JPS62168325A - 荷電粒子線走査型分析装置 - Google Patents
荷電粒子線走査型分析装置Info
- Publication number
- JPS62168325A JPS62168325A JP60281560A JP28156085A JPS62168325A JP S62168325 A JPS62168325 A JP S62168325A JP 60281560 A JP60281560 A JP 60281560A JP 28156085 A JP28156085 A JP 28156085A JP S62168325 A JPS62168325 A JP S62168325A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- analyzed
- analysis
- point
- sample
- particle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 43
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 22
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 6
- 239000012491 analyte Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 238000012882 sequential analysis Methods 0.000 description 2
- 241000381081 Bellator Species 0.000 description 1
- 101001028691 Carybdea rastonii Toxin CrTX-A Proteins 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明は電子線マイクロアナライザ等の荷電粒Ｆｎ走査
型分析装置により、試料面上に複数の分析点を指定して
、自動的に順次分析を行って行く場合の分析位置調整装
置に関する。
型分析装置により、試料面上に複数の分析点を指定して
、自動的に順次分析を行って行く場合の分析位置調整装
置に関する。
口、従来の技術
微粒子が散在している試料で、それらの微粒子について
電子線マイクロアナライザ等を用いて分析を行う場合、
それらの微粒子について、各微粒子を含む微小領域を粒
子毎に指定して自動的に順次分析して行く。この領域指
定は各領域の中心の座標値のデータをメモリに格納する
ことによって行うが、分析を続けていると電子照射によ
る試料温度の上昇その他の原因で分析点の位置がずれて
来ることがあり、極端な場合、指定された座標位置に分
析粒子が存在しないで分析が出来ないこともある。試料
上の複数の分析点につき分析する場合、試料を移動させ
る方法と、電子ビームを偏向させる方法とあるが、電子
ビームを偏向させる場合を例に従来方法を説明すると、
試料上に基準上なる粒子を決め、試料表面像を映出する
ＣＲＴ上にウィンドウフレームを設定して、上記基準粒
子がウィンドウフレームの中心に来るようにして、その
ときの電子ビームの走査範囲の中心を基準にして他の分
析位置を決め、分析中時々電子ビームを基準粒子の位置
に戻して、基準粒子の像がＣＲＴ−１−のウィンドウフ
レーム内に表れるか否・かチＬツクし、若し基準粒子の
像がウィンドウフレームから外れていたら、電子ビーム
の位置を再調整するようにしていた。
電子線マイクロアナライザ等を用いて分析を行う場合、
それらの微粒子について、各微粒子を含む微小領域を粒
子毎に指定して自動的に順次分析して行く。この領域指
定は各領域の中心の座標値のデータをメモリに格納する
ことによって行うが、分析を続けていると電子照射によ
る試料温度の上昇その他の原因で分析点の位置がずれて
来ることがあり、極端な場合、指定された座標位置に分
析粒子が存在しないで分析が出来ないこともある。試料
