JPS62152561A - 表面加工用マスク - Google Patents

表面加工用マスク

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JPS62152561A
JPS62152561A JP60292783A JP29278385A JPS62152561A JP S62152561 A JPS62152561 A JP S62152561A JP 60292783 A JP60292783 A JP 60292783A JP 29278385 A JP29278385 A JP 29278385A JP S62152561 A JPS62152561 A JP S62152561A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
support film
masking sheet
auxiliary
main support
Prior art date
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Pending
Application number
JP60292783A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuyasu Kinoshita
木下 宣育
Hiroshi Osada
浩 長田
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP60292783A priority Critical patent/JPS62152561A/ja
Publication of JPS62152561A publication Critical patent/JPS62152561A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、例えばサンドブラストによる彫加工、吹き付
は塗装、エツチング処理等の表面加工に用いるマスクに
関するもので、特に複雑な図柄や、周囲から切り離され
た水都を生ずる図柄のマスクに関する。
[従来の技術] 従来、複雑な図柄や1周囲から切り離された水都を生ず
る図柄のマスクとしては、写真製版と同様の処理によっ
て、切り紛状又は打ち抜き状に図柄を形成した感光性樹
脂製のマスキングシートの片面に、その図柄の形態を維
持するための支持フィルムが、支持フィルムの剥離を助
けるための補助フィルムを介して付設されたものが知ら
れている。このマスクは、通常、マスキングシートの他
面が、離型紙で覆われた粘着面となっており、まず離型
紙を剥して、マスキングシートの粘着面を利用して被加
工面に貼り付けた後、更に支持フィルムを剥してから種
々の表面加工に供されるものである。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、上記従来のマスクは、被加工面か、モ面
、又は円柱面等の二次元系の曲面である場合にはよいが
、球面等の三次元系の曲面となると、支持フィルムが比
較的剛性の高いフィルムであるために、マスクを被加工
面に十分密着させることができない問題がある。
これを解決するためには支持フィルムを柔軟性のものと
し、曲面に合わせやすくすればよい。しかし、支持フィ
ルムを柔軟化すると、使用前の運搬その他の1[7扱い
時に支持フィルムが伸縮して、マスキングシートに形成
されている図柄が位置ずれをおこしやすくなる。また、
柔軟性の支持フィルムでは、マスクの製造装置にかけに
くくなる。
方、支持フィルムを剥すと補助フィルムかマスキングシ
ートの表面に残り、一時的にはこれによってマスキング
シートの図柄の位置ずれを防止することができる。従っ
て、#型紙と高剛性の支持フィルムを剥してから被加工
面へ貼り付けることが考えられる。しかし、補助フィル
ムは、表面加工時に直に破れてマスキングシートの図柄
を露出させる、極めて薄く弱いもののため、支持フィル
ムを剥してから貼り付けたのでは、支持フィルムの剥離
時や貼り付けの途中で補助フィルムが破れて、やはり図
柄の位置ずれを生じゃすくなる。
[問題点を解決するためのF段] 上記問題点を解決するために本発明において講じられた
L段を1本発明の一実施例に対応する第1図で説明する
と、本発明は、マスキングシートlの片面に、補助フィ
ルム2と、比較的柔軟性の副支持フィルム3と、比較的
高剛性の主支持フィルム4とが順次付設され、かつマス
キングシートlの伺着力Aと、補助フィルム2の付着力
Bと、副支持フィルム3の付着力Cと、主支持フィルム
4の付着力りとがA>B>C>Dの関係にある表面加工
用マスクとしたものである。
本発明において、マスキングシー)1の付着力とはその
被加工物表面5に対する付着力青いい、補助フィルム2
の付着力とはそのマスキングシートlに対する付着力を
