JPS6217025A - フツ化物ガラスの製造方法 - Google Patents
フツ化物ガラスの製造方法Info
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- JPS6217025A JPS6217025A JP15523485A JP15523485A JPS6217025A JP S6217025 A JPS6217025 A JP S6217025A JP 15523485 A JP15523485 A JP 15523485A JP 15523485 A JP15523485 A JP 15523485A JP S6217025 A JPS6217025 A JP S6217025A
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- JP
- Japan
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- glass
- fluoride glass
- fluoride
- iron
- gas
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/32—Non-oxide glass compositions, e.g. binary or ternary halides, sulfides or nitrides of germanium, selenium or tellurium
- C03C3/325—Fluoride glasses
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野）
本発明は、光ファイバに用いるフ・ノ化物ガラスの製造
法に関し、特に、ＺｒＦ４又は）ｌｆＦＪ系フ・ノ化物
ガラスの製造法に関する。
法に関し、特に、ＺｒＦ４又は）ｌｆＦＪ系フ・ノ化物
ガラスの製造法に関する。
（従来技術とその問題点）
フッ化物ガラス、特にＺｒＦ４． ＨｆＦ４フ・ノ化物
ガラスを用いた光ファイバは２〜３μｍ波長帯において
０．０１ｄＢ／ｋｍ以下という、石英ガラスファイノ＼
を上回る低損失値が理論的に予測されており、次世代の
光フアイバ素材として注目されている。
ガラスを用いた光ファイバは２〜３μｍ波長帯において
０．０１ｄＢ／ｋｍ以下という、石英ガラスファイノ＼
を上回る低損失値が理論的に予測されており、次世代の
光フアイバ素材として注目されている。
しかしながら、フッ化物ガラス中に不純物として含有さ
れている水酸基（ＯＨ基）、アンモニアイオン（ＮＨ４
） 、硫酸イオン（５０４） 、炭酸イオン（ＣＯｌ）
。
れている水酸基（ＯＨ基）、アンモニアイオン（ＮＨ４
） 、硫酸イオン（５０４） 、炭酸イオン（ＣＯｌ）
。
硝酸イオン（ＮＯ３）等の化合物イオンの分子振動によ
る３μｍ近傍の光吸収、および鉄、銅、二・ソケル等の
遷移金属の電子遷移による光吸収が低損失化の際の大き
な障害となっている。
る３μｍ近傍の光吸収、および鉄、銅、二・ソケル等の
遷移金属の電子遷移による光吸収が低損失化の際の大き
な障害となっている。
これらのうち、水酸基や化合物イオンは、７００℃以上
のＮＦ、ガス雰囲気中でガラスを製ＩＴｈすれば散乱の
原因となる酸化物を生成することなく、分解し除去でき
ることが知られている。
のＮＦ、ガス雰囲気中でガラスを製ＩＴｈすれば散乱の
原因となる酸化物を生成することなく、分解し除去でき
ることが知られている。
一方、遷移金属の除去は、フッ化物ガラス原料を加熱し
、蒸気圧差を利用して遷移金属を分離させる昇華法や、
フン化物ガラスのロンドを部分的に溶融し、この溶融部
分を徐々に移動させ不純物の溶解度の温度差を利用した
帯溶融法などの物理的方法や、フッ化物ガラス原料の水
溶液を作り、この水溶液を徐冷しながら再結晶させるこ