上の複数の分析点につき分析する場合、試料を移動させ
る方法と、電子ビームを偏向させる方法とあるが、電子
ビームを偏向させる場合を例に従来方法を説明すると、
試料上に基準上なる粒子を決め、試料表面像を映出する
ＣＲＴ上にウィンドウフレームを設定して、上記基準粒
子がウィンドウフレームの中心に来るようにして、その
ときの電子ビームの走査範囲の中心を基準にして他の分
析位置を決め、分析中時々電子ビームを基準粒子の位置
に戻して、基準粒子の像がＣＲＴ−１−のウィンドウフ
レーム内に表れるか否・かチＬツクし、若し基準粒子の
像がウィンドウフレームから外れていたら、電子ビーム
の位置を再調整するようにしていた。
ハ９発明が解決しようとする問題点
上述した従来方法では、オペレータによる監視が必要で
完全な自動分析はできず、分析位置の再調整は面倒で位
置調整の誤差も生じ易いと云う問題がある。本発明はこ
のような問題点を解消しようとするものである。
完全な自動分析はできず、分析位置の再調整は面倒で位
置調整の誤差も生じ易いと云う問題がある。本発明はこ
のような問題点を解消しようとするものである。
二０問題点解決のための手段
試料上に複数の分析点を指定して順次分析を行っていく
際、一つの分析点の分析を終わって次の分析点に移る場
合、予め設定されたデータによって電子ビームを次の分
析点に移動させ、ＣＲ１画像信号上でその分析微粒子の
像の中心を検出して、検出された中心位置と予想中心位
置とのずれを算出し、この算出されたずれ量を更に次の
分析点の位置指定データに補正量として加算するように
した。
際、一つの分析点の分析を終わって次の分析点に移る場
合、予め設定されたデータによって電子ビームを次の分
析点に移動させ、ＣＲ１画像信号上でその分析微粒子の
像の中心を検出して、検出された中心位置と予想中心位
置とのずれを算出し、この算出されたずれ量を更に次の
分析点の位置指定データに補正量として加算するように
した。
ホ０作用
試料上に複数の分析点を指定して順次分析を行う際、各
分析微粒子毎に指定された位置のデータに基いて偏向さ
せた電子ビームの中心と分析微粒子の中心とのずれを検
出して、そのデータを次の分析点の位置指定データの補
正値とするのであるが、一つの粒子の分析から次の粒子
の分析までの間における試料上の各点の位置ずれは比較
的小さいから、分析の度の試料位置の補正を行うことベ
レータによる監視再調整の必要なしに、自動分析を継続
することができるのである。つまり分析中に試料位置が
ずれるのは、試料全体格々一様で、試料上の比較的近い
任意の２点間の距離が不規則に変化するものではないの
で、各分析点毎に毎回位置補正をして、その適正量を次
の分析点の位置指定データに加えれば、各分析点毎に小
さな誤差で位置設定ができることになる。他方分析微粒
子の中心を画像信号から検出する場合、検索範囲を余り
広くとると、分析微粒子でない粒子の像を分析粒子と間
違うことがあるので、分析粒子の中心検出のための検索
範囲は余り広（は設定できず、このため位置のずれが大
きいと分析微粒子が検索範囲から外れてしまって粒子の
検出が不能となり、自動分析ができな（なる。従って分
析毎に位置補正を行って、毎回位置誤差を小さくするこ
とによってオペレータによる監視なしの自動分析が可能
となるのである。
分析微粒子毎に指定された位置のデータに基いて偏向さ
せた電子ビームの中心と分析微粒子の中心とのずれを検
出して、そのデータを次の分析点の位置指定データの補
正値とするのであるが、一つの粒子の分析から次の粒子
の分析までの間における試料上の各点の位置ずれは比較
的小さいから、分析の度の試料位置の補正を行うことベ
レータによる監視再調整の必要なしに、自動分析を継続
することができるのである。つまり分析中に試料位置が
ずれるのは、試料全体格々一様で、試料上の比較的近い
任意の２点間の距離が不規則に変化するものではないの
で、各分析点毎に毎回位置補正をして、その適正量を次
の分析点の位置指定データに加えれば、各分析点毎に小
さな誤差で位置設定ができることになる。他方分析微粒
