JPS62162535A - 電気用積層板 - Google Patents
電気用積層板Info
- Publication number
- JPS62162535A JPS62162535A JP61005288A JP528886A JPS62162535A JP S62162535 A JPS62162535 A JP S62162535A JP 61005288 A JP61005288 A JP 61005288A JP 528886 A JP528886 A JP 528886A JP S62162535 A JPS62162535 A JP S62162535A
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- Japan
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- resin
- laminate
- electrical
- electrical laminate
- laminated board
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は電気機器、電子機器、計算機器、通信機器等に
用いられる電気用積層板に関するものである。
用いられる電気用積層板に関するものである。
従来、電気機器等に用いられる電気用積層板を出発点と
するプリント配線板は写真現像型ソルダーレジストを用
層ているが、紫外線照射時に紫外線が電気用積層板を透
過し裏面迄威光させてしまい、溶剤による剥離を阻害す
ることが多発していた。この対策として紫外線照射量を
減少させるとレジストインク本来の耐摩耗性、耐溶剤性
、耐湿性を低下させてしまう、又、逆に紫外線照射量を
過剰にし、強制的に機械研磨だより残留レジストを剥離
させると必要レジスト表面をも傷つけたり、研磨物、溶
剤残渣等がプリント配線板表面に付着して次工程に移り
品質不良を発生させてしまう。
するプリント配線板は写真現像型ソルダーレジストを用
層ているが、紫外線照射時に紫外線が電気用積層板を透
過し裏面迄威光させてしまい、溶剤による剥離を阻害す
ることが多発していた。この対策として紫外線照射量を
減少させるとレジストインク本来の耐摩耗性、耐溶剤性
、耐湿性を低下させてしまう、又、逆に紫外線照射量を
過剰にし、強制的に機械研磨だより残留レジストを剥離
させると必要レジスト表面をも傷つけたり、研磨物、溶
剤残渣等がプリント配線板表面に付着して次工程に移り
品質不良を発生させてしまう。
更に電気用積層板を黒色にする方法もあるが、黒色化の
ためにはカーボン系着色剤を添加する必要があり、ファ
インパターンＫｊは不適で用いら、れなかうた。
ためにはカーボン系着色剤を添加する必要があり、ファ
インパターンＫｊは不適で用いら、れなかうた。
本発明の目的とするところはレジストインクの裏まわり
がなく且つ耐摩耗性、熱衝盤性、耐湿絶縁抵抗に優れた
プリント配線板が得られる電気用積層板を提供すること
とある。
がなく且つ耐摩耗性、熱衝盤性、耐湿絶縁抵抗に優れた
プリント配線板が得られる電気用積層板を提供すること
とある。
本発明は波長２３５〜ｓｏｏ ｎｍ の光を吸収するこ
とを特徴とする電気用積層板のため、写真現像型ソルダ
ーレジストを用い紫外線照射することＫよリレシストイ
ンキを完全硬化させることができ且つ現像時レジストイ
ンキを完全溶解させることができるもので、以下本発明
の詳細な説明する。
とを特徴とする電気用積層板のため、写真現像型ソルダ
ーレジストを用い紫外線照射することＫよリレシストイ
ンキを完全硬化させることができ且つ現像時レジストイ
ンキを完全溶解させることができるもので、以下本発明
の詳細な説明する。
本発明に用−る紫外線吸収剤は、サルチル酸系、ベンゾ
フェノン系、ベンゾトリアゾール系、ヒドロキシベンゾ
エート系、シアノアクリレート糸筒紫外線吸収能力のあ
るもののうち、波長２３５〜ｓｏｏ ｎｍの光を吸収す
るものであることが必要で、上記波長における吸収車は
全面エツチング処理状態で、波長２３５〜３００ ｎｍ
の光を８０係以上、好ましくは８５壬以上、且つ波
長３００〜４００ ｎｍの光を９７％以上、好ましくは
９９壬以上、且つ波長４００〜５ｏｏＢ１ の光を８０
％以上、好ましくは９０係以上吸収するものであること
が望まし−。このため紫外線吸収剤の量は好ましくは電
気用積層板の樹脂１００重量部（以下蛍に部と記す）に
対し０．２〜３．５部であることが望ましい。即ち０．
２部未満では、光吸収効果が少なくなる傾向にあり、３
．５部をこえ°ると積層板自体の耐湿性、強度が低下す
る傾向にあるからである。
フェノン系、ベンゾトリアゾール系、ヒドロキシベンゾ
エート系、シアノアクリレート糸筒紫外線吸収能力のあ
るもののうち、波長２３５〜ｓｏｏ ｎｍの光を吸収す
るものであることが必要で、上記波長における吸収車は
全面エツチング処理状態で、波長２３５〜３００ ｎｍ
の光を８０係以上、好ましくは８５壬以上、且つ波
長３００〜４００ ｎｍの光を９７％以上、好ましくは
９９壬以上、且つ波長４００〜５ｏｏＢ１ の光を８０
％以上、好ましくは９０係以上吸収するものであること
が望まし−。このため紫外線吸収剤の量は好ましくは電
気用積層板の樹脂１００重量部（以下蛍に部と記す）に
