JPS621726A - 感光性ポリアミド酸組成物 - Google Patents
感光性ポリアミド酸組成物Info
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- JPS621726A JPS621726A JP14020185A JP14020185A JPS621726A JP S621726 A JPS621726 A JP S621726A JP 14020185 A JP14020185 A JP 14020185A JP 14020185 A JP14020185 A JP 14020185A JP S621726 A JPS621726 A JP S621726A
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- anhydride
- diamine
- tricarboxylic
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
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- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0387—Polyamides or polyimides
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は特定の感光性ポリアミド酸組成物に関する。さ
らに詳しくは、露光により架橋させることができ、また
、加熱により耐熱性の良いポリイミドを与えることがで
きる感光性ポリアミド酸組成物に関する。
らに詳しくは、露光により架橋させることができ、また
、加熱により耐熱性の良いポリイミドを与えることがで
きる感光性ポリアミド酸組成物に関する。
（従来の技術）
ポリイミドは、その高い耐熱性と耐放射線性のため、電
子材料分野で、固体素子の絶縁層やパッシベーション層
などに広く用いられている。
子材料分野で、固体素子の絶縁層やパッシベーション層
などに広く用いられている。
しかし、非感光性のポリイミドを用いる場合には。
その上にレジストを設けてから強アルカリでエツチング
をする必要があり、工程が極めて煩雑であった。
をする必要があり、工程が極めて煩雑であった。
これを改良するために種々のエツチング加工方法が試み
られたが、単純な工程でしかも低コスト、短時間で加工
できる方法を得るには至らなかった。
られたが、単純な工程でしかも低コスト、短時間で加工
できる方法を得るには至らなかった。
従来の非感光性のポリイミドの加工面での欠点を改良す
るために１種々の感光性ポリアミド酸が提案された。こ
れらの感光性ポリアミド酸は、露光の後。
るために１種々の感光性ポリアミド酸が提案された。こ
れらの感光性ポリアミド酸は、露光の後。
感光性ポリアミド酸を熔解する溶媒にて現像し、さらに
加熱処理して不溶部（露光部）を耐熱性のよいポリイミ
ドに変化させるものである。
加熱処理して不溶部（露光部）を耐熱性のよいポリイミ
ドに変化させるものである。
例えば、特公昭４９−１７３７４号公報にみられルヨウ
に、非感光性ポリアミド酸に重クロム酸塩を混合して感
光性ポリアミド酸とする方法が提案された。しかし、こ
の方法では重クロム酸塩を用いるために１作業環境上、
また現像排水の処理など環境保全面での問題があった。
に、非感光性ポリアミド酸に重クロム酸塩を混合して感
光性ポリアミド酸とする方法が提案された。しかし、こ
の方法では重クロム酸塩を用いるために１作業環境上、
また現像排水の処理など環境保全面での問題があった。
また、保存安定性が悪く。
数時間でゲル化するため、使用直前にポリアミド酸に重
クロム酸塩を混合して用いる必要があり１作業性がきわ
めて悪いものであった。露光、加熱処理後。
クロム酸塩を混合して用いる必要があり１作業性がきわ
めて悪いものであった。露光、加熱処理後。
重クロム酸塩が残るため、絶縁層の信頼性に劣るという
欠点もあった。
欠点もあった。
これらの欠点を改良するために、特開昭４９−１１５５
４１号公報、特開昭５４−１４５７９４号公報、あるい
は特開昭５５−４５７４６号公報などにみられるように
、ポリアミド酸のカルボキシル基にアリル基を導入した
形の感光性ポリアミド酸が提案された。しかし、この方
法では、従来のポリアミド酸の製造工程に加え、アリル
基を導入するという難しい反応工程が増え、ポリマーの
精製もきわめて難しく、その結果、得られた感光性ポリ
アミド酸の価格が極めて高いものとなり、限られた用途
にしか用いることができないという致命的な欠点をもっ
ていた。また、この感光性ポリアミド酸は、二重結合を
もっているために長期の保存安定性に劣り、６０℃暗所
で２週間未満しか保存できないという欠点をも有してい
た。
４１号公報、特開昭５４−１４５７９４号公報、あるい
は特開昭５５−４５７４６号公報などにみられるように
、ポリアミド酸のカルボキシル基にアリル基を導入した
形の感光性ポリアミド酸が提案された。しかし、この方
法では、従来のポリアミド酸の製造工程に加え、アリル
基を導入するという難しい反応工程が増え、ポリマーの
精製もきわめて難しく、その結果、得られた感光性ポリ