いい、副支持フィルム3の付着力とはその補助フィルム
2に対する付着力をいい、主支持フィルム4の付着力と
はその副支持フィルム3に対する付着力をいう。また1
図柄とは、文字、記号、図形、模様等をいう。
[作 用] 本発明に係るマスクは、使用時に主支持フィルム4を剥
してからマスキングシートの他面を被加工面5(第2図
参照)へ貼り付け、次いで副支持フィルム3を剥して加
工に供されるものである。
このとS、マスキングシートl、補助フィルム2、副支
持フィルム3及び主支持フィルム4の各付着力A、B、
C,DがA>B>C>Dの関係にあるので、E支持フィ
ルム4及び副支持フィルム3を順次一枚ずつ容易に剥す
ことができるのである。
ところで1本発明のマスクは、その使用前には、比較的
高剛性の主支持フィルム4がマスキングシート1の図柄
をしっかり支えるので 運搬時等に図柄のずれを生じる
おそれがない。
・方、使用時に1支持フイルム4を剥せば、副支持フィ
ルム3は比較的柔軟性があるので、披加1−面5が2ミ
次元系の曲面であっても、容易にマスキングシートlを
密着して貼り伺けることかできる。また、IE支持フィ
ルム1を剥しても、使用時であれば運搬時のように不慮
の外力か作用することは少なく、比較的柔軟性の副支持
フィルム3で十分図柄のずれを防止できる。加えて、副
支持フィルム3は、加工作業前に剥されるので破れにく
いものとすることができ、貼り付は作業時のフィルム破
れによる図柄のずれを防止できるものである。
[実施例] 第1図に示されるように、マスキングシー)1の片面に
は、補助フィルム2と、比較的柔軟性の副支持フィルム
3と、比較的高剛性の主支持フィルム4とが順次付設さ
れている。
マスキングシート1は、所望の図柄が切欠部6によって
切り紛状又は打ち抜き状に形成されたものであればどの
ようなものでもよいが、一般的には、写真製版技術を利
用して感光性樹脂で形成するのが最も容易である。感光
性樹脂には、例えば紫外線等の光の照射を受けると架橋
又は重合反応を生じて溶剤に対して非溶解性になるネガ
型のものと、光の照射を受けると崩壊反応を生じて溶剤
に対して溶解性になるポジ型のものがある。ネガ型の感
光性樹脂の場合、所望の図柄を撮影したネガフィルムを
介して露光した後、未露光部分を薄削で洗い流すことに
よってマスキングシートlとすることができる。ポジ型
の場合、露光にポジフィルムを用い、露光部分を溶剤で
洗い流せばよい。
マスキングシートlの厚みは、マスキングシート1の材
質や供すべき表面処理の内容によっても相違するが、1
〜2000 g、好ましくは10〜1000μである。
補助フィルム2は、マスキングシー)1の図柄を乱すこ
となく副支持フィルム3を剥離できるようにするための
もので、その付着力は副支持フィルム3の付着力よりも
犬S〈なっている。従って、副支持フィルム3を剥離し
ても補助フィルム2はマスキングシートlk、に残って
、マスキングシート1の図柄の一部が副支持フィルム3
に付着して剥離してしまうのが防止される。
補助フィルム2は、副支持フィルム3や主支持フィルム
4に裏打ちされた状態でマスキングシートlの図柄の形
!凪をしっかり保持する働きを成すものであり、1!i
 I′l’に’iqnされない程度にマスキングシート
1に密着していることが好ましい。その一方で、表面加
工処理時には、直に破れてマスキングシートlの図柄を
露出させ1表(m処理加りを妨げないものであることが
必要である。このようなことから、補助フィルム2とし
ては、例えばセルロースエーテルやセルロースエステル
などのセルロース誘導体、アクリル樹脂、ポリエチレン
等の厚みが0.5〜20鉢のフィルムが用いられる。
副支持フィルム3は、を支持フィルム4を211 敲し
てから本マスクを被加工面5へ貼り付けるまでのごく短
時間、補助フィルム2と共にマスキングシート1の図柄
の形態を保持するもので、二二次元系の曲面への貼り付
けをも許容し得るよう、比較的柔軟性をもつフィルムと
なっている。副支持フィルム3は、この図柄の形態保持
と三次元系曲面への貼り付けの調和を図るために、伸度
200%以上で適度の柔軟性をもち、かつその厚みがl
O〜500川程度であることが好ましい。また、材質と
しては、例えばポリエチレン、ポリビニルクロライド、
ポリアミド、ポリプロピレン、アクリル系樹脂竿が用い
られる。
主支持フィルム4は、本マスク製造後使用に供されるま
での間、前述の補助フィルム2や副支持フィルム3と共
にマスキングシート1の図柄の形態を保持するだめのも
ので1種々の外力に対して図柄を保護できるよう、比較
的高剛性のフィルムとなっている。主支持フィルム4は
、図柄の確実な保持力が得られるよう、伸度が50%以
rで適度の剛性をもち、かつその厚みが50〜1000
 h程度であることが好ましい。また、材質としては1
例えばポリエステル、ポリビニルクロライド、ポリスチ
