして陰極側電極8に円錐状の電極を用い
て陽極側の曲率半径を陰極側の曲率半径より大きくして
いる。充電装置4によりコンデンサ5を充電し、所望の
電圧でスイッチ9を投入し対向電極7.8間で放電させ
る。この放電によね、対向電極に用いる拐質により、特
有の特性X線が発生できる。この特性X線全矢印の方向
に設けた露光装置に引込みX線レジストを塗付したシリ
コンウェハー等を露光する。ところで、従来の1.極の
消耗は第4図(a)に示すように電極の先端部が大きく
溶損するのに対し、本発明では第4図(b)に示すよう
に陽極並びに陰極表面とも広い範囲がわずかに消耗する
形態となる。これは、電子を補集する陽極の実効面積が
増えたために先ず陽極の電流密度が小さくなり消耗量が
減り、それに対応して陰極側も陰極点が陰極の表面部の
広い範囲に分布するようになり、陰極側も表面部位が均
一に消耗するようになるためである。このように、第1
図の電極構成によれば、陽極側電極7の位置を一定に保
ち陰極側電極8のみ、数十〜数百回の放電毎にわずかず
つ可変することで、安定な放電が得られると共に、Zピ
ンチの発生する位置もほとんど変動せず、高頻度の放電
が可能でかつ、高輝度のX線が安定に発生できる効果が
ある。
技術で述べたものと同一機能を有するものは同一番号で
表わした。真空容器1内に対向する電極7.8を設け、
従来技術で述べた第3電極の替わりに外部スイッチ9を
設けである。この場合、両電極に高融点のX線発生物質
例えばタングステンモリブデン等を用い、陽極側電極7
の先端を球状にして陰極側電極8に円錐状の電極を用い
て陽極側の曲率半径を陰極側の曲率半径より大きくして
いる。充電装置4によりコンデンサ5を充電し、所望の
電圧でスイッチ9を投入し対向電極7.8間で放電させ
る。この放電によね、対向電極に用いる拐質により、特
有の特性X線が発生できる。この特性X線全矢印の方向
に設けた露光装置に引込みX線レジストを塗付したシリ
コンウェハー等を露光する。ところで、従来の1.極の
消耗は第4図(a)に示すように電極の先端部が大きく
溶損するのに対し、本発明では第4図(b)に示すよう
に陽極並びに陰極表面とも広い範囲がわずかに消耗する
形態となる。これは、電子を補集する陽極の実効面積が
増えたために先ず陽極の電流密度が小さくなり消耗量が
減り、それに対応して陰極側も陰極点が陰極の表面部の
広い範囲に分布するようになり、陰極側も表面部位が均
一に消耗するようになるためである。このように、第1
図の電極構成によれば、陽極側電極7の位置を一定に保
ち陰極側電極8のみ、数十〜数百回の放電毎にわずかず
つ可変することで、安定な放電が得られると共に、Zピ
ンチの発生する位置もほとんど変動せず、高頻度の放電
が可能でかつ、高輝度のX線が安定に発生できる効果が
ある。
本発明では、陰極側の先端部の曲率半径又は太さはでき
る限り小さい方が強いX線を発生でき、特にこの曲率半
径又は太さij: 5 m m以下にすると効果的であ
る。又、電極の消耗の面からは、陽極側の先端部の曲率
半径を、陰極側の先端部の曲率半径又は太さの2倍以上
にすると非常に効果的である。
る限り小さい方が強いX線を発生でき、特にこの曲率半
径又は太さij: 5 m m以下にすると効果的であ
る。又、電極の消耗の面からは、陽極側の先端部の曲率
半径を、陰極側の先端部の曲率半径又は太さの2倍以上
にすると非常に効果的である。
第2図に他の実施例ケ示す。第1図の陽極側電極7の中
心部に穴9をあけ、電極の上部の真空容器内で連通して
いる。この電極の場合、陽極側型、極7の先端部に設け
た穴9の周辺で放電することになり穴径の大きさでアー
クの広がりが規制できる。強力なZピンチを発生させる
には、アークに広がりを持たせ、多量のプラズマ全捕捉
することが有効であり、高輝度のX線が発生できる効果
がある。又、この穴9は同一容器内で連通]〜でいるた
め、真空漏れの心配がなく、かつ、この連通ずる穴を通
して放電による金属蒸気が煙突効果で吸い一トけられる
ため、金属蒸気が中心部に集まり易く、Z、ピンチの発
生位置のばらつきが小さいという効果もある。さらにZ
ピンチ発生後の不要金属蒸気を穴9を通l〜で速やかに
排出できるので、電極間の絶縁回復が即く、連続的なく
り返し放電が可能になる効果がある。
心部に穴9をあけ、電極の上部の真空容器内で連通して
いる。この電極の場合、陽極側型、極7の先端部に設け
た穴9の周辺で放電することになり穴径の大きさでアー
クの広がりが規制できる。強力なZピンチを発生させる
には、アークに広がりを持たせ、多量のプラズマ全捕捉
することが有効であり、高輝度のX線が発生できる効果
がある。又、この穴9は同一容器内で連通]〜でいるた
め、真空漏れの心配がなく、かつ、この連通ずる穴を通
