JPS59198645A - 軟ｘ線発生装置 - Google Patents
軟ｘ線発生装置Info
- Publication number
- JPS59198645A JPS59198645A JP58072889A JP7288983A JPS59198645A JP S59198645 A JPS59198645 A JP S59198645A JP 58072889 A JP58072889 A JP 58072889A JP 7288983 A JP7288983 A JP 7288983A JP S59198645 A JPS59198645 A JP S59198645A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- discharge
- soft
- helium gas
- reservoir
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は軟Ｘ線発生装置の改良に係り、特に、この種装
置における大出力化に好適な構造に関する。
置における大出力化に好適な構造に関する。
Ｘ線、特に、特性Ｘ＠を主体とする軟Ｘ線の発生装置の
１つに、第１図に示す間隙放電装置がある（ Ｐｈｙｓ
ｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ Ｉ、ｅｔｔｅｒｓ、 ４０
（ｓ） 。
１つに、第１図に示す間隙放電装置がある（ Ｐｈｙｓ
ｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ Ｉ、ｅｔｔｅｒｓ、 ４０
（ｓ） 。
ｐ、５１５（７８））。１は放電容器、２，３は一対の
対向電極である。電極３の中心部は空洞４になっている
。両電極２，３は通常数１０ｋＶに充電されたコンデン
サ（図示せず）に接続されている。電極３の空洞４ｆｄ
高速開閉パルプ（図示せす）ｆｃ介して適当な発光ガス
（例えば、アルゴンガス）のボンベ（図示せず）につな
がれている。放電容器１内は排気筒８を介して排気され
る。電極２，３の間で発生する軟Ｘ線は、例えばベリリ
ウム製の窓５全通して外部に取シだされる。
対向電極である。電極３の中心部は空洞４になっている
。両電極２，３は通常数１０ｋＶに充電されたコンデン
サ（図示せず）に接続されている。電極３の空洞４ｆｄ
高速開閉パルプ（図示せす）ｆｃ介して適当な発光ガス
（例えば、アルゴンガス）のボンベ（図示せず）につな
がれている。放電容器１内は排気筒８を介して排気され
る。電極２，３の間で発生する軟Ｘ線は、例えばベリリ
ウム製の窓５全通して外部に取シだされる。
この装置の動作は次の通シである。まず、アルゴンガス
が高速開閉バルブを開くことによシ、空洞４を通って、
電極２，３間に高速で噴出する。
が高速開閉バルブを開くことによシ、空洞４を通って、
電極２，３間に高速で噴出する。
この噴出ガスが拡散で拡がらないうちに、電極２゜３間
で大電流（数１００ｋＡ）の放電を行なわせる。この結
果、ガス原子が励起されて軟Ｘ線を発生する。
で大電流（数１００ｋＡ）の放電を行なわせる。この結
果、ガス原子が励起されて軟Ｘ線を発生する。
０．１〜数１０人の波長の軟Ｘ線は原子番号の大きい元
素にはよく吸収される。このため、軟Ｘ線発光用に放電
容器１内に注入されたアルゴンガスが放電容器１内に拡
散・充満してしまうと、放醒空間以外のアルゴンガスは
発生した軟Ｘ線を吸収してしまうことになる。
素にはよく吸収される。このため、軟Ｘ線発光用に放電
容器１内に注入されたアルゴンガスが放電容器１内に拡
散・充満してしまうと、放醒空間以外のアルゴンガスは
発生した軟Ｘ線を吸収してしまうことになる。
このため、次の放′亀は放電容器１内の残留ガスが十分
に排気されるまで待たなければならない。
に排気されるまで待たなければならない。
この結果、放電の繰り返し周期が短くならず、装置の大
出力化をさまたげることとなる。
出力化をさまたげることとなる。
したがって、本発明の目的は放電容器内に注入された発
光用ガスの排気能率を向上させて放電層Ｍを大幅に短縮
させ得る軟Ｘ線発生装置を提供することにある。
光用ガスの排気能率を向上させて放電層Ｍを大幅に短縮
させ得る軟Ｘ線発生装置を提供することにある。
上記目的を達成するため本発明においては、上述した装
置において気密容器の一方からヘリウムガスを連続もし
くは間欠的に注入し、他方から連続して容器内を排気さ
せる手段全付加したことを特徴としている。
置において気密容器の一方からヘリウムガスを連続もし
くは間欠的に注入し、他方から連続して容器内を排気さ
せる手段全付加したことを特徴としている。
つまシ、本発明は原子番号の小さい原子、特に、ヘリウ
ムは軟Ｘ線を吸収しないので、ヘリウムを放電容器１内