アミド酸の価格が極めて高いものとなり、限られた用途
にしか用いることができないという致命的な欠点をもっ
ていた。また、この感光性ポリアミド酸は、二重結合を
もっているために長期の保存安定性に劣り、６０℃暗所
で２週間未満しか保存できないという欠点をも有してい
た。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は従来の感光性ポリアミド酸のもつ上記の種々の
欠点を改良し、安価で、保存安定性が良好で。
欠点を改良し、安価で、保存安定性が良好で。
作業上や環境保全上の問題もない感光性ポリアミド酸組
成物を提供するものである。
成物を提供するものである。
（問題を解決するための手段）
本発明は、脂肪族ジアミンおよび（または）脂環式ジア
ミン、必要に応じて芳香族ジアミンおよび（または）複
素環ジアミン、カルボニル基を有するテトラカルボン酸
二無水物および（または）トリカルボン酸無水物および
（または）トリカルボン酸無水物誘導体、および必要に
応じてカルボニル基を有さないテトラカルボン酸二無水
物および（または）トリカルボン酸無水物および（また
は）−トリカルボン酸無水物誘導体を反応させて得られ
るポリアミド酸（Ａ）と、ジアミン、およびテトラカル
ボン酸二無水物および（または）トリカルボン酸無水物
および（または）トリカルボン酸無水物誘導体を反応さ
せて得られるポリアミド酸（Ｂ）とからなることを特徴
とする感光性ポリアミド酸組成物である。
ミン、必要に応じて芳香族ジアミンおよび（または）複
素環ジアミン、カルボニル基を有するテトラカルボン酸
二無水物および（または）トリカルボン酸無水物および
（または）トリカルボン酸無水物誘導体、および必要に
応じてカルボニル基を有さないテトラカルボン酸二無水
物および（または）トリカルボン酸無水物および（また
は）−トリカルボン酸無水物誘導体を反応させて得られ
るポリアミド酸（Ａ）と、ジアミン、およびテトラカル
ボン酸二無水物および（または）トリカルボン酸無水物
および（または）トリカルボン酸無水物誘導体を反応さ
せて得られるポリアミド酸（Ｂ）とからなることを特徴
とする感光性ポリアミド酸組成物である。
本発明において脂肪族ジアミンとしては特に制限はなく
１例えば、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、１
．４−ジアミノブタン、ヘキサメチレンジアミン、■、
８−ジアミノオクタン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−
キシリレンジアミン、０−キシリレンジアミンなど、あ
るいはこれらの混合物を用いることができる。
１例えば、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、１
．４−ジアミノブタン、ヘキサメチレンジアミン、■、
８−ジアミノオクタン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−
キシリレンジアミン、０−キシリレンジアミンなど、あ
るいはこれらの混合物を用いることができる。
脂環式ジアミンとしては特に制限はなく何でもよいが１
代表的なものとしては１，４−ジアミノシクロヘキサン
を例示することができる。
代表的なものとしては１，４−ジアミノシクロヘキサン
を例示することができる。
本発明において、芳香族ジアミンとしては特に制限はな
く９例えば、２，４−ジアミノトルエン、２゜６−ジア
ミノトルエン、■、８−ジアミノーｐ−メンタン、１．
８−ジアミノナフタレン、２．６−ジアミツアントラキ
ノン、３，５−ジアミノ安息香酸。
く９例えば、２，４−ジアミノトルエン、２゜６−ジア
ミノトルエン、■、８−ジアミノーｐ−メンタン、１．
８−ジアミノナフタレン、２．６−ジアミツアントラキ
ノン、３，５−ジアミノ安息香酸。
２．５−ジアミノベンゼンスルホン酸、０−フェニレン
ジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジ
アミン、３．３−ジアミノベンジジン、４゜４−ジアミ
ノフェニルエーテル、３．３’−ジアミノフェニルエー
テル、４．４−ジアミノフェニルスルホン、３，３〜ジ
アミノフエニルスルホン、 ４． ４’−ジアミノフ
ェニルメタン、３．３’−ジアミノフェニルメタンなど
、あるいはこれらの混合物を用いることができる。
ジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジ
アミン、３．３−ジアミノベンジジン、４゜４−ジアミ
ノフェニルエーテル、３．３’−ジアミノフェニルエー
テル、４．４−ジアミノフェニルスルホン、３，３〜ジ
アミノフエニルスルホン、 ４． ４’−ジアミノフ
ェニルメタン、３．３’−ジアミノフェニルメタンなど
、あるいはこれらの混合物を用いることができる。
複素環ジアミンとしては特に制限はな（何を用いでもよ
いが２代表的なものとしては、２，６−ジアミノピリジ
ン、２，５−ジアミノピリジン、３，５−ジアミノ−１
，２，４−トリアゾールなど、あるいはこれらの混合物
を例示することができる。
いが２代表的なものとしては、２，６−ジアミノピリジ