とにより純度の高い結晶を得る方法などの化学的方法が
用いられてきている。
、蒸気圧差を利用して遷移金属を分離させる昇華法や、
フン化物ガラスのロンドを部分的に溶融し、この溶融部
分を徐々に移動させ不純物の溶解度の温度差を利用した
帯溶融法などの物理的方法や、フッ化物ガラス原料の水
溶液を作り、この水溶液を徐冷しながら再結晶させるこ
とにより純度の高い結晶を得る方法などの化学的方法が
用いられてきている。
上述した従来の精製法により得られたフン化物ガラスを
２μ〜３μｍ波長帯の光通信に応用する場合、鉄以外の
遷移金属については、その遷移金属による光吸収損失が
実用上問題にならない程度に精製されているものの、鉄
については、さらに２桁以上濃度を下げる必要がある。
２μ〜３μｍ波長帯の光通信に応用する場合、鉄以外の
遷移金属については、その遷移金属による光吸収損失が
実用上問題にならない程度に精製されているものの、鉄
については、さらに２桁以上濃度を下げる必要がある。
この目的を達成することのできるフン化物ガラスの製造
方法は未だ提案されていない。
方法は未だ提案されていない。
（発明の目的と特徴）
本発明は、上記従来技術に鑑みなされたもので、２μ〜
３μｍ波長帯における鉄の光吸収損失を低減することの
できるフッ化物ガラスの製造方法を提供することを目的
とする。
３μｍ波長帯における鉄の光吸収損失を低減することの
できるフッ化物ガラスの製造方法を提供することを目的
とする。
この目的を達成するための本発明の特徴は、光損失を与
える２価の鉄（ＦｅＦｚ）を３価の鉄（ＦｅＦ３）に価
数変換することにある。
える２価の鉄（ＦｅＦｚ）を３価の鉄（ＦｅＦ３）に価
数変換することにある。
（発明の原理）
本願発明者らは、上記目的を達成するため、先ず、フッ
化物ガラス中における鉄の特性について詳細なる検討を
行い、以下ｔ１）〜（５）の知見を得た。
化物ガラス中における鉄の特性について詳細なる検討を
行い、以下ｔ１）〜（５）の知見を得た。
（１） フン化物ガラス中に含まれている鉄は、２価
の鉄（ＦＩＢＦｇ）と３価の鉄（ＦｅＦ３）の化合物で
ある。
の鉄（ＦＩＢＦｇ）と３価の鉄（ＦｅＦ３）の化合物で
ある。
（２）２価の鉄による吸収波長は、近赤外域で２〜３μ
ｍ帯の損失に影響する。
ｍ帯の損失に影響する。
（３）３価の鉄による吸収波長は、可視域で２〜３μｍ
帯の損失には影響しない。
帯の損失には影響しない。
（４） フッ化物ガラス中で、２価の鉄と３価の鉄と
の間には次式に示す化学平衡が成立する。
の間には次式に示す化学平衡が成立する。
（５）平衡状態における２価の鉄と３価の鉄の割合は次
式で表される。
式で表される。
ここで、ＣＩは２価の鉄の濃度、Ｃｔは３価の鉄の濃度
、Ｐはフッ素分圧、Ｃ３はフッ素イオンの濃度、ΔＨ°
はエンタルピーの変化、Ｒは気体定数、Ｔは絶対温度、
Ｋは定数である。
、Ｐはフッ素分圧、Ｃ３はフッ素イオンの濃度、ΔＨ°
はエンタルピーの変化、Ｒは気体定数、Ｔは絶対温度、
Ｋは定数である。
上記検討結果より、さらに次の知見を得た。
ａ）上記（１）〜（３）より鉄を精製により完全に除去
できなくても、ガラスの製造過程で２価の鉄を３価の鉄
に酸化できれは、２〜３μｍ帯での鉄による吸収を低減
することができる。
できなくても、ガラスの製造過程で２価の鉄を３価の鉄
に酸化できれは、２〜３μｍ帯での鉄による吸収を低減
することができる。
ｂ）上記（４）〜（５）より、２価の鉄から３価の鉄に
酸化するには、フッ素ガスの分圧（Ｐ）を高くし、低温
でガラスを製造すればよい。
酸化するには、フッ素ガスの分圧（Ｐ）を高くし、低温
でガラスを製造すればよい。
そこで、これら得られた知見を検証するため、２価の鉄
（ＦｅＦ ２）と３価の鉄（ＦｅＦ３）の比が１対５で
あるフン化鉄を不純物としてガラス原料にその０．５％
