JPS62192042A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は追記型光円板に係り、とくに高感度でしかも低
コストの光円板に好適な下地膜に関するものである６ 〔従来の技術〕 従来の下地膜材料としては紫外線硬化樹脂（特開昭５３
−８６７５６）　、ニトロセルロース（特開昭５７−５
５５４４）グアニンなどがある。これらの製膜方法とし
ては回転塗布、あるいは蒸着法によるものが多しＮ。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記の製膜方法は生産性に問題がありコスト高となる。

とくに最近Ｔｅ系記録膜のスパッター法が採用されてい
るので、下地膜もスパッター法で形成できるならば生産
上極めて有利でありコスト低減に役立つ。また感度の向
上も同時に期待できる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

したがって、本発明の目的は高感度で、しかも低コスト
の追記型光円板を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

追記型光記録材料で量るＴｅ系薄膜の下地膜材料として
紫外線硬化樹脂、ニトロセルロースなどの回転塗布可能
な有機物、またグアニンなどの↓″ｒ空蒸着可能な有機
物がこれまでに情告されている。

紫外線硬化樹脂の場合には記録感度が低くなるという欠
点がある６一方ニトロセルロースは感度向上に役立って
いるが、回転塗布という手数のかかる工程が必要である
。またグアニンなどの蒸着工程もＴｅ系記録膜の形成方
法をスパッター法になりつつある現在では望ましい工程
とはいえない。

したがって下地膜材料としてはスパッタリングにより形
成可能なこと、また、このスパッタ膜により記録膜の感
度が向上し、寿命的にも満足するものが強く望まれてい
た。現在スパッタリング可能な有機物としてフッ素樹脂
、ポリイミドポリフッ化ビニリデン、芳香族ポリアミド
、ポリアミドイミド、ポリフェニレンオキサイド、ポリ
イミダゾピロロン、ポリ安息香酸エステル、ポリオキサ
ジアゾール、ポリベンゾチアゾール、ポリキノキサリン
、ポリスルホン、ポリフェニレン、メラミン、フェノー
ル、シリコーンなどがある。フッ素樹脂膜の形成法とし
てモノマーのプラズマ連合による方法もあるが生産上魅
力ある工程ではない。

スパッタリングはプラズマ連合に比べ基板との密着が良
いこと、工業的に実用化されている装置が多いことなど
の利点も有している。

〔作用〕

下地膜に対する要求は感度を高めること、記録穴が確実
にあくようにすること、また記録穴の形状を良好にさせ
ること、記録膜の劣化を防止できろことなどである。ニ
トロセルロース、グアニンなどは上記の要求を全て満た
すものである。下地膜材料の物性と下地膜性能との相関
関係の点で現在のところ不明な点も多い、しかしフッ素
樹脂およびポリイミドのスパッタ膜特性、とくに表面エ
ネルギー、および液熱性などの点で良好な下地膜になり
得る。

つぎに媒体の作製方法と評価方法について述べる６基板
としては化学強化ガラス、エポキシ、アクリル樹脂（Ｐ
ＭＭＡ）などの平坦な透明プラスチック基板を使用する
。この場合にはトラッキング用溝やセクター信号用ビッ
トを形成するために、２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ　Ｐｏｌｙｍ
ｅｒｉｚａｔｉｏｎ）が用いられている。

これはニッケルスタンパ−表面上の微細パターンを紫外
線硬化樹脂を用いて基板上に転写させる方法である。下
地膜はこの紫外線硬化樹脂層の上に形成される。下地膜
なしに紫外線硬化ｔ！ｌ脂層の上に直接Ｔｅ系記録膜を
付けた場合には感度不足や記録穴があかないこともあり
実用上問題がある。

一方２Ｐ法にほかに射出成形法による基板がある。

この場合は金型にセットされたスタンパ−上へ、高温溶
融状態のプラスチック材料を射出して、基板の形成と同
時に、微補パターンの形成も行う一体成形方法である６
特徴は高速成形であり、生産性の高い方法である。材料
としてはＰＭＭＡ　、ポリカーボネートがある。この場
合にも下地膜なしで直接Ｔｅ系記＠膜を形成するとＰＭ
ＭＡ基板では記録穴形状が悪く、またポリカーボネート
基板では記録感度が低いなどの欠点がある。下地膜はフ
ッ素樹脂膜、およびポリイミド膜をターゲラ１−としＡ
ｒガス中で高周波スパッタリングにより作製する。