ン、２，５−ジアミノピリジン、３，５−ジアミノ−１
，２，４−トリアゾールなど、あるいはこれらの混合物
を例示することができる。
本発明においてトリカルボン酸無水物誘導体とはトリカ
ルボン酸無水物モノエステル、トリカルボン酸無水物ア
ミドであり、トリカルボン酸無水物アミドはトリカルボ
ン酸無水物クロライドと３級アミンとの反応で得られた
ものでもよい。
ルボン酸無水物モノエステル、トリカルボン酸無水物ア
ミドであり、トリカルボン酸無水物アミドはトリカルボ
ン酸無水物クロライドと３級アミンとの反応で得られた
ものでもよい。
本発明において、カルボニル基とは、Ｃ−Ｃ−Ｃ結合の
カルボニル基をさす。 ０本発明におい
て、カルボニル基を有するテｌ−ラヵルボン酸二無水物
および（または）トリカルボン酸無水物および（または
）トリカルボン酸無水物誘導体としては特に制限はなく
、カルボニル基を有する。
カルボニル基をさす。 ０本発明におい
て、カルボニル基を有するテｌ−ラヵルボン酸二無水物
および（または）トリカルボン酸無水物および（または
）トリカルボン酸無水物誘導体としては特に制限はなく
、カルボニル基を有する。
脂肪族、脂環式、芳香族および複素環式のテトラカルボ
ン酸二無水物、トリカルボン酸無水物、トリカルボン酸
無水物誘導体およびこれらの炭素水素基の水素がアルキ
ル基、アリール基、脂環基、複素環基。
ン酸二無水物、トリカルボン酸無水物、トリカルボン酸
無水物誘導体およびこれらの炭素水素基の水素がアルキ
ル基、アリール基、脂環基、複素環基。
ハロゲン基、ニトロ基、スルホン基に置換された置換体
から選ばれる１種または２種以上であり１代表的なもの
としては、無水３．３．４．４−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸、無水１，２，４．５−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸、無水１，２，６゜７−キサンドンテトラ
カルボン酸、無水１，２，６゜７−チオキサドンテトラ
カルポン酸、無水１，２３６．７−アントラキノンテト
ラカルボン酸など、あるいはこれらの混合物を例示する
ことができる。
から選ばれる１種または２種以上であり１代表的なもの
としては、無水３．３．４．４−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸、無水１，２，４．５−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸、無水１，２，６゜７−キサンドンテトラ
カルボン酸、無水１，２，６゜７−チオキサドンテトラ
カルポン酸、無水１，２３６．７−アントラキノンテト
ラカルボン酸など、あるいはこれらの混合物を例示する
ことができる。
本発明においてカルボニル基を有さないテトラカルボン
酸二無水物および（または）トリカルボン酸おび（また
は）トリカルボン酸無水物誘導体としては特に制限はな
く、カルボニル基を有さない、脂肪族、脂環式、芳香族
および複素環式のテトラカルボン酸二無水物、トリカル
ボン酸無水物、トリカルボン酸無水物誘導体およびこれ
らの炭素水素基の水素がアルキル基、アリール基、脂環
基、複素環基、ハロゲン基、ニトロ基、スルホン基に置
換された置換体から選ばれる１種または２種以上であり
１代表的なものとしては、無水ピロメリット酸、無水シ
クロヘキサンテトラカルボン酸、無水メタンテトラ酢酸
。
酸二無水物および（または）トリカルボン酸おび（また
は）トリカルボン酸無水物誘導体としては特に制限はな
く、カルボニル基を有さない、脂肪族、脂環式、芳香族
および複素環式のテトラカルボン酸二無水物、トリカル
ボン酸無水物、トリカルボン酸無水物誘導体およびこれ
らの炭素水素基の水素がアルキル基、アリール基、脂環
基、複素環基、ハロゲン基、ニトロ基、スルホン基に置
換された置換体から選ばれる１種または２種以上であり
１代表的なものとしては、無水ピロメリット酸、無水シ
クロヘキサンテトラカルボン酸、無水メタンテトラ酢酸
。
１．４，５．８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物
、２，２，６．６−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、ベリレンチｌ−ラカルボン酸二無水物。
、２，２，６．６−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、ベリレンチｌ−ラカルボン酸二無水物。
Ｌ ４，５−ナフタレントリカルボン酸無水物、無水
トリメリット酸１無水トリメリツト酸アミド、１゜４．
５−ナフタレントリカルボン酸無水物アミドなど、ある
いはこれらの混合物をあげることができる。
トリメリット酸１無水トリメリツト酸アミド、１゜４．
５−ナフタレントリカルボン酸無水物アミドなど、ある
いはこれらの混合物をあげることができる。
本発明において、ポリアミド酸（Ａ）は単一物質であっ
ても混合物であってもよい。
ても混合物であってもよい。
本発明において、ポリアミド酸（Ａ）の構成成分である
ジアミンと酸無水物との比率には特に制限はなく、所望
の分子量と末端基を有するポリアミド酸（Ａ）とするた