添加し、純粋なアルゴンガス雰囲気中と、フッ素ガス（
ＮＦ：Ｉ）を含むアルゴンガス雰囲気中とで別個にフッ
化物ガラスを作製し、それぞれのガラスの鉄による光吸
収を調べた。
（ＦｅＦ ２）と３価の鉄（ＦｅＦ３）の比が１対５で
あるフン化鉄を不純物としてガラス原料にその０．５％
添加し、純粋なアルゴンガス雰囲気中と、フッ素ガス（
ＮＦ：Ｉ）を含むアルゴンガス雰囲気中とで別個にフッ
化物ガラスを作製し、それぞれのガラスの鉄による光吸
収を調べた。
その結果、純粋の静ガス雰囲気中で作製したガラスでは
、３価の鉄を多く添加したにもかかわらす３価の鉄によ
る吸収は弱く、２価の鉄による吸収が非常に強く観測さ
れた。この現象は、純粋なＡｒガス雰囲気中では３価の
鉄は２価の鉄に還元され２〜３μｍ帯における損失を増
大することを示している。これに対しＮＦ３ガスを含む
Ａｒガス雰囲気中で作製したガラスでは３価の鉄による
吸収は増加し、２価の鉄による吸収は減少した。さらに
、ＮＦ３ガス雰囲気中でのガラス作製温度を７００℃に
下げると、２価の鉄による吸収減少し、上記理論が実験
的に確認された。
、３価の鉄を多く添加したにもかかわらす３価の鉄によ
る吸収は弱く、２価の鉄による吸収が非常に強く観測さ
れた。この現象は、純粋なＡｒガス雰囲気中では３価の
鉄は２価の鉄に還元され２〜３μｍ帯における損失を増
大することを示している。これに対しＮＦ３ガスを含む
Ａｒガス雰囲気中で作製したガラスでは３価の鉄による
吸収は増加し、２価の鉄による吸収は減少した。さらに
、ＮＦ３ガス雰囲気中でのガラス作製温度を７００℃に
下げると、２価の鉄による吸収減少し、上記理論が実験
的に確認された。
しかし、鉄による光吸収損失を０．０１ｄＢ／Ｉｕａ以
下にするにはまだ問題がある。前述のように（２）式、
、５）ら、２価の鉄の濃度を低減させるためには、フッ
素ガスの分圧Ｐを高くし、ガラスの作製温度Ｔを低くす
ればよいことが分かった。しかし、フッ素ガスの分圧Ｐ
を高めることと、ガラスの作製温度Ｔを低くすることと
は、後述の■、■の点で相反する。
下にするにはまだ問題がある。前述のように（２）式、
、５）ら、２価の鉄の濃度を低減させるためには、フッ
素ガスの分圧Ｐを高くし、ガラスの作製温度Ｔを低くす
ればよいことが分かった。しかし、フッ素ガスの分圧Ｐ
を高めることと、ガラスの作製温度Ｔを低くすることと
は、後述の■、■の点で相反する。
すなわち、フッ素ガスは元来常温でも反応性が強く、配
管や反応管をも侵し、しかも毒性が強いので、フッ素ガ
スそのものを扱うような製造方法は実用的でない。そこ
で、フッ素ガスが必要な場所において、フッ素ガスを発
生させる方法の検討が必要である。
管や反応管をも侵し、しかも毒性が強いので、フッ素ガ
スそのものを扱うような製造方法は実用的でない。そこ
で、フッ素ガスが必要な場所において、フッ素ガスを発
生させる方法の検討が必要である。
このフッ素ガスの供給源としてＣＦ４．ＳＦなどのフッ
素化合物ガスがあるが、解離により生成されたＣ２Ｓ等
がガラス中に析出し散乱中心となるため実用的でない。
素化合物ガスがあるが、解離により生成されたＣ２Ｓ等
がガラス中に析出し散乱中心となるため実用的でない。
従って、ガラス表面のフッ素分圧を高めるためのガスと
しては、熱分解によりＮ２＋Ｆ２のみしか生成しないＮ
Ｆ３ガスに限定される。
しては、熱分解によりＮ２＋Ｆ２のみしか生成しないＮ
Ｆ３ガスに限定される。
しかし、ＮＦ、ガスをフッ素ガスの供給源とした場合で
は、■フッ素ガスの分圧Ｐを高くするためには、熱分解
を活発に行わしめることが重要で、ガラスの作製温度Ｔ
を高めなければならない。■しかし、温度が高くなれば
、（１）式の平衡は左に向い２価の鉄を増す。これらは
互いに矛盾する。
は、■フッ素ガスの分圧Ｐを高くするためには、熱分解
を活発に行わしめることが重要で、ガラスの作製温度Ｔ
を高めなければならない。■しかし、温度が高くなれば
、（１）式の平衡は左に向い２価の鉄を増す。これらは
互いに矛盾する。
そこで、本発明は、フッ素ガスの供給源としてＮＦ３ガ
スを用い、反応管内にガラスを溶融する領域とは別に、
ＮＦ３ガスを熱分解するためのガラスの溶融温度より高
い高温領域を設けることで上記矛盾点を解決した。
スを用い、反応管内にガラスを溶融する領域とは別に、
ＮＦ３ガスを熱分解するためのガラスの溶融温度より高
い高温領域を設けることで上記矛盾点を解決した。
以上のように、フッ素ガスの存在下で、しかも、低温で
ガラスを溶融すれば、フッ化物ガラス中の鉄は２価から
３価に酸化され２価の鉄による近赤外域の吸収は減少し
、実質的に不純物としての鉄を除去したのと同じ効果が
あり、現在の精製技術でも鉄による吸収損失を２．５μ
ｍで０．０１ｄＢ／ｋｍ以下にすることが可能である。
ガラスを溶融すれば、フッ化物ガラス中の鉄は２価から
３価に酸化され２価の鉄による近赤外域の吸収は減少し
、実質的に不純物としての鉄を除去したのと同じ効果が
あり、現在の精製技術でも鉄による吸収損失を２．５μ
ｍで０．０１ｄＢ／ｋｍ以下にすることが可能である。
（発明の構成と作用）
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第１図（ａ）は本発明による２価の鉄による吸収損失を
低減することができろフッ化物ガラスの製造方法の実施
に用いられる製造装置の原理を説明するための模式図で
、１は反応容器、２はＮＦｉ＋＾ｒの混合ガスの導入口
、３は高温領域を作るための発熱体、４は同発熱体を加
熱するための高周波コイル、５はルツボ、６はフッ化物
ガラス、７はルツボ５を加熱するための高周波コイル、
８は排気口を示したものであり、高周波コイル４および
高周波コイル７の電流を適宜に調整することにより、第
１図（ｂ）に示したような温度分布を容易に得ることが
できる。なお、反応容器１には、図示されてはいないが
正面に開閉可能な扉があり、ルツボ５内にフッ化物ガラ
ス６の材料を入れる際等に開かれ、動作中は密閉される
。
低減することができろフッ化物ガラスの製造方法の実施
に用いられる製造装置の原理を説明するための模式図で
、１は反応容器、２はＮＦｉ＋＾ｒの混合ガスの導入口
、３は高温領域を作るための発熱体、４は同発熱体を加
熱するための高周波コイル、５はルツボ、６はフッ化物
ガラス、７はルツボ５を加熱するための高周波コイル、
８は排気口を示したものであり、高周波コイル４および
高周波コイル７の電流を適宜に調整することにより、第
１図（ｂ）に示したような温度分布を容易に得ることが
できる。なお、反応容器１には、図示されてはいないが
正面に開閉可能な扉があり、ルツボ５内にフッ化物ガラ
ス６の材料を入れる際等に開かれ、動作中は密閉される
。
従って、ＮＦ３＋Ａｒの混合ガス導入口２から供給され
たＮＦ３ガスは高周波コイル４に流れる高周波電流によ
り加熱された発熱体３により形成された高温領域を通過
する時に解離されフッ素ガスを発生し、高周波コイル７
に流れる高周波電流により加熱溶融されたフン化物ガラ
ス６の周囲を覆うため、フッ化物ガラス５の周辺のフッ
素ガスの分圧はフッ化物ガラス５の溶融温度できまるフ
ッ素ガスの分圧より高くできるため、低温でも高いフッ
素分圧のもとでフッ化物ガラスの製造が可能になり、２
価の鉄の濃度を効果的に下げることができる。
たＮＦ３ガスは高周波コイル４に流れる高周波電流によ
り加熱された発熱体３により形成された高温領域を通過
する時に解離されフッ素ガスを発生し、高周波コイル７
に流れる高周波電流により加熱溶融されたフン化物ガラ
ス６の周囲を覆うため、フッ化物ガラス５の周辺のフッ
素ガスの分圧はフッ化物ガラス５の溶融温度できまるフ
ッ素ガスの分圧より高くできるため、低温でも高いフッ
素分圧のもとでフッ化物ガラスの製造が可能になり、２