レン等が使用される。
主支持フィルム4は1本マスクの使用時に副支持フィル
ム3から剥離されるもので、その剥離を容易にするため
、L支持フィルム4の付着力は副支持フィルム3の付着
力より小さくなっている。
また、主支持フィルム4、副支持フィルム3及び補助フ
ィルム2は、所要の付着力であらかじめラミネート又は
コーティングにより積層しておき、これをマスキングシ
ート1に付設するようにすねば製造が容易である。
一方、マスキングシートlの他面は粘着面となっており
、そこに離型紙7が付設されている。
粘着面は、マスキングシート1自体に粘着性を付与する
ことによって形成しても、他の粘着剤を塗布することに
よって形成してもよい。
本マスクの製造は、ネガ型の液状感光性樹脂を用いた写
真製版法により行うのが最も簡便である。まず、ガラス
板上にネガフィルムと力/ヘ一フィルムを順次重ね、そ
の玉に液状感光性樹脂を広げて均一にならすと共に、あ
らかじめラミネート又はコーティングによって積層した
主副支持フィルム4,3と補助フィルム2の積層フィル
ムをかぶせる。次いでガラス板側からネガフィルムを通
して光を照射して露光した後、カバーフィルムを剥して
洗浄に付し、未露光感光性樹脂を洗い流してから乾燥を
行う。そして、前記積層フィルム側には後露光を施して
、感光性樹脂で形成されたマスキングシー)1と補助フ
ィルム2の付着力ヲ高めると共にマスキングシートその
ものの物性を上げ、他面には離型紙7を付設して製造を
完了する。
上記のようにして製造すれば、マスキングシートlの形
成と、これへの主副支持フィルム4,3及び補助フィル
ム2の付設が同面に行える。また、粘着面とすべきマス
キングシートlの片面は、後露光にさらさないことによ
って、適度の粘着性を有するものとなるので、ことさら
粘着剤を塗布する必要がない。
前述の製造方法に用いるネガ型の液状感光性樹脂とは、
光によって硬化反応を生ずる合成樹脂であって1、特に
露光前には液状を成し、露光によって固化する型のもの
をいう。
L配液状感光性樹脂の例としては、不飽和ボリエ −ル
、不飽和ポリウレタン等の液状ポリマーエチレン性不飽
和化合物と、光重合開始剤との混合物が知られている。
液状ポリマーとしては、アルキルジオールまたはオキシ
アルキルジオールと不飽和二塩基酸とのエステル、例え
ば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチ
レングリコール等の中州体又はこれらの多量体と、マレ
イン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコ
ン酸、グルタコン酸とのエステル、及びこれらエステル
における不飽和′:、塩基酸の一部を飽和二塩基酸、例
えばコハク酸、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、
テレフタル酸などで置換したエステル等の他、特公昭5
2−7781号公報、特開昭48−28533号公報記
載のもの等である。
エチレン性不飽和化合物としては、アクリル酸、メタク
リル酸、フマル酸、マレイン酸等のエステル類、アクリ
ルアミドやメタクリルアミドの誘導体、アリルエステル
、スチレン及びその誘導体等をあげることができる。そ
の具体的な例としては、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレング
リコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコール、ブチレンゲリコールのジアクリレート及びジ
メタクリレート、あるいはトリメチロールプロパントリ
アクリレート及びトリメタクリレート、ペンタエリトリ
ットテトラアクリレート及びテトラメタクリレート等や
、 N、N’−へギサメチレンビスアクリルアミド及び
メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド及びメタ
クリルアミド、スチレン、ビニルトルエン、ジビニルベ
ンゼン、ジアリルフタレート、トリアリルシアヌレート
等で、これらは単独又は二種以りを組合わせて使用され
る。
光重合開始剤としては、ベンゾイン及びベンゾインエー
テル類、例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテル、α−メチロールベンゾイ
ン、α−メチロールベンゾインメチルエーテル、α−メ
トキシベンゾインメチルエーテル、ヘンジインフェニル
エーテル、α−t−ブチルベンゾイン、2,2−ジメト
キシフェニルアセトフェノン、2,2−ジェトキシフェ
ニルアセトフェノン、2.2−ジエトギシアセトフェノ
ン、ベンジル、ピバロイン、アンスラキノン、ヘンズア
ンスラキノン、2−エチルアンスラキノン、2−クロル
アンスラキノンなどを例としてあげることができる。こ