対し０．２〜３．５部であることが望ましい。即ち０．
２部未満では、光吸収効果が少なくなる傾向にあり、３
．５部をこえ°ると積層板自体の耐湿性、強度が低下す
る傾向にあるからである。
電気用積層板としては積層板用樹脂にフェノール樹脂、
クレゾール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、メラミン樹脂、ポリイミド、ポリブタジェン、ポリ
アミド、ポリアミドイミド。
クレゾール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、メラミン樹脂、ポリイミド、ポリブタジェン、ポリ
アミド、ポリアミドイミド。
ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイ
ド、ポリスルフォン、ポリブチレンテレフタレート、ポ
リニーチクエーテルケトン、弗化樹脂等の毘独、変性物
、混合物等が用いられ必要に応じて粘度調整に水、メチ
ルアルコール、アセトン、シクロヘキサノン、スチレン
等の溶媒を添加したものであるが、好ましくは光透過性
に優れたエポキシ樹脂を用いることが望ましｂ００部板
用基材としては、ガラス、アスベスト等の無機繊維やポ
リエステル、ポリアミド、ポリビニルアルコール、アク
リル等の有機合成繊維や木綿等の天然繊維からなる織布
、不織布、マプト或は紙又はこれらの組合せ基材等を周
込るのが好ましくは、光透過性に優れたガラス布を用い
ることが望まし−。
ド、ポリスルフォン、ポリブチレンテレフタレート、ポ
リニーチクエーテルケトン、弗化樹脂等の毘独、変性物
、混合物等が用いられ必要に応じて粘度調整に水、メチ
ルアルコール、アセトン、シクロヘキサノン、スチレン
等の溶媒を添加したものであるが、好ましくは光透過性
に優れたエポキシ樹脂を用いることが望ましｂ００部板
用基材としては、ガラス、アスベスト等の無機繊維やポ
リエステル、ポリアミド、ポリビニルアルコール、アク
リル等の有機合成繊維や木綿等の天然繊維からなる織布
、不織布、マプト或は紙又はこれらの組合せ基材等を周
込るのが好ましくは、光透過性に優れたガラス布を用い
ることが望まし−。
かくして積層板用樹脂を積層板用基材に含浸した樹脂含
浸基材を所要枚数重ね、更に必要に応じてその上面及び
又は下面に金属箔を配設した積層体を積層成形し一体化
したものである。紫外線吸収剤は好ましくは積層板用樹
脂に添加して周込ることが望まし込が特に限定するもの
ではなく積層板用基材に付着させておくこともできるも
のである。
浸基材を所要枚数重ね、更に必要に応じてその上面及び
又は下面に金属箔を配設した積層体を積層成形し一体化
したものである。紫外線吸収剤は好ましくは積層板用樹
脂に添加して周込ることが望まし込が特に限定するもの
ではなく積層板用基材に付着させておくこともできるも
のである。
以下本発明を実施例にもとづい、て説明する。
実施例１
臭素化エポキシ樹脂フェスに２．２′ハイドロキシ５／
メチルフ工ニルベンゾトリアゾールヲ樹脂固型分１００
９に対し２ｇ、ピラゾロン系吸収剤ｂ〜３０ ｐｐｍ添
加した積層板用樹脂を厚さ０．２ｆｌのガラス布に含浸
、乾燥して樹脂量４２重ｔＳの樹脂含浸基材を得、該樹
脂含浸基材４枚を重ねた上、下面に厚さＱ、１１３５朋
の銅箔を夫々配設した積層体を成形圧力５０ Ｋｑ／ｃ
ｄ 、１７０℃で１２０分間積層成形して電気用積層板
を得た。この電気用積層板をエツチングし両面同時に厚
さ０．０２０ ｆｌだレジスト（株式会社アサヒ化学研
究所製、ＤＰＲ−１０５）を塗布し、 ９０℃で４０分
間乾燥後、中、下側々のネガフィルムを合わせ、メタル
ハライドランプ（オーク製作所製）を用５２分間露光し
た。その時のランプ照度はＵＶ−２５−ＩＩ！ ｙ ＋
−テｏ、ｓａ ｍＷ／ｃれＵＶ−３５−１ｘンサーで
２７．５ ｍ Ｗ／ｌ：４ 、Ｕ Ｖ −４２センサー
で７２ｍＷ／ｄであった。露光後トリクロロメタンで未
硬化部分を溶解現像処理し熱風乾燥機で１３０℃、６０
分間熱硬化させた。
メチルフ工ニルベンゾトリアゾールヲ樹脂固型分１００
９に対し２ｇ、ピラゾロン系吸収剤ｂ〜３０ ｐｐｍ添
加した積層板用樹脂を厚さ０．２ｆｌのガラス布に含浸
、乾燥して樹脂量４２重ｔＳの樹脂含浸基材を得、該樹
脂含浸基材４枚を重ねた上、下面に厚さＱ、１１３５朋
の銅箔を夫々配設した積層体を成形圧力５０ Ｋｑ／ｃ
ｄ 、１７０℃で１２０分間積層成形して電気用積層板
を得た。この電気用積層板をエツチングし両面同時に厚
さ０．０２０ ｆｌだレジスト（株式会社アサヒ化学研
究所製、ＤＰＲ−１０５）を塗布し、 ９０℃で４０分
間乾燥後、中、下側々のネガフィルムを合わせ、メタル
ハライドランプ（オーク製作所製）を用５２分間露光し
た。その時のランプ照度はＵＶ−２５−ＩＩ！ ｙ ＋
−テｏ、ｓａ ｍＷ／ｃれＵＶ−３５−１ｘンサーで
２７．５ ｍ Ｗ／ｌ：４ 、Ｕ Ｖ −４２センサー
で７２ｍＷ／ｄであった。露光後トリクロロメタンで未
硬化部分を溶解現像処理し熱風乾燥機で１３０℃、６０
分間熱硬化させた。
実施例２
実施例１と同じ臭素化エポキシ樹脂フェスに、２ハイド
ロキシ４メトキシベンゾフエノンヲａｔ 脂固型分１０
０ｙに対し２ノ及びピラゾロン系吸収剤を２０ｐｐｍ添
加した積層板用樹脂を用いた以外は実施例１と同様に処
理して′（気用積層板を得、更に実施例１と同様に処理