価の鉄の濃度を効果的に下げることができる。
以上のように、溶融されたフッ化物ガラス５と気体導入
口２との間にフッ化物ガラス５の溶融温度より高温の領
域を設けることにより、フ・ノ化物ガラス５の溶融温度
できまるフッ素ガスの分圧より高いフッ素ガスの分圧の
もとで、フッ化物ガラスの製造ができ、２価の鉄による
吸収損失の少ないフッ化物ガラスの製造が可能である。
口２との間にフッ化物ガラス５の溶融温度より高温の領
域を設けることにより、フ・ノ化物ガラス５の溶融温度
できまるフッ素ガスの分圧より高いフッ素ガスの分圧の
もとで、フッ化物ガラスの製造ができ、２価の鉄による
吸収損失の少ないフッ化物ガラスの製造が可能である。
（実施例）
第２図は、本発明の実施例を示したもので、９はＮＦ３
ガスからフッ素ガスを解離するためのカーボン製の容器
、１０はルツボを支持するためのアルミナ製の台、１１
は純アルゴンの導入口、１２．１３はストップパルプで
ある。
ガスからフッ素ガスを解離するためのカーボン製の容器
、１０はルツボを支持するためのアルミナ製の台、１１
は純アルゴンの導入口、１２．１３はストップパルプで
ある。
まず、ガラス原料をガラス組成がモル比で５３％Ｚｒ
−２０％Ｂａ −２０％Ｎａ−４％Ｌａ−３％ＡＡにな
るように秤量し、これに不純物としてフッ化鉄を重量比
で０．５％添加し、ルツボ５に充填しル゛応容器１内の
所定の位置に支持台１０に配置し、ストップバルブ１３
を開き、反応容器１内に純アルゴンガスを導入し、反応
容器１内の空気を純アルゴンガスに十分置換した後、高
周波コイル７に高周波電流を流し、８００℃でガラスを
３０分間溶融した。
−２０％Ｂａ −２０％Ｎａ−４％Ｌａ−３％ＡＡにな
るように秤量し、これに不純物としてフッ化鉄を重量比
で０．５％添加し、ルツボ５に充填しル゛応容器１内の
所定の位置に支持台１０に配置し、ストップバルブ１３
を開き、反応容器１内に純アルゴンガスを導入し、反応
容器１内の空気を純アルゴンガスに十分置換した後、高
周波コイル７に高周波電流を流し、８００℃でガラスを
３０分間溶融した。
しかる後、ガラスの温度を６００℃まで下げ、高周波コ
イル４に高周波電流を流し、カーボン容器９を８００℃
に加熱し、ストップバルブ１２．１３により雰囲気ガス
を純アルゴンからＮＦ：＋１０％＋Ａｒ９０％に切換え
、３０分間ガラスを溶融した後、２０℃／分で冷却し、
ガラスブロックを作成した。このガラスブロックから８
龍φ、長さ２５鰭のプリフォームを作成、これを用いて
テフロンクラッドのファイバを作成した。
イル４に高周波電流を流し、カーボン容器９を８００℃
に加熱し、ストップバルブ１２．１３により雰囲気ガス
を純アルゴンからＮＦ：＋１０％＋Ａｒ９０％に切換え
、３０分間ガラスを溶融した後、２０℃／分で冷却し、
ガラスブロックを作成した。このガラスブロックから８
龍φ、長さ２５鰭のプリフォームを作成、これを用いて
テフロンクラッドのファイバを作成した。
また、これと比較するため、不純物として鉄を５０ｐｐ
ｍ添加し、純アルゴン中で作成したガラスを用いてファ
イバを作成した。
ｍ添加し、純アルゴン中で作成したガラスを用いてファ
イバを作成した。
これらのファイバの特性が第３図に示されている。（Ｉ
）が前者であり、（ＩＩ）が後者である。第３図の縦軸
は鉄１ ｐｐｍ当たりで規格化した損失値である。
）が前者であり、（ＩＩ）が後者である。第３図の縦軸
は鉄１ ｐｐｍ当たりで規格化した損失値である。
この図から明らかなように、ＮＦ３ガスを含む雰囲気中
で作成したファイバでは、３価の鉄による吸収は大幅に
増大するが、２価の鉄による吸収はほぼ完全に消滅し、
最も吸収の大きい波長１．１μｍでも鉄ｌｐｐｍ当たり
の損失は０．２ｄＢ／ｋｍ以下になると推定出来る。従
って、鉄による吸収損失は、現在入手可能な原料（鉄の