子の中心を画像信号から検出する場合、検索範囲を余り
広くとると、分析微粒子でない粒子の像を分析粒子と間
違うことがあるので、分析粒子の中心検出のための検索
範囲は余り広（は設定できず、このため位置のずれが大
きいと分析微粒子が検索範囲から外れてしまって粒子の
検出が不能となり、自動分析ができな（なる。従って分
析毎に位置補正を行って、毎回位置誤差を小さくするこ
とによってオペレータによる監視なしの自動分析が可能
となるのである。
へ、実施例
図は本発明の一実施例を示す。ｅは電子ビーム、Ｋｘ、
Ｋｙは電子ビームをＸ方向、Ｘ方向に偏向させる偏向コ
イル、Ｓは試料である。１はＸ方向、Ｘ方向の走査信号
発生回路で、その出力は偏向コイルＫｘ、Ｋｙの励磁電
源２及び表示用ＣＲＴの偏向コイルに印加される。励磁
電源２では走査信号にｃＪ！、ｕから入力されるＸ方向
、Ｘ方向の偏向信号を加算して偏向コイルＫｘ、Ｋｙに
出力している。Ｄは試料から放出される２次放射を検出
する検出器で、この検出器の出力はＣＲＴに送られると
共に、ＣＰＵに取込まれる。
Ｋｙは電子ビームをＸ方向、Ｘ方向に偏向させる偏向コ
イル、Ｓは試料である。１はＸ方向、Ｘ方向の走査信号
発生回路で、その出力は偏向コイルＫｘ、Ｋｙの励磁電
源２及び表示用ＣＲＴの偏向コイルに印加される。励磁
電源２では走査信号にｃＪ！、ｕから入力されるＸ方向
、Ｘ方向の偏向信号を加算して偏向コイルＫｘ、Ｋｙに
出力している。Ｄは試料から放出される２次放射を検出
する検出器で、この検出器の出力はＣＲＴに送られると
共に、ＣＰＵに取込まれる。
上述した構成により、電子ビームｅによる試料面の走査
とＣＲ７表示面の走査が同期して行われ、２次放射によ
る試料面の画像がＣＲＴに表示される。ＣＰＵから偏向
コイル励磁電源２に出力されるＸ方向、Ｘ方向の偏向信
号Ｘ、Ｙが共に０の場合、電子ビームｅによる試料面の
走査範囲は電子ビームｅを形成する電子光学系の光軸を
中心としている。偏向信号Ｘ、Ｙを任意に設定すると、
電子“ビームｅの試料面走査範囲の中心はこのＸ、Ｙの
値に応じた分ｘ、ｙだけ電子光学系の光軸よりずれる。
とＣＲ７表示面の走査が同期して行われ、２次放射によ
る試料面の画像がＣＲＴに表示される。ＣＰＵから偏向
コイル励磁電源２に出力されるＸ方向、Ｘ方向の偏向信
号Ｘ、Ｙが共に０の場合、電子ビームｅによる試料面の
走査範囲は電子ビームｅを形成する電子光学系の光軸を
中心としている。偏向信号Ｘ、Ｙを任意に設定すると、
電子“ビームｅの試料面走査範囲の中心はこのＸ、Ｙの
値に応じた分ｘ、ｙだけ電子光学系の光軸よりずれる。
オペレータはまず、偏向コイル励磁電源２に人力する偏
向信号Ｘ、Ｙを０にしてＣＲＴに映出される試料像によ
り、分析すべき微粒子像を観察して、操作パネル３によ
りＣＲ７画面上でカーソルを移動させ分析すべき微粒子
像に合わせる。第２図はＣＲＴ画面で、ａ、ｂ、ｃ、ｄ
・・・が分析ずべき微粒子の像であり、Ｃがカーソルで
、成る面債を囲むウィンドウフレームになっている。オ
ペレータがこのカーソルで粒子像を囲み、操作パネルで
入力操作を行う４：、ＣＰＵはＣＲＴ画面中心、即ち試
料上の電子光学系光軸との交点を原点としてノ１−ツル
中心の座標データを読込み記、憶する。
向信号Ｘ、Ｙを０にしてＣＲＴに映出される試料像によ
り、分析すべき微粒子像を観察して、操作パネル３によ
りＣＲ７画面上でカーソルを移動させ分析すべき微粒子
像に合わせる。第２図はＣＲＴ画面で、ａ、ｂ、ｃ、ｄ
・・・が分析ずべき微粒子の像であり、Ｃがカーソルで
、成る面債を囲むウィンドウフレームになっている。オ
ペレータがこのカーソルで粒子像を囲み、操作パネルで
入力操作を行う４：、ＣＰＵはＣＲＴ画面中心、即ち試
料上の電子光学系光軸との交点を原点としてノ１−ツル
中心の座標データを読込み記、憶する。
以上の動作をａ、ｂ、ｃ、ｄの各激粒子像について行う
と、分析位置の指定が完了する。４は加算回路で、ＣＲ
Ｔに送られる画像信号つまり検出器りの出力信号にＣＰ
Ｕから出力されるカーソル信号を加算してＣＲＴに印加