め適宜調節することができる。
ジアミンと酸無水物との比率には特に制限はなく、所望
の分子量と末端基を有するポリアミド酸（Ａ）とするた
め適宜調節することができる。
本発明において、ポリアミド酸（Ａ）は所望の分子量と
末端基を得るために１反応時にジアミン成分と酸無水物
成分との他に、モノアミンまたは（および）ジカルボン
酸無水物を併用することができる。
末端基を得るために１反応時にジアミン成分と酸無水物
成分との他に、モノアミンまたは（および）ジカルボン
酸無水物を併用することができる。
このようなモノアミンとしては、プロピルアミン。
・イソプロピルアミン、ブチルアミン、アミルアミン。
ヘキシルアミン、シクロプロピルアミン、シクロブチル
アミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン
、アニリン、ｏ−ｈルイジン１ｍ−トルイジン、 ｐ
−）ルイジン、ベンジルアミン、ナフチルアミンなど、
あるいはこれらの混合物があり、ジカルボン酸無水物と
しては、無水コハク酸、無水グルタル酸、無水シクロヘ
キサンジカルボン酸、無水フタル酸、など、あるいはこ
れらの混合物がある。
アミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン
、アニリン、ｏ−ｈルイジン１ｍ−トルイジン、 ｐ
−）ルイジン、ベンジルアミン、ナフチルアミンなど、
あるいはこれらの混合物があり、ジカルボン酸無水物と
しては、無水コハク酸、無水グルタル酸、無水シクロヘ
キサンジカルボン酸、無水フタル酸、など、あるいはこ
れらの混合物がある。
本発明において、ポリアミド酸（Ｂ）の構成成分のジア
ミンとしては、特に制限はなく、上記の脂肪族ジアミン
、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン、複素環ジアミン、
またはこれらの混合物を用いることができる。ポリアミ
ド酸（Ｂ）の構成成分のテトラカルボン酸二無水物およ
び（または）トリカルボン酸無水物および（または）ト
リカルボン酸無水物誘導体としては、特に制限はなく、
カルボニル基を有していてもいなくてもよく、上記のカ
ルボニル基を有するテトラカルボン酸二無水物および（
または）トリカルボン酸無水物および（または）トリカ
ルボン酸無水物誘導体、カルボニル基を有さないテトラ
カルボン酸無水物および（または）トリカルボン酸無水
物および（または）トリカルボン酸無水物誘導体、また
はこれらの混合物を用いることができる。
ミンとしては、特に制限はなく、上記の脂肪族ジアミン
、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン、複素環ジアミン、
またはこれらの混合物を用いることができる。ポリアミ
ド酸（Ｂ）の構成成分のテトラカルボン酸二無水物およ
び（または）トリカルボン酸無水物および（または）ト
リカルボン酸無水物誘導体としては、特に制限はなく、
カルボニル基を有していてもいなくてもよく、上記のカ
ルボニル基を有するテトラカルボン酸二無水物および（
または）トリカルボン酸無水物および（または）トリカ
ルボン酸無水物誘導体、カルボニル基を有さないテトラ
カルボン酸無水物および（または）トリカルボン酸無水
物および（または）トリカルボン酸無水物誘導体、また
はこれらの混合物を用いることができる。
本発明の感光性ポリアミド酸組成物の耐熱性を高めるた
めには、ポリアミド酸（Ｂ）の構成成分のジアミンまた
はテトラカルボン酸二無水物および（または）トリカル
ボン酸無水物および（または）トリカルボン酸無水物誘
導体のいずれか一方が芳香族。
めには、ポリアミド酸（Ｂ）の構成成分のジアミンまた
はテトラカルボン酸二無水物および（または）トリカル
ボン酸無水物および（または）トリカルボン酸無水物誘
導体のいずれか一方が芳香族。
複素環式あるいはこれらの置換体であることが好ましい
。
。
本発明において、ポリアミド酸（Ｂ）は単一物質であっ
ても混合物であってもよい。
ても混合物であってもよい。
ポリアミド酸（Ｂ）の構成成分であるジアミンと酸無水
物との比率には特に制限はなく、所望の分子量と末端基
を有するポリアミド酸（Ｂ）とするため適宜調節するこ
とができる。
物との比率には特に制限はなく、所望の分子量と末端基
を有するポリアミド酸（Ｂ）とするため適宜調節するこ
とができる。
本発明において、所望の分子量と末端基を有するポリア
ミド酸（Ｂ）を得るために１反応時に上記モノアミンお
よび（または）ジカルボン酸無水物を併用することがで
きる。
ミド酸（Ｂ）を得るために１反応時に上記モノアミンお
よび（または）ジカルボン酸無水物を併用することがで
きる。
本発明の感光性ポリアミド酸組成物が、それ自体でフィ
ルム形成能を有するためには、ポリアミド酸（Ａ）およ
び（Ｂ）の少なくともいずれか一方が。
ルム形成能を有するためには、ポリアミド酸（Ａ）およ
び（Ｂ）の少なくともいずれか一方が。
その構成成分ジアミン１モルに対して酸無水物０．９〜
１．１モルの割合で反応させて得られたものであること
が望ましい。
１．１モルの割合で反応させて得られたものであること
が望ましい。
また９本発明の感光性ポリアミド酸組成物は、フィルム
形成能を有する他の樹脂と混合して用いることもできる
。
形成能を有する他の樹脂と混合して用いることもできる
。
本発明の感光性ポリアミド酸組成物は、ポリアミド酸（
Ａ）および（Ｂ）の他に、必要に応じて、溶剤、顔料１
体質顔料、消泡剤、滑剤、充填剤などの自体公知の各種
添加剤や、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、感光性樹脂な
ど他の樹脂を含んでもよい。
Ａ）および（Ｂ）の他に、必要に応じて、溶剤、顔料１
体質顔料、消泡剤、滑剤、充填剤などの自体公知の各種
添加剤や、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、感光性樹脂な
ど他の樹脂を含んでもよい。
（作 用）
本発明に係わる感光性ポリアミド酸組成物は、紫外線、
Ｘ−線、電子線、α−線、β−線、γ−線などの放射線
を照射することにより光架橋させ、ポリアミド酸の溶媒
として通常用いられるジメチルアセトアミド、メチルセ
ロソルブなどの有機溶剤やアルカリ水溶液に対して不溶
化させることができる。さらに、これを加熱することに
より閉環させ、耐熱性。
Ｘ−線、電子線、α−線、β−線、γ−線などの放射線
を照射することにより光架橋させ、ポリアミド酸の溶媒
として通常用いられるジメチルアセトアミド、メチルセ
ロソルブなどの有機溶剤やアルカリ水溶液に対して不溶
化させることができる。さらに、これを加熱することに
より閉環させ、耐熱性。
耐溶剤性に優れたポリイミドとすることができる。
本発明の感光性ポリアミド酸組成物は、放射線照射後、
上記の有機溶剤またはアルカリ水溶液で現像し、さらに
加熱することにより耐熱性、耐溶剤性に優れたものとす
ることができる。
上記の有機溶剤またはアルカリ水溶液で現像し、さらに
加熱することにより耐熱性、耐溶剤性に優れたものとす
ることができる。
（実 施 例）
以下、実施例により本発明を説明する。例中２部とは重
量部を表わす。
量部を表わす。
（実施例１）
ジメチルアセトアミド１５０部にｍ−キシリレンジアミ
ン１３．６部を溶解し、これに無水３，３，４゜４−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸３２．２部を加え、常温
で３０分間よく攪拌し、ポリアミド酸（Ａ）溶液を得た
。
ン１３．６部を溶解し、これに無水３，３，４゜４−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸３２．２部を加え、常温
で３０分間よく攪拌し、ポリアミド酸（Ａ）溶液を得た
。
得られたポリアミド酸（Ａ）溶液５０部に、芳香族系ポ
リアミド酸（Ｂ）溶液、バイヤーＭＬＲＣ−５０５７（
デュポン社製、固形分重量１７％）５０部を混合し、得
られた感光性ポリアミド酸組成物をガラス板上に塗布し
、８０℃で１時間乾燥した後。
リアミド酸（Ｂ）溶液、バイヤーＭＬＲＣ−５０５７（
デュポン社製、固形分重量１７％）５０部を混合し、得
られた感光性ポリアミド酸組成物をガラス板上に塗布し
、８０℃で１時間乾燥した後。
８０℃で１時間真空乾燥して得られた厚さ１０μｍの塗
膜に強度８Ｑ Ｗ ／ ｃｍ、 ライン速度２ｍ／分に
て５回紫外線を照射した。照射後の塗膜はジメチルアセ
トアミドに溶けないものであった。紫外線照射前後の赤
外線吸収スペクトルを比較すると、照射後では１４００
ｃｍ 近辺の吸収が弱くなっていることから−ＣＨ
２−のプロトンが引きぬかれ架橋反応が起っていること
が確認できた。
膜に強度８Ｑ Ｗ ／ ｃｍ、 ライン速度２ｍ／分に
て５回紫外線を照射した。照射後の塗膜はジメチルアセ
トアミドに溶けないものであった。紫外線照射前後の赤
外線吸収スペクトルを比較すると、照射後では１４００
ｃｍ 近辺の吸収が弱くなっていることから−ＣＨ
２−のプロトンが引きぬかれ架橋反応が起っていること
が確認できた。
紫外線照射後の塗膜をさらに２００℃にて３０分間加熱
処理をした。得られたフィルムを熱重量分析したところ
、４００℃まで重量減少がなく、耐熱性が極めて高いこ
とがわかった。加熱処理前後の赤外線吸収スペクトルを
比較すると、加熱処理後には。
処理をした。得られたフィルムを熱重量分析したところ
、４００℃まで重量減少がなく、耐熱性が極めて高いこ
とがわかった。加熱処理前後の赤外線吸収スペクトルを
比較すると、加熱処理後には。
１５５０ｃｍ のアミドの吸収が消滅し、 １７９
０ｃｎ＋−’のイミドの特異吸収が出現していることか
ら、ポリイミドが生成したことが確認できた。
０ｃｎ＋−’のイミドの特異吸収が出現していることか
ら、ポリイミドが生成したことが確認できた。
なお、得られた感光性ポリアミド酸溶液は６０℃で１ケ
月保存しても粘度の増大はなく、経時安定性のよいもの
であった。
月保存しても粘度の増大はなく、経時安定性のよいもの
であった。
（実施例２）
ジメチルアセトアミド１５０部にｍ−キシリレンジアミ
ン９．５部とへキサメチレンジアミン３．５部とを熔解
し、これに無水３，３，４．４−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸３２．２部を加え、常温で３０分間よく攪拌
し、ポリアミド酸（Ａ）溶液を得た。
ン９．５部とへキサメチレンジアミン３．５部とを熔解
し、これに無水３，３，４．４−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸３２．２部を加え、常温で３０分間よく攪拌
し、ポリアミド酸（Ａ）溶液を得た。
得られたポリアミド酸（Ａ）溶液５０部に、バイヤーＭ
ＬＲＣ−５０５７５０部を混合し、得られた感光性ポリ
アミド酸組成物をガラス板上に塗布し。
ＬＲＣ−５０５７５０部を混合し、得られた感光性ポリ
アミド酸組成物をガラス板上に塗布し。
８０℃で１時間乾燥して得られた厚さ１０μｍの塗膜に
強度８０ Ｗ ／ ｃｍ、ライン速度２ｍ／分にて２回
紫外線を照射した。照射後の塗膜はジメチルアセトアミ
ドに不溶であった。紫外線照射後の塗膜をさらに１８０
℃で３０分間加熱処理して得られたフィルムは強靭で、
しかも耐熱性が高く、熱重量分析の結果でも４００℃ま
で重量減少は認められなかった。
強度８０ Ｗ ／ ｃｍ、ライン速度２ｍ／分にて２回
紫外線を照射した。照射後の塗膜はジメチルアセトアミ
ドに不溶であった。紫外線照射後の塗膜をさらに１８０
℃で３０分間加熱処理して得られたフィルムは強靭で、
しかも耐熱性が高く、熱重量分析の結果でも４００℃ま
で重量減少は認められなかった。
また、得られた感光性ポリアミド酸組成物を銅板上に塗
布し、８０℃で１時間乾燥した後、８０℃で１時間真空
乾燥して得られた厚さ１０μｍの塗膜の上にストファー
社製イメージフィルムを載せ９石英板でカバーをして、
その上から強度８０ Ｗ ／ ｃｍ、うイン速度２ｍ／
分にて２回紫外線を照射した。ついで、ジメチルアセト
アミドで現像し、不溶部を２００℃で３０分間加熱処理
して精密かつ鮮明なパターン像を得た。テープ剥離テス
トを行なってもこのパターン像は銅板からはがれず、ま
たジメチルアセトアミドに浸漬してもこのパターン像は
溶解も膨潤もしなかった。
布し、８０℃で１時間乾燥した後、８０℃で１時間真空
乾燥して得られた厚さ１０μｍの塗膜の上にストファー
社製イメージフィルムを載せ９石英板でカバーをして、
その上から強度８０ Ｗ ／ ｃｍ、うイン速度２ｍ／
分にて２回紫外線を照射した。ついで、ジメチルアセト
アミドで現像し、不溶部を２００℃で３０分間加熱処理
して精密かつ鮮明なパターン像を得た。テープ剥離テス
トを行なってもこのパターン像は銅板からはがれず、ま
たジメチルアセトアミドに浸漬してもこのパターン像は
溶解も膨潤もしなかった。
（実施例３）
ジメチルアセトアミド１５０部にｍ−キシリレンジアミ
ン４．１部と３，３−ジアミノフェニルスルホン１７．
４部とを溶解し、これにさらに無水３，３゜４．４′−
ベンゾフェノンテトラカルボン酸３２．２部を加え、常
温で３０分間はげしく攪拌した後、メチルセロソルブ１
００部を加えポリアミド酸（Ａ）溶液を得た。得られた
ポリアミド酸（Ａ）溶液８０部に、バイヤーＭＬＲＣ−
５０５７２０部を混合し。
ン４．１部と３，３−ジアミノフェニルスルホン１７．
４部とを溶解し、これにさらに無水３，３゜４．４′−
ベンゾフェノンテトラカルボン酸３２．２部を加え、常
温で３０分間はげしく攪拌した後、メチルセロソルブ１
００部を加えポリアミド酸（Ａ）溶液を得た。得られた
ポリアミド酸（Ａ）溶液８０部に、バイヤーＭＬＲＣ−
５０５７２０部を混合し。
得られた感光性ポリアミド酸組成物をガラス板上に塗布
し、８０℃で１時間乾燥した後、８０℃で１時間真空乾
燥して得られた厚さ１０μｍの塗膜に強度８Ｑ Ｗ ／
ｃｍ、 ライン速度２ｍ／分にて５回紫外線を照射
した。紫外線照射後の塗膜はメチルセロソルブには溶け
なくなっていた。さらにこれを２００℃で３０分間加熱
処理をして得られた塗膜は高い耐熱性と耐溶剤性を示し
、熱Ｍ量分析でも４００℃まで重量減少が認められなか
った。
し、８０℃で１時間乾燥した後、８０℃で１時間真空乾
燥して得られた厚さ１０μｍの塗膜に強度８Ｑ Ｗ ／
ｃｍ、 ライン速度２ｍ／分にて５回紫外線を照射
した。紫外線照射後の塗膜はメチルセロソルブには溶け
なくなっていた。さらにこれを２００℃で３０分間加熱
処理をして得られた塗膜は高い耐熱性と耐溶剤性を示し
、熱Ｍ量分析でも４００℃まで重量減少が認められなか
った。
（実施例４）
ジメチルアセトアミド１５０部にｍ−キシリレンジアミ
ン４．１部と３，３−ジアミノフェニルスルホン１７．
４部とを溶解し、これにさらに無水３，３゜４．４−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸１６．１部と無水ピロメ
リット酸１０．９部とを加え、常温で３０分間よ（攪拌
してポリアミド酸（Ａ）溶液を得た。
ン４．１部と３，３−ジアミノフェニルスルホン１７．
４部とを溶解し、これにさらに無水３，３゜４．４−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸１６．１部と無水ピロメ
リット酸１０．９部とを加え、常温で３０分間よ（攪拌
してポリアミド酸（Ａ）溶液を得た。
得られたポリアミド酸（Ａ）溶液８０部に、バイヤーＭ
ＬＲＣ−５０５７２０部を混合し、得られた感光性ポリ
アミド酸組成物をガラス板上に塗布し。
ＬＲＣ−５０５７２０部を混合し、得られた感光性ポリ
アミド酸組成物をガラス板上に塗布し。