した。
ロキシ４メトキシベンゾフエノンヲａｔ 脂固型分１０
０ｙに対し２ノ及びピラゾロン系吸収剤を２０ｐｐｍ添
加した積層板用樹脂を用いた以外は実施例１と同様に処
理して′（気用積層板を得、更に実施例１と同様に処理
した。
比較例１
実施例１と同じ臭素化エポキシ樹脂フェスをそのまま積
層板用樹脂として用Ａた以外は実施例１と同様に処理し
て１気用積膚板を得、更に実施例１と同様に処理した。
層板用樹脂として用Ａた以外は実施例１と同様に処理し
て１気用積膚板を得、更に実施例１と同様に処理した。
比較例２
実施例１と同じ臭素化エポキシ樹脂フェスに、カーボン
系黒色顔料を樹脂固型分１００ ｆに対し１．５ｆ添加
した積層板用樹脂を用すた以外は実施例１と同様に処理
して電気用積層板を得、更に実施例１と同様に処理した
。
系黒色顔料を樹脂固型分１００ ｆに対し１．５ｆ添加
した積層板用樹脂を用すた以外は実施例１と同様に処理
して電気用積層板を得、更に実施例１と同様に処理した
。
実施例１と２及び比較例１と２の電気用積層板をプリン
ト配線板に加工する際の性能は第１表で明白なように本
発明の電気用積層板を用いたものの性能はよく、本発明
の優れていることを確認した。
ト配線板に加工する際の性能は第１表で明白なように本
発明の電気用積層板を用いたものの性能はよく、本発明
の優れていることを確認した。
Claims (3)
- （１）波長２３５〜５００ｎｍの光を吸収することを特
長とする電気用積層板。 - （２）紫外線吸収剤の量が電気用積層板の樹脂１００重
量部に対し０．２〜３．５重量部であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の電気用積層板。 - （３）電気用積層板がガラス布基材積層板であることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の電気用積層板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61005288A JPS62162535A (ja) | 1986-01-13 | 1986-01-13 | 電気用積層板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61005288A JPS62162535A (ja) | 1986-01-13 | 1986-01-13 | 電気用積層板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62162535A true JPS62162535A (ja) | 1987-07-18 |
Family
ID=11607051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61005288A Pending JPS62162535A (ja) | 1986-01-13 | 1986-01-13 | 電気用積層板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62162535A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05245984A (ja) * | 1992-03-05 | 1993-09-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 電気用積層板 |
| US7403259B2 (en) | 2003-10-17 | 2008-07-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic processing cell, lithographic apparatus, track and device manufacturing method |
-
1986
- 1986-01-13 JP JP61005288A patent/JPS62162535A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05245984A (ja) * | 1992-03-05 | 1993-09-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 電気用積層板 |
| US7403259B2 (en) | 2003-10-17 | 2008-07-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic processing cell, lithographic apparatus, track and device manufacturing method |
| US7679715B2 (en) | 2003-10-17 | 2010-03-16 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic processing cell, lithographic apparatus, track and device manufacturing method |
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