するものである。
と、分析位置の指定が完了する。４は加算回路で、ＣＲ
Ｔに送られる画像信号つまり検出器りの出力信号にＣＰ
Ｕから出力されるカーソル信号を加算してＣＲＴに印加
するものである。
以上で分析位置の指定が終わり、オペレータがＣＰＵに
自動分析の司令を与えると、ＣＰＵは次の動作を行う。
自動分析の司令を与えると、ＣＰＵは次の動作を行う。
分析は微粒子ａ、ｂ、ｃ、ｄの順に行われ、各微粒子に
つき上述動作でＣＰＵに入力された位置のデータをＸａ
、Ｙａ、Ｘｂ、Ｙｂ等とする。ＣＰＵはまず励磁電源２
に偏向信号Ｘａ、Ｘｂを出力する。電子ビームｅの走査
範囲の中心は粒子ａの中心付近に来る。こ＼でＣＰＵは
検出器りにより得られる画像信号に対して次のような解
析動作を行う。その動作を第３図によって説明する。こ
の図でＯはＣＲＴ画面の中心で、ＣはＯを中心とするカ
ーソルである。粒子像ａは本来ならその中心Ｏ′がＯと
一致している筈であるが位置指定の誤差及び試料の全体
的な位置ずれ（電子ビームとの相対的関係であるから機
械的原因だけでなく、電子光学系側の原因もある）によ
り、０と０゛とは一致しない。ＣＰＵはカーソルＣ内の
画像信号をレベル選別して粒子ａの内部と外部とに弁別
し、粒子ａのＹ方向幅Ｈ，Ｘ方向幅Ｗの各両端座標η、
η゛及びξ、ξ′を検出し、ΔＸａ＝ （ξ−ξ’ ）
、、ｚ ２、ΔＹａ＝（η−η′）／２ を算出する。このΔＸａ、ΔＹａはＯ慨を原点とするＯ
゛点の座標で、ＣＰＵは上述解析を終わってＸａ、Ｙａ
に夫々ΔＸａ、ΔＹａを加えて励磁電源２に出力する。
つき上述動作でＣＰＵに入力された位置のデータをＸａ
、Ｙａ、Ｘｂ、Ｙｂ等とする。ＣＰＵはまず励磁電源２
に偏向信号Ｘａ、Ｘｂを出力する。電子ビームｅの走査
範囲の中心は粒子ａの中心付近に来る。こ＼でＣＰＵは
検出器りにより得られる画像信号に対して次のような解
析動作を行う。その動作を第３図によって説明する。こ
の図でＯはＣＲＴ画面の中心で、ＣはＯを中心とするカ
ーソルである。粒子像ａは本来ならその中心Ｏ′がＯと
一致している筈であるが位置指定の誤差及び試料の全体
的な位置ずれ（電子ビームとの相対的関係であるから機
械的原因だけでなく、電子光学系側の原因もある）によ
り、０と０゛とは一致しない。ＣＰＵはカーソルＣ内の
画像信号をレベル選別して粒子ａの内部と外部とに弁別
し、粒子ａのＹ方向幅Ｈ，Ｘ方向幅Ｗの各両端座標η、
η゛及びξ、ξ′を検出し、ΔＸａ＝ （ξ−ξ’ ）
、、ｚ ２、ΔＹａ＝（η−η′）／２ を算出する。このΔＸａ、ΔＹａはＯ慨を原点とするＯ
゛点の座標で、ＣＰＵは上述解析を終わってＸａ、Ｙａ
に夫々ΔＸａ、ΔＹａを加えて励磁電源２に出力する。
このようにしてＯ゛点が０点に一致する。こ＼でＣＰＵ
は電子ビームの試料面走査を中止し、微粒子ａに電子ビ
ームを当てて所定の分析用２次放射例えばＸ線を検出器
Ｄｏで検出してその出力信号を取込む。このとき、電子
ビームをカーソルＣに対応する範囲で掃引する場合もあ
る。以上のようにして粒子ａの分析が終って、粒子すの
分析に移る場合、ＣＰＵは偏向信号Ｘｂ、Ｙｂに粒子ａ
の分析に先立ちＲ出したΔＸａ、ΔＹａを補正値として
加えた ｘｂ ’ ＝ｘｂ＋ΔＸａ Ｙｂ ’ ＝Ｙｂ＋Δｙａ なるＸｂ’、Ｙｂ’を補正された粒子すの位置指定デー
タとして励磁電源２に出力し、以下粒子ａについて行っ
たのと同じ動作で補正データΔＸｂ、ΔＹｂを算し、粒
子Ｃの位置指定データをＸｃ’＝Ｘｃ＋ΔＸａ±ΔＸｂ Ｙｃ ’ ＝Ｙｃ＋ΔＹａ＋ΔＹｂ 七する。以下同様にしてｄ、ｅ・・・と分析を進めて行
くのである。
は電子ビームの試料面走査を中止し、微粒子ａに電子ビ
ームを当てて所定の分析用２次放射例えばＸ線を検出器
Ｄｏで検出してその出力信号を取込む。このとき、電子
ビームをカーソルＣに対応する範囲で掃引する場合もあ
る。以上のようにして粒子ａの分析が終って、粒子すの
分析に移る場合、ＣＰＵは偏向信号Ｘｂ、Ｙｂに粒子ａ
の分析に先立ちＲ出したΔＸａ、ΔＹａを補正値として