８０℃で１時間乾燥した後、８０℃で１時間真空乾燥し
て厚さ１０μｍの塗膜を得、これに強度８０Ｗ／ｃｍ、
ライン速度２ｍ／分にて２回紫外線を照射した。照射
後の塗膜はジメチルアセトアミドに溶けなくなっていた
。さらにこれを２００℃で３０分間加熱処理をして得ら
れた塗膜は、極めて高い耐熱性と耐溶剤性を示した。
て厚さ１０μｍの塗膜を得、これに強度８０Ｗ／ｃｍ、
ライン速度２ｍ／分にて２回紫外線を照射した。照射
後の塗膜はジメチルアセトアミドに溶けなくなっていた
。さらにこれを２００℃で３０分間加熱処理をして得ら
れた塗膜は、極めて高い耐熱性と耐溶剤性を示した。
（実施例５）
ジメチルアセトアミド１５０部に１ｍ−キシリレンジア
ミン１３．６部とトリエチルアミン１０．１部とを溶解
し、これにさらに無水トリメリット酸クロライド２１部
を水冷下で加え、３０分間よく攪拌し、その後室温でさ
らに３０分間攪拌した。得られた反応溶液を水中にあけ
、ろ別後、固形分をメタノ溶解し、ポリアミド酸（Ｘ）
溶液を得た。一方、ジメチルアセトアミド１５０部に４
，４−ジアミノフ二二ルエーテル２０部を溶解し、無水
３．３，４゜４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸３
２．２部を加え３０分間よく攪拌し、ポリアミド酸ＯＯ
溶液を得た。得られたポリアミド酸（Ｂ）溶液１００部
にポリアミド酸（Ａ）溶液１００部を混合し、感光性ポ
リアミド酸組成物溶液を得た。
ミン１３．６部とトリエチルアミン１０．１部とを溶解
し、これにさらに無水トリメリット酸クロライド２１部
を水冷下で加え、３０分間よく攪拌し、その後室温でさ
らに３０分間攪拌した。得られた反応溶液を水中にあけ
、ろ別後、固形分をメタノ溶解し、ポリアミド酸（Ｘ）
溶液を得た。一方、ジメチルアセトアミド１５０部に４
，４−ジアミノフ二二ルエーテル２０部を溶解し、無水
３．３，４゜４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸３
２．２部を加え３０分間よく攪拌し、ポリアミド酸ＯＯ
溶液を得た。得られたポリアミド酸（Ｂ）溶液１００部
にポリアミド酸（Ａ）溶液１００部を混合し、感光性ポ
リアミド酸組成物溶液を得た。
得られた感光性ポリアミド酸組成物溶液をガラス板上に
塗布し、８０’Ｃで１時間乾燥した後、ａｏ’ｃで１時
間真空乾燥して厚さ１０μｍの塗膜を得、これに強度８
０ Ｗ／ ｃ ｍ、 ライン速度２ｍ／分にて２回紫
外線を照射した。照射後の塗膜はジメチルアセトアミド
に熔けなくなっていた。さらにこれを２００℃で３０分
間加熱処理をして得られた塗膜は、きわめて高い耐熱性
と耐溶剤性を示した。熱重量分析の結果でも４００”Ｃ
まで重量減少は認められなかった。
塗布し、８０’Ｃで１時間乾燥した後、ａｏ’ｃで１時
間真空乾燥して厚さ１０μｍの塗膜を得、これに強度８
０ Ｗ／ ｃ ｍ、 ライン速度２ｍ／分にて２回紫
外線を照射した。照射後の塗膜はジメチルアセトアミド
に熔けなくなっていた。さらにこれを２００℃で３０分
間加熱処理をして得られた塗膜は、きわめて高い耐熱性
と耐溶剤性を示した。熱重量分析の結果でも４００”Ｃ
まで重量減少は認められなかった。
本発明により、保存安定性が良好で１作業上や環境保全
上の問題もない感光性ポリアミド酸組成物を提供するこ
とが可能となった。また１本発明の感光性ポリアミド酸
組成物は、二重結合を導入する工程なしで製造できるた
め、極めて安価であり、また。
上の問題もない感光性ポリアミド酸組成物を提供するこ
とが可能となった。また１本発明の感光性ポリアミド酸
組成物は、二重結合を導入する工程なしで製造できるた
め、極めて安価であり、また。
原料ジアミン成分として脂肪族ジアミンなど安価なジア
ミンの量を増やすことによりさらに安価に製造すること
ができる。二重結合を導入した感光性ポリアミド酸と異
なり１本発明の感光性ポリアミド酸組成物は、増感剤を
必要とせず低分子量物もなく９重クロム酸塩の残存もな
いため、電子材料や光学材料ることにより極めて高い耐
熱性と耐溶剤性を付与できるので、ＩＣやＬＳＩ用の材
料やプリント基板用に利用でき、また耐熱性の優れた感
光性接着剤、塗料などとしても用いることができる。
ミンの量を増やすことによりさらに安価に製造すること
ができる。二重結合を導入した感光性ポリアミド酸と異
なり１本発明の感光性ポリアミド酸組成物は、増感剤を
必要とせず低分子量物もなく９重クロム酸塩の残存もな
いため、電子材料や光学材料ることにより極めて高い耐
熱性と耐溶剤性を付与できるので、ＩＣやＬＳＩ用の材
料やプリント基板用に利用でき、また耐熱性の優れた感
光性接着剤、塗料などとしても用いることができる。
本発明において、ポリアミド酸（Ａ）および（、Ｂ）の
組合せを適宜選択することによって、所望の物性を有す
るポリイミドを自由に得ることができるようになった。
組合せを適宜選択することによって、所望の物性を有す
るポリイミドを自由に得ることができるようになった。
Claims (1)
- 脂肪族ジアミンおよび（または）脂環式ジアミン必要に
応じて芳香族ジアミンおよび（または）複素環ジアミン
、カルボニル基を有するテトラカルボン酸二無水物およ
