JPH05198011A - 光ディスクおよびその製造方法 - Google Patents
光ディスクおよびその製造方法Info
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- JPH05198011A JPH05198011A JP4008382A JP838292A JPH05198011A JP H05198011 A JPH05198011 A JP H05198011A JP 4008382 A JP4008382 A JP 4008382A JP 838292 A JP838292 A JP 838292A JP H05198011 A JPH05198011 A JP H05198011A
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- Japan
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- disk
- depth
- peripheral side
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Abstract
(57)【要約】
【目的】記録領域において均一な特性をもった光ディス
クを実現する。 【構成】成形樹脂により構成され、予め表面側に情報ピ
ットおよび／または案内溝用が形成されたディスク基板
１０上に、直接もしくは均一な厚みの下地層１１を介し
て、色素を主成分とする光吸収層１２を設け、さらにこ
の上に、直接もしくは均一な厚みの下引き層１３を介し
て、一様な厚みの金属反射膜１４を設けてなり、ディス
ク基板１０の表面側に形成された情報ピットおよび／ま
たは案内溝１０Ａの深さが、内周側から外周側へ向かっ
て次第に深く形成され、光吸収層表面側における凹部１
２Ａの深さが実質的に均一である。
クを実現する。 【構成】成形樹脂により構成され、予め表面側に情報ピ
ットおよび／または案内溝用が形成されたディスク基板
１０上に、直接もしくは均一な厚みの下地層１１を介し
て、色素を主成分とする光吸収層１２を設け、さらにこ
の上に、直接もしくは均一な厚みの下引き層１３を介し
て、一様な厚みの金属反射膜１４を設けてなり、ディス
ク基板１０の表面側に形成された情報ピットおよび／ま
たは案内溝１０Ａの深さが、内周側から外周側へ向かっ
て次第に深く形成され、光吸収層表面側における凹部１
２Ａの深さが実質的に均一である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、光ディスクおよびそ
の製造方法に関する。この発明は、色素を主成分とする
光吸収層を持つ光ディスク、特に、追記型の光コンパク
トディスクに有効に利用できる。
の製造方法に関する。この発明は、色素を主成分とする
光吸収層を持つ光ディスク、特に、追記型の光コンパク
トディスクに有効に利用できる。
【０００２】
【従来の技術】成形樹脂により構成され、予め表面側に
情報ピットおよび／または案内溝が形成されたディスク
基板上に、直接もしくは下地層を介して色素を主成分と
する光吸収層を設け、この光吸収層上に更に金属反射膜
を設けてなる光ディスクにおいて、上記ディスク基板
は、成形樹脂を材料としてスタンパーを用いて射出成形
で形成するのが最も量産性に優れている。また、光吸収
層の形成にはスピンコートが適している。
情報ピットおよび／または案内溝が形成されたディスク
基板上に、直接もしくは下地層を介して色素を主成分と
する光吸収層を設け、この光吸収層上に更に金属反射膜
を設けてなる光ディスクにおいて、上記ディスク基板
は、成形樹脂を材料としてスタンパーを用いて射出成形
で形成するのが最も量産性に優れている。また、光吸収
層の形成にはスピンコートが適している。
【０００３】このように射出成形で形成したディスク基
板にスピンコートにより光吸収層を設けて成る光ディス
クにおいては、記録や再生の特性が光ディスクの内周側
と外周側とで異なったものと成りやすいという問題があ
った。
板にスピンコートにより光吸収層を設けて成る光ディス
クにおいては、記録や再生の特性が光ディスクの内周側
と外周側とで異なったものと成りやすいという問題があ