濃度は０．ｌｐｐｍ以下）を用いても、レイリー散乱損
失より約１桁小さくなり、実用上問題がなくなる。
で作成したファイバでは、３価の鉄による吸収は大幅に
増大するが、２価の鉄による吸収はほぼ完全に消滅し、
最も吸収の大きい波長１．１μｍでも鉄ｌｐｐｍ当たり
の損失は０．２ｄＢ／ｋｍ以下になると推定出来る。従
って、鉄による吸収損失は、現在入手可能な原料（鉄の
濃度は０．ｌｐｐｍ以下）を用いても、レイリー散乱損
失より約１桁小さくなり、実用上問題がなくなる。
（発明の効果）
本発明のフッ化物ガラスの製造方法により作成されたガ
ラスを用いてファイバを作成すれば不純物としての鉄に
よる吸収損失は、フッ化物ファイバの損失の理論限界（
レイリー散乱損失）より低くなり、理論的に予測された
低損失のファイバの実現が可能になる。
ラスを用いてファイバを作成すれば不純物としての鉄に
よる吸収損失は、フッ化物ファイバの損失の理論限界（
レイリー散乱損失）より低くなり、理論的に予測された
低損失のファイバの実現が可能になる。
第１図（ａ） （ｂ）は本発明方法を実施するための製
造装置の基本構成を示す縦断面略図と同装置内温度分布
例を示す特性図、第２図は本発明方法を実施するための
製造装置の具体例を示す縦断面略図、第３図は本発明方
法と従来方法によるファイバの比較特性図である。 ■・・・反応容器、 ２・・・ＮＦ３＋＾ｒの混合ガス
導入口、 ３・・・高温領域を作るための発熱体、４・
・・発熱体（３）を加熱するための高周波コイル、５・
・・ルツボ、 ６・・・フッ化物ガラス、 ７・・・
ルツボ（５）を加熱するための高周波コイル、８・・・
排気口、 ９・・・ＮＦ３からフッ素ガスを解離するた
めのカーボン製容器、 ＩＯ・・・ルツボ（５）を支持
するためのアルミナ製支持台、 １１・・・純アルゴ
ンの導入口、 １２．１３・・・ストップバルブ。
造装置の基本構成を示す縦断面略図と同装置内温度分布
例を示す特性図、第２図は本発明方法を実施するための
製造装置の具体例を示す縦断面略図、第３図は本発明方
法と従来方法によるファイバの比較特性図である。 ■・・・反応容器、 ２・・・ＮＦ３＋＾ｒの混合ガス
導入口、 ３・・・高温領域を作るための発熱体、４・
・・発熱体（３）を加熱するための高周波コイル、５・
・・ルツボ、 ６・・・フッ化物ガラス、 ７・・・
ルツボ（５）を加熱するための高周波コイル、８・・・
排気口、 ９・・・ＮＦ３からフッ素ガスを解離するた
めのカーボン製容器、 ＩＯ・・・ルツボ（５）を支持
するためのアルミナ製支持台、 １１・・・純アルゴ
ンの導入口、 １２．１３・・・ストップバルブ。
Claims (2)
- （１）フッ化物ガラスを溶融するためルツボを反応容器
に収容し、該反応容器のガス導入口からＮＦ＿３ガスを
導入し、該反応容器内をフッ化窒素ガスの雰囲気に保っ
た状態でフッ化物ガラスを製造するフッ化物ガラスの製
造方法において、前記反応容器内で前記ＮＦ＿３ガスが
活発に熱分解しフッ素ガスが発生するように前記ガス導
入口と前記ルツボとの間にフッ化物ガラスの溶融温度よ
り高い温度領域を設けたことを特徴とするフッ化物ガラ
スの製造方法。 - （２）前記温度領域の温度は７００℃以上であり、溶融
したフッ化物ガラスの温度を７００℃以下に選択したこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のフッ化物ガ
ラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15523485A JPS6217025A (ja) | 1985-07-16 | 1985-07-16 | フツ化物ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15523485A JPS6217025A (ja) | 1985-07-16 | 1985-07-16 | フツ化物ガラスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6217025A true JPS6217025A (ja) | 1987-01-26 |