に充てんしておくことによって発光用ガスの排気速度を
向上させるようにしたものである。
ムは軟Ｘ線を吸収しないので、ヘリウムを放電容器１内
に充てんしておくことによって発光用ガスの排気速度を
向上させるようにしたものである。
かかる本発明の特徴的な構成によって、放電周期全大幅
に短縮することができるようになシ、その結果、出力の
大きな軟Ｘ線発生装置の提供が可能となった。
に短縮することができるようになシ、その結果、出力の
大きな軟Ｘ線発生装置の提供が可能となった。
以下、本発明の一実施例を第１図を用いて説明する。放
電容器１にヘリウムガスの注入筒７が設けてあり、注入
筒７より容器１内にヘリウムガスが注入される。一方、
排気筒８全通して容器１内は常に排気されている。ヘリ
ウムガスの注入は連続的に行なう場合と、電極２，３間
の放電の直前、あるいは直後に間欠的に注入する場合と
の両方がある。後者の方法が排気能率は高くなる。
電容器１にヘリウムガスの注入筒７が設けてあり、注入
筒７より容器１内にヘリウムガスが注入される。一方、
排気筒８全通して容器１内は常に排気されている。ヘリ
ウムガスの注入は連続的に行なう場合と、電極２，３間
の放電の直前、あるいは直後に間欠的に注入する場合と
の両方がある。後者の方法が排気能率は高くなる。
放電容器１内にヘリウムガスが存在しても、ヘリウムガ
スは軟Ｘ線を吸収しないので、軟Ｘ線吸収は生じない。
スは軟Ｘ線を吸収しないので、軟Ｘ線吸収は生じない。
また、Ｘ線発光についても、空洞４から高速でアルゴン
ガスが噴出する条件では、電極２，３間の発光空間に存
在したヘリウムガスは放電の直前にはアルゴンガスによ
り排除されるため、ヘリウムガスの存在は影響を与えな
い。
ガスが噴出する条件では、電極２，３間の発光空間に存
在したヘリウムガスは放電の直前にはアルゴンガスによ
り排除されるため、ヘリウムガスの存在は影響を与えな
い。
放電の後、各器内１に噴出したアルゴンガスは容器１内
のヘリウムガスと一緒に排気筒８から排気される。容器
１内の圧力をヘリウムガスの充てんにより、例えば数１
０〜１００）−ルにしておけば、アルゴンガスだけの圧
力である１トール以下に比べて排気系の能率は士数倍高
くなる。そして、次の放電のときの容器１内の残圧が十
分低くなっていなくても、アルゴンガスの分圧が十分に
低ければよいので、結局、放電周期を２桁近く短縮でき
ることになる。
のヘリウムガスと一緒に排気筒８から排気される。容器
１内の圧力をヘリウムガスの充てんにより、例えば数１
０〜１００）−ルにしておけば、アルゴンガスだけの圧
力である１トール以下に比べて排気系の能率は士数倍高
くなる。そして、次の放電のときの容器１内の残圧が十
分低くなっていなくても、アルゴンガスの分圧が十分に
低ければよいので、結局、放電周期を２桁近く短縮でき
ることになる。
次に、放電容器１内で発生した軟Ｘ線および高速電子線
等が電極３内の空洞４中に飛びこみ、空洞４の先につな
がれる高速開閉バルブ等を損傷するのを防ぐため、通常
、第２図に示すように空洞４は途中で折れまがってバル
ブ９に至るようにする。このため、バルブ９が開いてボ
ンベ１１内のアルゴンガスが空洞４に１＊出した後、空
洞４内にもアルゴンガスが残り、この部分のガスは比較
的狭い通路４ｆｅ通るため排気されにくり、容器１内の
排気を防たける。
等が電極３内の空洞４中に飛びこみ、空洞４の先につな
がれる高速開閉バルブ等を損傷するのを防ぐため、通常
、第２図に示すように空洞４は途中で折れまがってバル
ブ９に至るようにする。このため、バルブ９が開いてボ
ンベ１１内のアルゴンガスが空洞４に１＊出した後、空
洞４内にもアルゴンガスが残り、この部分のガスは比較
的狭い通路４ｆｅ通るため排気されにくり、容器１内の
排気を防たける。
そこで、バルブ９に隣接して排気系に連なるバルブ１０
を設けることにより、放電終了後、空洞４内もすみやか
に排気できる。この場合も容器１内をヘリウムガスで満
たすようにすれば、空洞４内をヘリウムガスで洗い流せ
るため容易に残留アルゴンガスを排出できることとなる
。
を設けることにより、放電終了後、空洞４内もすみやか
に排気できる。この場合も容器１内をヘリウムガスで満
たすようにすれば、空洞４内をヘリウムガスで洗い流せ
るため容易に残留アルゴンガスを排出できることとなる
。
次に、本装置は発光用ガスを電離するものであるが、大
電流を流すため電極２，３の一部が蒸発飛散して容器１
内に拡散し、これが窓５に付着して軟Ｘ線の透過をさま
たげることがある。ヘリウムガスの注入筒７を窓５の近
傍に配置し、排気筒８を電極２，３を狭んで窓５の反対
側に配置すれば、ヘリウムガスは窓５から電極２，３の
方向へ流れをつくシ、電極２，３からの飛散物質が窓５
に飛来するのを軽減する効果がある。
電流を流すため電極２，３の一部が蒸発飛散して容器１
内に拡散し、これが窓５に付着して軟Ｘ線の透過をさま
たげることがある。ヘリウムガスの注入筒７を窓５の近
傍に配置し、排気筒８を電極２，３を狭んで窓５の反対
側に配置すれば、ヘリウムガスは窓５から電極２，３の
方向へ流れをつくシ、電極２，３からの飛散物質が窓５
に飛来するのを軽減する効果がある。
なお、本発明は電極間に発光用ガスを注入してこのガス
を発光させる方式のみならず、放電によシミ極を蒸発さ
せてこれを電離させる方式にも、効果は多少減少するが
、同様に適用できる。
を発光させる方式のみならず、放電によシミ極を蒸発さ
せてこれを電離させる方式にも、効果は多少減少するが
、同様に適用できる。
以上述べた如く、本発明によって放電周期の大幅短縮が
可能となり、その結果、大出力の軟Ｘ線発生装置の提供
が可能となった。
可能となり、その結果、大出力の軟Ｘ線発生装置の提供
が可能となった。
第１図は本発明による軟Ｘ線発生装置で、ガスを高速注
入し大電流放電によシ軟Ｘ線を発生させる放電容器の断
面構成図、第２図は本発明による他の実施例で、第１図
の装置においてガスを高速注入する系のみの配置構成図
である。 １・・・放電容器、２，３・・・電極、４・・・空洞、
５・・・窓、６．６′・・・電力入力端子、７・・・ヘ
リウムガス注入筒、８・・・排気筒、９．１０・・・パ
ルプ、１１・・・ボン× １ 図 第 ２ 旧
入し大電流放電によシ軟Ｘ線を発生させる放電容器の断
面構成図、第２図は本発明による他の実施例で、第１図
の装置においてガスを高速注入する系のみの配置構成図
である。 １・・・放電容器、２，３・・・電極、４・・・空洞、
５・・・窓、６．６′・・・電力入力端子、７・・・ヘ
リウムガス注入筒、８・・・排気筒、９．１０・・・パ
ルプ、１１・・・ボン× １ 図 第 ２ 旧
Claims (1)
- １、気密容器と上記各器内部に設けた一対の対向した電
極とを備え、上記一対の対向電極間に大電流放電を生じ
させて軟Ｘｍを発生させる装置において、上記気密容器
の一方からヘリウムガスを連続もしくは間欠的に注入し
、上記容器の他方から連続して上記容器内を排気するよ
うに構成してなることを特徴とする軟Ｘ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58072889A JPS59198645A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | 軟ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58072889A JPS59198645A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | 軟ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59198645A true JPS59198645A (ja) | 1984-11-10 |
Family
ID=13502358
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58072889A Pending JPS59198645A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | 軟ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59198645A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62195836A (ja) * | 1986-02-24 | 1987-08-28 | Hitachi Ltd | Ｘ線発生装置 |
| JPS63292553A (ja) * | 1987-05-25 | 1988-11-29 | Agency Of Ind Science & Technol | Ｘ線発生装置におけるプラズマ飛散防止機構 |
-
1983
- 1983-04-27 JP JP58072889A patent/JPS59198645A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62195836A (ja) * | 1986-02-24 | 1987-08-28 | Hitachi Ltd | Ｘ線発生装置 |
| JPS63292553A (ja) * | 1987-05-25 | 1988-11-29 | Agency Of Ind Science & Technol | Ｘ線発生装置におけるプラズマ飛散防止機構 |
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