った。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明は上記の如き
問題を解決するべくなされたものであって、記録領域に
おいて均一な特性をもった光ディスクおよびその製造方
法の提供を目的とする。
問題を解決するべくなされたものであって、記録領域に
おいて均一な特性をもった光ディスクおよびその製造方
法の提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明の光ディスク
は、図１（ｂ）に示すように「ディスク基板１０の表面
側に光吸収層１２を設け、この光吸収層１２上に更に、
一様な厚みの金属反射膜１４を設けた」構造を基本構造
とする（請求項１）。ディスク基板１０は成形樹脂によ
り構成され、光吸収層１２は色素を主成分とする。ディ
スク基板１０の表面側(光吸収層１２を形成される側)に
は、予め「情報ピットおよび／または案内溝」が形成さ
れている。光吸収層１２は、ディスク基板１０上に直接
形成しても良いが、図１（ｃ）に示すように、ディスク
基板１０と光吸収層１２との間に均一な厚みの下地層１
１を介在させても良い。また、金属反射膜１４と光吸収
層１２との間にも、均一な厚みの下引き層１３を介在さ
せることができる。
は、図１（ｂ）に示すように「ディスク基板１０の表面
側に光吸収層１２を設け、この光吸収層１２上に更に、
一様な厚みの金属反射膜１４を設けた」構造を基本構造
とする（請求項１）。ディスク基板１０は成形樹脂によ
り構成され、光吸収層１２は色素を主成分とする。ディ
スク基板１０の表面側(光吸収層１２を形成される側)に
は、予め「情報ピットおよび／または案内溝」が形成さ
れている。光吸収層１２は、ディスク基板１０上に直接
形成しても良いが、図１（ｃ）に示すように、ディスク
基板１０と光吸収層１２との間に均一な厚みの下地層１
１を介在させても良い。また、金属反射膜１４と光吸収
層１２との間にも、均一な厚みの下引き層１３を介在さ
せることができる。
【０００６】さらに、図１（ｄ）に示すように、金属反
射膜１４上に、一様な厚みの保護膜１４を設けることが
できる（請求項２）。
射膜１４上に、一様な厚みの保護膜１４を設けることが
できる（請求項２）。
【０００７】上記請求項１〜２記載の光ディスクに共通
する特徴は、図１（ａ）に示すように「ディスク基板１
０の表面側に形成された情報ピットおよび／または案内
溝１０Ａの深さが、内周側から外周側へ向かって次第に
深くなっており、光吸収層１２の表面側に、情報ピット
および／または案内溝１０Ａに対応して形成される凹部
１２Ａの深さが実質的に均一である」点にある。
する特徴は、図１（ａ）に示すように「ディスク基板１
０の表面側に形成された情報ピットおよび／または案内
溝１０Ａの深さが、内周側から外周側へ向かって次第に
深くなっており、光吸収層１２の表面側に、情報ピット
および／または案内溝１０Ａに対応して形成される凹部
１２Ａの深さが実質的に均一である」点にある。
【０００８】請求項３記載の光ディスク製造方法は、請
求項１記載の光ディスクを製造する方法であって、「情
報ピットおよび／または案内溝に対応する凹凸が、内周
側から外周側へ向かって凹部の深さを次第に大きくする
ように形成されたスタンパーを用い、射出成形により成
形樹脂の基板ディスクを形成し、この基板ディスクの表
面上に直接、もしくは均一な厚みの下地層を形成後、色
素を主成分とする光吸収層をスピンコートにより形成、
この光吸収層上に直接もしくは均一な厚みの下引き層を
形成後、均一な厚さの金属反射膜を蒸着もしくはスパッ
タリングにより形成する」ことを特徴とする。
求項１記載の光ディスクを製造する方法であって、「情
報ピットおよび／または案内溝に対応する凹凸が、内周
側から外周側へ向かって凹部の深さを次第に大きくする
ように形成されたスタンパーを用い、射出成形により成
形樹脂の基板ディスクを形成し、この基板ディスクの表
面上に直接、もしくは均一な厚みの下地層を形成後、色
素を主成分とする光吸収層をスピンコートにより形成、
この光吸収層上に直接もしくは均一な厚みの下引き層を
形成後、均一な厚さの金属反射膜を蒸着もしくはスパッ
タリングにより形成する」ことを特徴とする。
【０００９】この方法で形成された光ディスクの「金属
反射膜上に、紫外線硬化樹脂を塗布し紫外線照射により
硬化させて一様な厚みの保護膜とする」ことにより、請
求項２の光ディスクを製造できる（請求項４）。
反射膜上に、紫外線硬化樹脂を塗布し紫外線照射により
硬化させて一様な厚みの保護膜とする」ことにより、請
求項２の光ディスクを製造できる（請求項４）。
【００１０】なお、記録用および／または再生用の光ビ
ームは、基板ディスクの、情報ピットおよび／または案
内溝が形成されたのとは反対側に面から照射される。
ームは、基板ディスクの、情報ピットおよび／または案
内溝が形成されたのとは反対側に面から照射される。
【００１１】
【作用】情報ピットおよび／または案内溝に対応する凹
凸が形成されたスタンパーを用い、射出成形により成形
樹脂の基板ディスクを形成する場合、スタンパーの凹凸
の転写性は、スタンパーの中心部に近いほど高く、中心
部を離れるに従い低下する傾向にある。このためスタン
パーの凹凸の凹部の深さが一定であると、ディスク基板
表面に転写・形成された「情報ピットおよび／または案
内溝」の深さは、ディスク基板中心部から周辺部に向か
うに連れて「次第に浅く」なり易い。
凸が形成されたスタンパーを用い、射出成形により成形
樹脂の基板ディスクを形成する場合、スタンパーの凹凸
の転写性は、スタンパーの中心部に近いほど高く、中心
部を離れるに従い低下する傾向にある。このためスタン
パーの凹凸の凹部の深さが一定であると、ディスク基板
表面に転写・形成された「情報ピットおよび／または案
内溝」の深さは、ディスク基板中心部から周辺部に向か
うに連れて「次第に浅く」なり易い。
【００１２】また、ディスク基板上に光吸収層をスピン
コートにより形成すると、光吸収層はディスク基板表面
の「情報ピットおよび／または案内溝」を埋めるように
して形成され、その表面に「情報ピットおよび／または
案内溝に従う凹部」が形成されるが、コーティングの
際、光吸収層材料に作用する遠心力はディスク基板の中
心を離れるほど強いため、ディスク基板周辺部に近い
程、情報ピット等が埋まり易い。このスピンコート特有
の作用と、「ディスク基板表面に転写・形成された情報
ピットおよび／または案内溝」の深さがディスク基板周
辺部に近い程、浅くなり易い」という射出成形特有の作
用とが相乗的に作用しあって、光吸収膜表面の深さは、
光ディスクの外周側に近いほど「浅く」なり易く、これ
が記録や再生の特性の不均一の原因となる。
コートにより形成すると、光吸収層はディスク基板表面
の「情報ピットおよび／または案内溝」を埋めるように
して形成され、その表面に「情報ピットおよび／または
案内溝に従う凹部」が形成されるが、コーティングの
際、光吸収層材料に作用する遠心力はディスク基板の中
心を離れるほど強いため、ディスク基板周辺部に近い
程、情報ピット等が埋まり易い。このスピンコート特有
の作用と、「ディスク基板表面に転写・形成された情報
ピットおよび／または案内溝」の深さがディスク基板周
辺部に近い程、浅くなり易い」という射出成形特有の作
用とが相乗的に作用しあって、光吸収膜表面の深さは、
光ディスクの外周側に近いほど「浅く」なり易く、これ
が記録や再生の特性の不均一の原因となる。
【００１３】そこで、この発明では「情報ピットおよび
／または案内溝に対応する凹凸が、内周側から外周側へ
向かって凹部の深さを次第に大きくするように形成され
たスタンパー」を用いて射出成形することにより、成形
樹脂の基板ディスクの表面に転写・形成される情報ピッ
トおよび／または案内溝の深さを「内周部側から外周部
側へ向かって次第に深く」し、この基板ディスクの上に
直接、もしくは均一な厚さの下地層を形成後、光吸収層
をスピンコートするにより、スピンコート特有の上記作
用による「周辺部における凹部の埋まり過ぎ」を情報ピ
ットおよび／または案内溝の深さの増大により相殺し
て、「光吸収層表面側における凹部の深さを実質的に均
一とする」のである。
／または案内溝に対応する凹凸が、内周側から外周側へ
向かって凹部の深さを次第に大きくするように形成され
たスタンパー」を用いて射出成形することにより、成形
樹脂の基板ディスクの表面に転写・形成される情報ピッ
トおよび／または案内溝の深さを「内周部側から外周部
側へ向かって次第に深く」し、この基板ディスクの上に
直接、もしくは均一な厚さの下地層を形成後、光吸収層
をスピンコートするにより、スピンコート特有の上記作
用による「周辺部における凹部の埋まり過ぎ」を情報ピ
ットおよび／または案内溝の深さの増大により相殺し
て、「光吸収層表面側における凹部の深さを実質的に均
一とする」のである。
【００１４】なお、スタンパーにおける凹凸の凹部の深
さが、周辺部に近づく程深くなる程度を適当に選択すれ
ば、所望の深さに揃えられた情報ピットおよび／または
案内溝を持つディスク基板を得ることもでき、このよう
なディスク基板に、スピンコート以外のコーティング方
法、例えばディピング等により均一な厚さの光吸収層を
形成しても、この発明と同様、記録・再生の特性が記録
領域上で変動しない光ディスクを実現できることを付記
しておく。
さが、周辺部に近づく程深くなる程度を適当に選択すれ
ば、所望の深さに揃えられた情報ピットおよび／または
案内溝を持つディスク基板を得ることもでき、このよう
なディスク基板に、スピンコート以外のコーティング方
法、例えばディピング等により均一な厚さの光吸収層を
形成しても、この発明と同様、記録・再生の特性が記録
領域上で変動しない光ディスクを実現できることを付記
しておく。
【００１５】
【実施例】以下、具体的な実施例を説明する。請求項４
の方法により、請求項２の光ディスクとして「追記型」
の光コンパクトディスクを製造した。
の方法により、請求項２の光ディスクとして「追記型」
の光コンパクトディスクを製造した。
【００１６】直径２５０ｍｍのガラスディスクの表面に
フォトレジストを塗布し、中心から２２．３５ｍｍない
し５９ｍｍの領域に「情報ピットおよび／または案内
溝」に従うパターン露光をレーザービーム露光で行っ
た。その際、レーザービームの相対強度を図３（ａ）の
グラフ線３Ａ−１のように変化させた。パターン露光
後、現像を行って露光部分のフォトレジストを除去し、
残ったフォトレジスト上にスパッタリングによりＮｉ薄
膜を形成し、このＮｉ薄膜を電極としてＮｉ電鋳するこ
とによりニッケル層を形成した。その後、ニッケル層を
ガラスディスクから剥離し、残留フォトレジストを除去
して「スタンパー」を得た。このスタンパーは「情報ピ
ットおよび／または案内溝に対応した凹凸」を有し、凹
凸の凹部の深さは内周部側から外周部側へ向かって次第
に深くなっている。
フォトレジストを塗布し、中心から２２．３５ｍｍない
し５９ｍｍの領域に「情報ピットおよび／または案内
溝」に従うパターン露光をレーザービーム露光で行っ
た。その際、レーザービームの相対強度を図３（ａ）の
グラフ線３Ａ−１のように変化させた。パターン露光
後、現像を行って露光部分のフォトレジストを除去し、
残ったフォトレジスト上にスパッタリングによりＮｉ薄
膜を形成し、このＮｉ薄膜を電極としてＮｉ電鋳するこ
とによりニッケル層を形成した。その後、ニッケル層を
ガラスディスクから剥離し、残留フォトレジストを除去
して「スタンパー」を得た。このスタンパーは「情報ピ
ットおよび／または案内溝に対応した凹凸」を有し、凹
凸の凹部の深さは内周部側から外周部側へ向かって次第
に深くなっている。
【００１７】このスタンパーを用い、射出成形によりポ
リカーボネイトのディスク基板を形成した。ディスク基
板の直径は１２０ｍｍであり、半径：２２．３５ｍｍ〜
５９ｍｍの領域には、「情報ピットおよび／または案内
溝」が転写形成され、その深さは図３（ｂ）のグラフ線
３Ａ−２のように、内周部側から外周部側へ向かって次
第に深くなっている。
リカーボネイトのディスク基板を形成した。ディスク基
板の直径は１２０ｍｍであり、半径：２２．３５ｍｍ〜
５９ｍｍの領域には、「情報ピットおよび／または案内
溝」が転写形成され、その深さは図３（ｂ）のグラフ線
３Ａ−２のように、内周部側から外周部側へ向かって次
第に深くなっている。
【００１８】２，２，３，３−テトラフロロプロパノー
ルに５ｗｔ％のエチレングリコールモノメチルエーテル
アセテートを加えた溶液に、図２に示す構造式のシアニ
ン色素（日本感光色素製：商品名：ＮＫ２９２９）を
１．５ｗｔ％溶解させて塗布液とし、この塗布液を上記
ディスク基板の表面上にスピンコートして約１３００Å
の厚さの光吸収層を形成した。
ルに５ｗｔ％のエチレングリコールモノメチルエーテル
アセテートを加えた溶液に、図２に示す構造式のシアニ
ン色素（日本感光色素製：商品名：ＮＫ２９２９）を
１．５ｗｔ％溶解させて塗布液とし、この塗布液を上記
ディスク基板の表面上にスピンコートして約１３００Å
の厚さの光吸収層を形成した。
【００１９】この光吸収層上に、Ａｕを約８００Åの厚
さにスパッタリング成膜して金属反射膜とし、さらにそ
の上に紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線照射により硬化
させて厚さ：３μｍの保護膜とした。
さにスパッタリング成膜して金属反射膜とし、さらにそ
の上に紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線照射により硬化
させて厚さ：３μｍの保護膜とした。
【００２０】かくして得られた追記型の光コンパクトデ
ィスクの記録領域、即ち、直径：４４．７〜１１８ｍｍ
の領域に情報を書き込み、波長：７８２ｎｍ，Ｎ．Ａ：
０．４７の半導体レーザー光により、再生パワー：０．
５ｍｗ、線速：１．３ｍ／ｓで再生を行い、反射率（It
op）を測定したところ図３（ｃ）のグラフ線３Ａ−３に
示すように記録領域における反射率は一定となった。こ
のことは、この実施例の光コンパクトディスクにおける
記録・再生の特性が記録領域内で場所により変動しない
ことを意味している。
ィスクの記録領域、即ち、直径：４４．７〜１１８ｍｍ
の領域に情報を書き込み、波長：７８２ｎｍ，Ｎ．Ａ：
０．４７の半導体レーザー光により、再生パワー：０．
５ｍｗ、線速：１．３ｍ／ｓで再生を行い、反射率（It
op）を測定したところ図３（ｃ）のグラフ線３Ａ−３に
示すように記録領域における反射率は一定となった。こ
のことは、この実施例の光コンパクトディスクにおける
記録・再生の特性が記録領域内で場所により変動しない
ことを意味している。
【００２１】比較のため、フォトレジスト層の露光にお
けるレーザービームの相対強度を、図３（ａ）のグラフ
線３Ｂ−１のように一定に保って形成したスタンパーで
作成したディスク基板では、転写・形成された情報ピッ
トおよび／または案内溝の深さが図３（ｂ）にグラフ線
３Ｂ−２で示すように、ディスク基板の内周部側から外
周部側へ向かって次第に浅くなっており、このディスク
基板上に上記実施例と同様にして光吸収層と金属反射膜
と保護膜とを形成した比較用の光コンパクトディスクで
は、記録領域内における反射率は図３（ｃ）のグラフ線
３Ｂ−３に示すように、光ディスクの内周部側から外周
部側へ向かって次第に増大し、記録領域内での特性が均
一にならなかった。
けるレーザービームの相対強度を、図３（ａ）のグラフ
線３Ｂ−１のように一定に保って形成したスタンパーで
作成したディスク基板では、転写・形成された情報ピッ
トおよび／または案内溝の深さが図３（ｂ）にグラフ線
３Ｂ−２で示すように、ディスク基板の内周部側から外
周部側へ向かって次第に浅くなっており、このディスク
基板上に上記実施例と同様にして光吸収層と金属反射膜
と保護膜とを形成した比較用の光コンパクトディスクで
は、記録領域内における反射率は図３（ｃ）のグラフ線
３Ｂ−３に示すように、光ディスクの内周部側から外周
部側へ向かって次第に増大し、記録領域内での特性が均
一にならなかった。
【００２２】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば新規な
光ディスクおよびその製造方法を提供できる。この発明
の光ディスクは上記の如く構成されているので記録や再
生の特性が記録領域内で安定しており、従来と同様に射
出成形とスピンコートの組合せで量産性良く安価に製造
可能である。
光ディスクおよびその製造方法を提供できる。この発明
の光ディスクは上記の如く構成されているので記録や再
生の特性が記録領域内で安定しており、従来と同様に射
出成形とスピンコートの組合せで量産性良く安価に製造
可能である。
【図１】この発明の光ディスクの特徴と構造を説明する
ための図である。
ための図である。
【図２】実施例における光吸収層の主成分色素の構造式
を示す図である。
を示す図である。
【図３】実施例を説明するための図である。
１０ ディスク基板 １０Ａ 情報ピットおよび／
または案内溝 １１下地層 １２ 光吸収層
１２Ａ 光吸収層表面の凹部 １４金属反射膜
１５ 保護膜
または案内溝 １１下地層 １２ 光吸収層
１２Ａ 光吸収層表面の凹部 １４金属反射膜