Family
ID=15601467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15523485A Pending JPS6217025A (ja) | 1985-07-16 | 1985-07-16 | フツ化物ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6217025A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2872506A1 (fr) * | 2004-06-30 | 2006-01-06 | Air Liquide | Procede de preparation d'un gaz ou melange de gaz contenant du fluor moleculaire |
| FR2872505A1 (fr) * | 2004-06-30 | 2006-01-06 | Air Liquide | Generateur de gaz fluore |
| WO2006010857A1 (fr) * | 2004-06-30 | 2006-02-02 | L'air Liquide, Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Procede de preparation d'un gaz ou melange de gaz contenant du fluor moleculaire |
| FR2887245A1 (fr) * | 2005-06-21 | 2006-12-22 | Air Liquide | Procede de preparation d'un gaz ou melange de gaz contenant du fluor moleculaire |
-
1985
- 1985-07-16 JP JP15523485A patent/JPS6217025A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2872506A1 (fr) * | 2004-06-30 | 2006-01-06 | Air Liquide | Procede de preparation d'un gaz ou melange de gaz contenant du fluor moleculaire |
| FR2872505A1 (fr) * | 2004-06-30 | 2006-01-06 | Air Liquide | Generateur de gaz fluore |
| WO2006010857A1 (fr) * | 2004-06-30 | 2006-02-02 | L'air Liquide, Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Procede de preparation d'un gaz ou melange de gaz contenant du fluor moleculaire |
| FR2887245A1 (fr) * | 2005-06-21 | 2006-12-22 | Air Liquide | Procede de preparation d'un gaz ou melange de gaz contenant du fluor moleculaire |
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