加えた ｘｂ ’ ＝ｘｂ＋ΔＸａ Ｙｂ ’ ＝Ｙｂ＋Δｙａ なるＸｂ’、Ｙｂ’を補正された粒子すの位置指定デー
タとして励磁電源２に出力し、以下粒子ａについて行っ
たのと同じ動作で補正データΔＸｂ、ΔＹｂを算し、粒
子Ｃの位置指定データをＸｃ’＝Ｘｃ＋ΔＸａ±ΔＸｂ Ｙｃ ’ ＝Ｙｃ＋ΔＹａ＋ΔＹｂ 七する。以下同様にしてｄ、ｅ・・・と分析を進めて行
くのである。
上述実施例は試料を動かさず、電子ビームの方を偏向さ
せて複数点の分析を行うものであるが、本発明が試料を
移動させて分析点を変えて行く場１′Ｙにも適用できる
ものであることは云うまでもない。また分析微粒子の中
心位置検出の解析手段も任意である。
せて複数点の分析を行うものであるが、本発明が試料を
移動させて分析点を変えて行く場１′Ｙにも適用できる
ものであることは云うまでもない。また分析微粒子の中
心位置検出の解析手段も任意である。
ト、効果
本発明によれば試料上の多数の点について分析を行う場
合でも各点毎に位置適正を行っているから、一つの分析
点から次の分析点へ移る際の位置の誤差は小さく、分析
点が所定位置から大きく外れてしまって分析不能となる
ようなことが起こらず、人間による監視の必要のない完
全自動分析が可能となる。
合でも各点毎に位置適正を行っているから、一つの分析
点から次の分析点へ移る際の位置の誤差は小さく、分析
点が所定位置から大きく外れてしまって分析不能となる
ようなことが起こらず、人間による監視の必要のない完
全自動分析が可能となる。
第１図は本発明の一実施例装置のブロック図、第２図は
同実施例におけるＣＲＴ画面の図、第３図は同実施例に
おけろＣＰＵによる分析微粒子の中心位置検出動作の説
明図である。
同実施例におけるＣＲＴ画面の図、第３図は同実施例に
おけろＣＰＵによる分析微粒子の中心位置検出動作の説
明図である。
Claims (1)
- 試料上の指定された複数の点の位置のデータを取込み、
順次分析位置を変えて行く制御手段を備え、同制御手段
に指定された位置のデータに基いて一つの分析点を分析
位置に位置させたとき、その分析点の実位置と予定位置
とのずれを検出し、このずれ量を次の分析点の位置のデ
ータに補正値として加算する動作を付加したことを特徴
とする荷電粒子線走査型分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60281560A JP2666251B2 (ja) | 1985-12-13 | 1985-12-13 | 荷電粒子線走査型分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60281560A JP2666251B2 (ja) | 1985-12-13 | 1985-12-13 | 荷電粒子線走査型分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62168325A true JPS62168325A (ja) | 1987-07-24 |
| JP2666251B2 JP2666251B2 (ja) | 1997-10-22 |
Family
ID=17640885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60281560A Expired - Fee Related JP2666251B2 (ja) | 1985-12-13 | 1985-12-13 | 荷電粒子線走査型分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2666251B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04166753A (ja) * | 1990-10-30 | 1992-06-12 | Shimadzu Corp | Ｘ線分光分析装置 |
| JP2001281170A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-10-10 | Nagoya Electric Works Co Ltd | 視野移動方法 |