１５ 保護膜
Claims (4)
- 【請求項１】成形樹脂により構成され、予め表面側に情
報ピットおよび／または案内溝が形成されたディスク基
板上に、直接もしくは均一な厚みの下地層を介して、色
素を主成分とする光吸収層を設け、この光吸収層上に、
直接もしくは均一な厚みの下引き層を介して一様な厚み
の金属反射膜を設けてなり、 上記ディスク基板表面側に形成された情報ピットおよび
／または案内溝の深さが、内周側から外周側へ向かって
次第に深くなっており、上記光吸収層表面側において、
上記情報ピットおよび／または案内溝に対応する凹部の
深さが実質的に均一であることを特徴とする、光ディス
ク。 - 【請求項２】請求項１記載の光ディスクの金属反射膜上
に、一様な厚みの保護膜を設けたことを特徴とする、追
記型の光ディスク。 - 【請求項３】請求項１記載の光ディスクを製造する方法
であって、 情報ピットおよび／または案内溝に対応する凹凸が、内
周側から外周側へ向かって凹部の深さを次第に大きくす
るように形成されたスタンパーを用い、射出成形により
成形樹脂の基板ディスクを形成し、 この基板ディスクの上に直接、もしくは均一な厚みの下
地層を形成後、色素を主成分とする光吸収層をスピンコ
ートにより形成し、 この光吸収層上に直接、もしくは均一な厚みの下引き層
を形成後、均一な厚みの金属反射膜を蒸着もしくはスパ
ッタリングにより形成することを特徴とする、光ディス
ク製造方法。 - 【請求項４】請求項２記載の光情報ディスクを製造する
方法であって、 請求項３記載の方法で形成された光ディスクの金属反射
膜の上に紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線照射により硬
化させて保護膜とすることを特徴とする、光ディスク製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00838292A JP3271779B2 (ja) | 1992-01-21 | 1992-01-21 | 光ディスクおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00838292A JP3271779B2 (ja) | 1992-01-21 | 1992-01-21 | 光ディスクおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05198011A true JPH05198011A (ja) | 1993-08-06 |
| JP3271779B2 JP3271779B2 (ja) | 2002-04-08 |
Family
ID=11691674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00838292A Expired - Fee Related JP3271779B2 (ja) | 1992-01-21 | 1992-01-21 | 光ディスクおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3271779B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1211040A2 (en) * | 1999-02-09 | 2002-06-05 | Ricoh Company, Ltd. | Optical disk and method of producing the same |
| WO2006064932A1 (en) * | 2004-12-15 | 2006-06-22 | Ricoh Company, Ltd. | Write-once-read-many optical recording medium |
| CN100362591C (zh) * | 2002-03-29 | 2008-01-16 | 株式会社东芝 | 磁存储装置的制造方法 |
-
1992
- 1992-01-21 JP JP00838292A patent/JP3271779B2/ja not_active Expired - Fee Related
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