して放電による金属蒸気が煙突効果で吸い一トけられる
ため、金属蒸気が中心部に集まり易く、Z、ピンチの発
生位置のばらつきが小さいという効果もある。さらにZ
ピンチ発生後の不要金属蒸気を穴9を通l〜で速やかに
排出できるので、電極間の絶縁回復が即く、連続的なく
り返し放電が可能になる効果がある。
本発明によれば、電極の消耗が少ない安定な放電が得ら
れるため、高頻度に耐えかつ高輝度のX線が安定に発生
できるX線源が得られる効果がある。
れるため、高頻度に耐えかつ高輝度のX線が安定に発生
できるX線源が得られる効果がある。
第1図は本発明による実施例を示す概略図、第2図は本
発明による他の実施例を示す概略図、第3図は従来技術
を示す概略図、第4図は本発明の詳細説明図である。 ■・・・真空容器、7・・・陽極側電極、8・・・陰極
側電極、9・・・穴。
発明による他の実施例を示す概略図、第3図は従来技術
を示す概略図、第4図は本発明の詳細説明図である。 ■・・・真空容器、7・・・陽極側電極、8・・・陰極
側電極、9・・・穴。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、真空容器と該真空容器内に設けられた一対の電極並
びに該電極に接続されたパルス大電流源を備えてなるX
線発生装置において、前記一対の電極のうち陰極側電極
先端の曲率半径又は太さを陽極側電極の先端の曲率半径
より小さく構成したことを特徴とするX線発生装置。 2、特許請求の範囲第1項において、陰極側電極先端部
の曲率半径又は太さを陽極側電極の先端の曲率半径の1
/2以下とし且つ5mm以下としたところに特徴を有す
るX線発生装置。 3、特許請求の範囲第1項において、陰極側電極先端部
の曲率半径又は太さを陽極側電極の先端の曲率半径の1
/2以下で且つ5mm以下とし該陽極の軸中心部に開孔
部を設けてなるところに特徴を有するX線発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61037437A JPH0740475B2 (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | X線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61037437A JPH0740475B2 (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | X線発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62195836A true JPS62195836A (ja) | 1987-08-28 |
JPH0740475B2 JPH0740475B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=12497490
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61037437A Expired - Lifetime JPH0740475B2 (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | X線発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0740475B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58188040A (ja) * | 1982-04-28 | 1983-11-02 | Toshiba Corp | X線発生装置 |
JPS59198645A (ja) * | 1983-04-27 | 1984-11-10 | Hitachi Ltd | 軟x線発生装置 |
-
1986
- 1986-02-24 JP JP61037437A patent/JPH0740475B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58188040A (ja) * | 1982-04-28 | 1983-11-02 | Toshiba Corp | X線発生装置 |
JPS59198645A (ja) * | 1983-04-27 | 1984-11-10 | Hitachi Ltd | 軟x線発生装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0740475B2 (ja) | 1995-05-01 |
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