び（または）トリカルボン酸無水物および（または）ト
リカルボン酸無水物誘導体、および必要に応じてカルボ
ニル基を有さないテトラカルボン酸二無水物および（ま
たは）トリカルボン酸無水物および（または）トリカル
ボン酸無水物誘導体を反応させて得られるポリアミド酸
（Ａ）と、ジアミン、およびテトラカルボン酸二無水物
および（または）トリカルボン酸無水物および（または
）トリカルボン酸無水物誘導体を反応させて得られるポ
リアミド酸（Ｂ）とからなることを特徴とする感光性ポ
リアミド酸組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14020185A JPS621726A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 感光性ポリアミド酸組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14020185A JPS621726A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 感光性ポリアミド酸組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS621726A true JPS621726A (ja) | 1987-01-07 |
Family
ID=15263267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14020185A Pending JPS621726A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 感光性ポリアミド酸組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS621726A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02294362A (ja) * | 1989-05-08 | 1990-12-05 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 新しいポリアミド酸組成物 |
| US5104966A (en) * | 1989-06-13 | 1992-04-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polyimide insulation with improved arc track resistance |
| US6364465B1 (en) | 1995-07-06 | 2002-04-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ink jet heads having photoresist layer containing poly (amic acid) |
| JP2013256642A (ja) * | 2012-05-17 | 2013-12-26 | Jfe Chemical Corp | コーティング剤組成物及びコーティング膜形成方法 |
| US11516602B2 (en) | 2015-12-30 | 2022-11-29 | Earlens Corporation | Damping in contact hearing systems |
-
1985
- 1985-06-28 JP JP14020185A patent/JPS621726A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02294362A (ja) * | 1989-05-08 | 1990-12-05 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 新しいポリアミド酸組成物 |
| US5104966A (en) * | 1989-06-13 | 1992-04-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polyimide insulation with improved arc track resistance |
| US6364465B1 (en) | 1995-07-06 | 2002-04-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ink jet heads having photoresist layer containing poly (amic acid) |
| JP2013256642A (ja) * | 2012-05-17 | 2013-12-26 | Jfe Chemical Corp | コーティング剤組成物及びコーティング膜形成方法 |
| US11516602B2 (en) | 2015-12-30 | 2022-11-29 | Earlens Corporation | Damping in contact hearing systems |
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