| JP2002365247A (ja) * | 2001-06-07 | 2002-12-18 | Shimadzu Corp | 観察像制御装置 |
-
1985
- 1985-12-13 JP JP60281560A patent/JP2666251B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04166753A (ja) * | 1990-10-30 | 1992-06-12 | Shimadzu Corp | Ｘ線分光分析装置 |
| JP2001281170A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-10-10 | Nagoya Electric Works Co Ltd | 視野移動方法 |
| JP2002365247A (ja) * | 2001-06-07 | 2002-12-18 | Shimadzu Corp | 観察像制御装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2666251B2 (ja) | 1997-10-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20050043903A1 (en) | Circuit-pattern inspection apparatus | |
| CA1153131A (en) | Automatic beam correction in a scanning transmission electron microscope | |
| JPH1027833A (ja) | 異物分析方法 | |
| JPS62168325A (ja) | 荷電粒子線走査型分析装置 | |
| JP3330382B2 (ja) | 集積回路の試験・修復装置 | |
| JPH0351749A (ja) | 分析システム | |
| JP3655778B2 (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| CN110364405B (zh) | 带电粒子束轴对准装置及方法、带电粒子束照射装置 | |
| JP2003045925A (ja) | 基体検査方法及び装置 | |
| JPS63318054A (ja) | Ｅｐｍａの測定デ−タ表示方法 | |
| JPH0436050Y2 (ja) | ||
| JPH0479140A (ja) | 荷電粒子ビーム装置及びその画像処理方法 | |
| JP2870891B2 (ja) | Ｘ線マイクロアナライザ | |
| JPH02267894A (ja) | Ｘ線発生器の焦点補正装置 | |
| JPH09147778A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JPS59189628A (ja) | 電子線描画装置 | |
| JP2582152B2 (ja) | 偏向系描画フィールドの歪補正方法 | |
| JPS62229646A (ja) | 荷電粒子線を用いた分析装置 | |
| JPS5840299B2 (ja) | 電子線走査型電子線装置の試料位置決め装置 | |
| JPS62128421A (ja) | 荷電粒子線を用いた試料分析方法 | |
| JPH07286842A (ja) | 寸法検査方法及びその装置 | |
| JPS61284040A (ja) | 電子線マイクロアナライザ | |
| JPS629218B2 (ja) | ||
| KR20030089229A (ko) | 컨버전스 조정 기능 검사 장치 및 검사 방법 | |
| JP2934266B2 (ja) | Ｉｃの荷電粒子ビームによる試験方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |