JPH0817374A - 負イオン銃 - Google Patents

負イオン銃

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JPH0817374A
JPH0817374A JP6146605A JP14660594A JPH0817374A JP H0817374 A JPH0817374 A JP H0817374A JP 6146605 A JP6146605 A JP 6146605A JP 14660594 A JP14660594 A JP 14660594A JP H0817374 A JPH0817374 A JP H0817374A
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JP
Japan
Prior art keywords
exhaust chamber
gas
rare gas
skimmer
negative ion
Prior art date
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Application number
JP6146605A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Kume
久米  博
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Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 He- などの負イオンの生成効率が高い負イ
オン銃を提供する。 【構成】 アーク放電等で生成した励起ガスビーム(H
* やHe+ )をスキマー2を通過させ、次いでビーム
中のイオン種を除去した後に、ビームに希ガスリドベル
グ原子を衝突させて、ビーム中に含まれる準安定粒子
(He* )をリドベルグ原子からの共鳴的な電子移動に
より負イオン(He- )に変換し、この負イオンを加速
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばタンデム型静電
加速器の前段に配置される負イオン銃に関する。
【0002】
【従来の技術】2〜3MeV 程度の正イオンビームを比較
的小型な装置で得る場合、一般にタンデム型静電加速器
が用いられることが多い。ただし、この加速器では、そ
の前段において負イオン(希ガス:He- 等)ビームを
発生する必要がある。
【0003】ところが、希ガス、特にHeにおいては、
その基底状態に電子は付着しない。そこで、He負イオ
ン(He- )の生成は、従来、次に示すような方法で行
われている。まず、アーク放電等の適当な方法でHe正
イオン(He+ )を生成し、これを10KeV 程度に加速
して、その正イオンビームをアルカリ金属蒸気が存在す
るセル内を通過させ、荷電変換つまりアルカリ金属原子
(A)からの電子移動によってHe- を生成する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、アルカ
リ金属からの電子移動は、i)He+ +A→He* (23S;
準安定状態)、ii) He* +A→He- (24P) という2
段階の過程を経るため、この方式の負イオン銃では、H
+ →He- の変換効率は高々1%程度にすぎない。ま
た、荷電変換にアルカリ金属を利用することから、その
取り扱いが難しい点、さらには、アルカリ金属蒸気によ
る周囲の汚染が激しいため、装置メンテナンスを充分に
行う必要がある等の問題もある。
【0005】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、負イオンの生成効率が高くしかも装置寿命の長
い負イオン銃を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの構成を、実施例に対応する図1を参照しつつ説明す
ると、本発明の負イオン銃は、励起ガスビームを出射す
るビーム発生源(アーク放電源)1とその出射口1dに
対して所定の距離を隔てた位置に配置されるスキマー2
を備えた室C1 と、この室C1 に対しスキマー2を通じ
て差動排気される排気室C2,C3 によって構成されてお
り、その排気室C2,C3 には、スキマー2を通過した励
起ガスビーム中に含まれるイオン種を当該ビーム軸から
偏向するための手段(例えば偏向電極3)と、そのイオ
ン種が除かれた後のビームに希ガスリドベルグ原子Rg
**を衝突させる手段(例えば希ガス導入口5I,グリッ
ド5G1〜5G3及び電子発生用のフィラメント5F によっ
て構成される希ガスリドベルグ原子発生源5)と、この
衝突により生成されたイオンを加速する電極6が配置さ
れていることによって特徴づけられる。
【0007】
【作用】まず、ビーム発生源1でアーク放電などにより
並進エネルギが高い(〜5eV)励起ガスビーム(H
+ ,He* )を生成し、そのビームをスキマー2を通
過させて余分なガスを除去した後、イオン種を除去する
と、このビームは準安定状態の粒子(He* )と基底状
態の粒子(He)のみを含む状態となる。そして、その
ようなHe* に希ガス(He)リドベルグ原子が衝突す
るとHe- が生成される。
【0008】すなわち、リドベルグ状態(主量子数n>
20の軌道)にあるHe(He**)がHe* に衝突する
と、He* の電子親和力は80meV で、He**の最外殻
電子のエネルギが数十meV であるので、この電子は共鳴
的に極めて効率よくHe* に移動してHe- が生成され
る。
【0009】
【実施例】図1は本発明実施例の構成図である。まず、
この例の負イオン銃は、全体として、三つの排気室C1,
C2,C3 によって構成されている。これらの各室は上流
側から順次に差動排気され、その最終段の第3の排気室
C3 は内圧が高真空(〜10-6Torr)に維持される。
【0010】第1の排気室C1 にはアーク放電源1が配
置されている。このアーク放電源1は、励起ガスビーム
を発生するもので、カソード1a,中間電極1b並びに
直径1mm程度の小孔1dを有するアノード1cによって
構成されている。また、第1の排気室C1 のビーム出口
にはスキマー2が配置されており、アーク放電源1から
出射したビームはスキマー2を通過して、第2の排気室
C2 に入る。
【0011】第2の排気室C2 には、スキマー2を通過
したビーム中に存在するイオン種を除くための電場を形
成する偏向電極3が配置されており、そのイオン種が除
かれたビームは、コリメータ4を通過して第3の排気室
C3 に入る。
【0012】なお、イオン種を除くための手段として、
偏向電極3に代えて偏向用の磁場を形成する磁場発生源
を、第2の排気室C2 内に配置してもよい。そして、第
3の排気室C3 には、希ガスリドベルグ原子発生源5と
加速電極6が順次に配置されている。
【0013】希ガスリドベルグ原子発生源5は、3枚の
グリッド5G1,5G2及び5G3、電子発生用のフィラメン
ト5F 、並びに、第3の排気室C3 の壁体に設けられた
希ガス導入口5I によって構成されている。
【0014】各グリッド5G1,5G2,5G3は、ビーム軸
を中心とする同心円の円筒形で、それぞれ、互いに所定
の間隔を隔てて、かつ互いに絶縁された状態で配置され
ている。さらにグリッド5G1,5G2,5G3の全体が第3
の排気室C3 の壁体に対して絶縁された状態で配置され
ている。また、フィラメント5F は、最外周のグリッド
5G3の側方周辺を囲うリング形状で、第3の排気室C3
の壁体に対して絶縁された状態で配置されている。そし
て、希ガス導入口5I には希ガス供給源(図示せず)が
接続され、この導入口5I を通じて希ガスRg(例えば
He)が第3の排気室C3 の内部に注入される。
【0015】なお、以上の構造の希ガスリドベルグ原子
発生源5において、フィラメント5F 並びに各グリッド
5G1〜5G3には、それぞれ個別の値の電圧が電源(図示
せず)によって印加される。
【0016】次に、本発明実施例の作用を述べる。ま
ず、アーク放電源1では、Heを1気圧程度の圧力で封
入し、この状態で放電を発生させる。このアーク放電に
より、アノード1cの小孔1dからはHe*及びHe+
などが噴出するが、この圧力領域では噴出したHe*
He+ は高い並進エネルギ(5eV程度)をもつ超音速ビ
ームとなり、スキマー2を通過する。
【0017】ここで、スキマー2はアーク放電源1から
噴出したビームのみを効率よく次段の第2の排気室C2
へと進行させるものである。また、このようなスキマー
2を設けて余分なガスを除くといったことは、第2の排
気室C2 及び第3の排気室C3 における排気負担を軽減
させることと、これに加えて、生成したHe* が残留ガ
スとの衝突によって脱励起されるのを防ぐ役割もある。
なお、スキマー通過後の超音速ビーム中にはHe* と他
の原子が含まれるが、ビーム中ではその両者の衝突は殆
ど起こらない。
【0018】次いで、第2の排気室C2 に進入したビー
ムは、ここでイオン種が除かれ、この時点でHe* と基
底状態のHeのみを含む状態となり、この状態のビーム
がコリメータ4を通過して第3の排気室C3 に入る。
【0019】さて、第3の排気室C3 において、各グリ
ッド5G1,5G2及び5G3に、それぞれ、この排気室C3
に対して、例えばG1V=−30V,G2V=−150V及
びG3V=−50Vの電圧を印加し、さらにフィラメント
5F に同様に電圧FV =−100Vを印加した状態を保
持すると、フィラメント5F から電子e(〜30eV)が放
出され、この電子eの衝撃によって、希ガス導入口5I
を通じて注入された希ガスRgが励起されてイオン(R
+ )化したり、あるいはリドベルグ状態(Rg**)に
なる。ここで、電子eは中間のグリッド5G2で、またイ
オン(Rg+ )は最内周のグリッド5G1によってそれぞ
れ反射され、これによって、ビームに照射されるのはリ
ドベルグ原子Rg**のみとなる。そして、He* はRg
**との衝突によって負イオンHe- となり、その負イオ
ンHe- が加速電極6でもって加速されて適当なエネル
ギをもつ負イオンビームが生成される。
【0020】ここで、以上の構造の負イオン銃を運転す
る際には、He* の量をあらかじめ測定しておくことが
必要となるが、その測定の手法としては、例えばNi板
と高電子増倍管等によって構成されるHe* 検出装置
を、希ガスリドベルグ原子発生源5に代えて配置し、こ
の状態で、アーク放電源1からHe* をNi板にHe*
を衝突させ、そのNi板から放出される2次電子(約2
0eV)を高電子増倍管を検出する等の測定法を採用す
る。
【0021】そして、以上の測定法で得られた検出値つ
まりHe* の量が、最大となるように、アーク放電源1
へのHeの封入圧力及びその放電電圧(電流)並びに放
電源1の小孔(ビーム出射口)1dとスキマー2との間
の距離Dなどのパラメータを決定する。さらに、その条
件設定が完了した後に、試運転を行いつつ、希ガスリド
ベルグ原子発生源5のフィラメント5F への印加電圧を
調整して生成He- の量が最大となるようにする。
【0022】なお、希ガスRgとしては、He,Ne,
Ar,KrあるいはXeなどの不活性ガスが挙げられる
が、He負イオン銃として使用する場合、先の作用の項
で述べた共鳴的な電子移動の効率面を考慮すると、He
(He**)を用いることが好ましい。
【0023】ここで、本発明実施例で使用したアーク放
電源1は、効率のよい原子状水素発生源ともなるため、
Heに代えてH2 を封入すれば、この例のイオン銃はH
負イオン銃としても使用できる。
【0024】また、以上の実施例では、準安定励起ガス
(He* )を生成する方法としてアーク放電を採用して
いるが、これに代えて、例えばマイクロ波放電等の他の
励起法を採用しても、本発明は実施可能である。
【0025】さらに、以上の実施例において、第2と第
3の排気室C2 とC3 とは、装置構成上において排気負
担の増大が許容できるのであれば、それらを一つの排気
室で構成することも可能である。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
アーク放電等で準安定励起ガス、例えばHe* を生成
し、そのHe* に希ガスリドベルグ原子Rg**を衝突さ
せて共鳴的な電子移動によりHe* をHe- に変換する
ので、負イオンを高い生成効率で得ることができる。従
って、本発明の負イオン銃を、例えばタンデム型静電加
速器等の装置に適用すれば、その装置全体の稼働率の向
上をはかることができる。
【0027】また、本発明によると、電子源が配置され
る排気室は、励起ガスビーム源が配置される室に対して
差動排気され、その内圧が高真空に維持されることか
ら、電子源の寿命が長くなる結果、負イオン銃自体の稼
働効率も高くなる。
【0028】さらに、本発明の負イオン銃では、アルカ
リ金属を用いることなく負イオンを生成するので、装置
内の汚染がなくメンテナンスフリーの達成が可能で、し
かも汚染物質が後段に流出することがなくなることか
ら、タンデム静電型加速器などへの汚染の影響もない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明実施例の構成図
【符号の説明】
1 アーク放電源 1d 小孔(ビーム出射口) 2 スキマー 3 偏向電極 4 コリメータ 5 希ガスリドベルグ原子発生源 5I 希ガス導入口 5G1〜5G3 グリッド 5F フィラメント(電子放出用) 6 加速電極 C1,C2,C3 排気室

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 励起ガスビームを出射するビーム発生源
    とその出射口に対して所定の距離を隔てた位置に配置さ
    れるスキマーを備えた室と、この室に対し上記スキマー
    を通じて差動排気される排気室によって構成され、その
    排気室には、上記スキマーを通過した励起ガスビーム中
    に含まれるイオン種を当該ビーム軸から偏向するための
    手段と、そのイオン種が除かれた後のビームに希ガスリ
    ドベルグ原子を衝突させる手段と、この衝突により生成
    されたイオンを加速する電極が配設されてなる負イオン
    銃。
JP6146605A 1994-06-28 1994-06-28 負イオン銃 Pending JPH0817374A (ja)

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JP6146605A JPH0817374A (ja) 1994-06-28 1994-06-28 負イオン銃

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008541406A (ja) * 2005-05-20 2008-11-20 パーサー、ケネス、エイチ. 原子及び分子の低不純物強イオンビームの製造用共鳴方法
CN108305824A (zh) * 2017-01-12 2018-07-20 Fei公司 碰撞电离离子源
CN108419356A (zh) * 2018-05-16 2018-08-17 中国工程物理研究院流体物理研究所 用于提升回旋加速器内离子源寿命的方法及离子源设备

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