Ｔｅ系の記録膜も高周波あるいは直流スパッタリングに
より形成する。形成された記録媒体はまず記録感度を？
１ｉ１１定する。膜面上のレーザー光ビーム（波長８　
：ｌ　Ｏｎ　ｍ　、パルス幅ＬＯＯｎｓ）のパワーを増
加させたとき、ある値のところで穴があきはじめる。穴
の大きさに相当する値として変調度を用いている。変調
度は穴のおいてない状態での光反射率に対する穴があい
たときの反射率の比として定義している。穴の形状はＳ
ＥＭａｒＪにより判断する。また寿命の加速試験として
は６０℃。

９５％（相対湿度）下に保持し、記＠膜に発生するクラ
ックの有無と、酸化反応による光反射率低下を測定する
。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を第１．２．３図により説明す
る。

実施例１ ５′φのポリカーボネート基板（１）を射出成形により
作製した。厚さは１．２ｍである。リターデーションは
往復で２０ｎｍ以下である。これをスパッタ装置にセッ
トし、フッ素樹脂膜（４）を設けた。

ターゲットレこは東し・デュポン社製のテフロンフィル
ムを用いた。この際のＡｒガス圧は：３０ｍＴｏｒｒ、
高周波出力は２００Ｗである。得られた膜厚は約３０ｎ
ｍであった。引き続きＴａ５ｅＰｂ記録膜（５）を高周
波スパッタリングにより２７ｎｍＪ−’２さに形成した
。これの記録感度に測定結果を第３図の曲線Ａで示した
。比較のために従来のニトロセルロース下地膜の媒体の
結果を曲線Ｃで示した。

これからテフロン下地膜の場合の方が高感度になってい
ることがわかる。また記録穴の形状は穴のまわりの盛り
上りが均一であり、良好であった。

またガラスやエポキシなどの基板（２）上にトラッキン
グ用の溝などのパターン有するアクリレート系紫外線硬
化樹脂！　（３）を設けた場合にも前述と同様の結果を
得た。またこれらの試料を６０℃、９５％（相対湿度）
下で３ケ月以上の保持でもクラックの発生は認められず
、また光反射率低下は問題にならなかった。

実施例２ ５＃φの射出成形ポリカーボネート基板（１）をスパッ
タ装置にセラｌ−Ｌ、、ポリイミド膜（４）を設けた。

ターゲットには東し・デュポン社製のＫａｐｔｏｎフィ
ルムを用いた。この際のＡｒガス圧は３０　ｇ＋Ｔｏｒ
ｒ、高周波出力は２００Ｗである。得られた膜厚は約３
０ｎｍであった。引き続きＴｅ５ｅＰｂ記録膜（５）を
スパッタリングにより２７ｎ＋ｍＪ３さに形成した。こ
れの記録感度の測定結果を第３図の曲線Ｉ３で示した。

フッ素樹脂に比較すると感度は低下しているが、従来の
ニトロセルロースの場合より感度が向上していることが
わかる。また記録穴形状は良好であり、６０℃、９５％
（相対湿度）下での試験でも劣化は認められなかった。

またガラス、エポキシなどの平坦な基板上（２）に２Ｐ
法によりレプリカを作製した場合にも同様の結果を得る
ことができた。

〔発明の効果〕

本発明によれば、下地膜に有機物のスパッタ膜を使用す
ることにより、感度と安定性の向上をはかることができ
るので、高感度の追記型円板を低コストで製造すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本発明の光記録媒体の断面図、第３
図は記録媒体の感度を示す図である。 １・・・溝つき基板（一体成形基板）、２・・・平坦基
板、３・・・紫外線硬化樹脂層、４・・・下地膜、５・
・・記録膜。 ６・・・トラッキング用溝、７・・・セクター信号用ビ
ット、Ａ、Ｂ・・・本発明下地膜媒体の記録感度、Ｃ・
・・４・） 七〇 Ｚ　ｊ　図 ′ｆＪ　２　図 冨　３　図 月健面Ｊｌヱよパワー（＃Ｗ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、レーザ光ビーム照射によつて穴を形成する記録媒体
   において、記録膜の下地膜としてスパッタリングによつ
   て形成した有機物の膜を配置したことを特徴とする光記
   録媒体。 ２、上記有機物としてフッ素樹脂、あるいはポリイミド
   を用いたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   光記録媒体。