のような光重合開始剤は重合有効簗すなわち少なくとも
0.01重量%以上添加される。一般には0.1〜3重
量%の範囲で添加されていることが好ましい。
次に、本マスクの使用方法を第2図で説明する。
まず、第2図(a)に示されるように、主支持フィルム
4と離型紙7を剥離する。
次に、第2図(b)に示され・るように、離型紙7を剥
離することによって露出したマスキングシートlの粘着
面を利用して、本マスクを被加工面に貼り付ける。この
とき、副支持フィルム3は比較的柔軟性があるので、三
次元系の曲面に対しても貼り付けが容易である。そして
、被加工面への貼り付は後、この副支持シート3を剥し
て表面加工に付す。
表面前[がサンドブラストである場合、第2図(C)に
示されるように、補助フィルム2は吹き什けられる砂粒
子によって破れ落ち、マスキングシート1の切欠部6を
介して被加工面が研削される。また、吹き付は塗装やエ
ツチングに際しては、ブラシ等で補助フィルム2をこす
り落してもよい。
このようにしてサンドブラストを行なえば、第2図(d
)に示されるように、マスキングシート1の切欠部6に
応じた彫加工が被加工面5に施されることになる。
[発明の効果] 本発明によれば、三次元系の曲面に対してもマスクを利
用した表面加工が行え、広い対象に対して精度の高い加
工が可能となるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係るマスクの断面図、第2
図はその使用手順の説明図である。 1:マスキングシート、2:Jli助フィルム、3:副
支持フィルム、4:主支持フィルム、5:被加工面、6
:切欠部、7:#型紙。 第1図 6  ”7 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)マスキングシートの片面に、補助フィルムと、比較
    的柔軟性の副支持フィルムと、比較的高剛性の主支持フ
    ィルムとが順次付設され、かつマスキングシートの付着
    力Aと、補助フィルムの付着力Bと、副支持フィルムの
    付着力Cと、主支持フィルムの付着力DとがA>B>C
    >Dの関係にあることを特徴とする表面加工用マスク。
JP60292783A 1985-12-27 1985-12-27 表面加工用マスク Pending JPS62152561A (ja)

Priority Applications (1)

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JP60292783A JPS62152561A (ja) 1985-12-27 1985-12-27 表面加工用マスク

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JP60292783A JPS62152561A (ja) 1985-12-27 1985-12-27 表面加工用マスク

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JPS62152561A true JPS62152561A (ja) 1987-07-07

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ID=17786276

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JP60292783A Pending JPS62152561A (ja) 1985-12-27 1985-12-27 表面加工用マスク

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JP (1) JPS62152561A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01306576A (ja) * 1988-06-01 1989-12-11 Koyo Seiko Co Ltd 軸体に動圧発生用の溝を形成する方法
JPH0394969U (ja) * 1990-01-08 1991-09-27
WO1999028535A1 (en) * 1997-11-28 1999-06-10 Gravutex Eschmann International Limited Etching methods
JP2017179069A (ja) * 2016-03-29 2017-10-05 日東電工株式会社 マスキングシート

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JPH0394969U (ja) * 1990-01-08 1991-09-27
WO1999028535A1 (en) * 1997-11-28 1999-06-10 Gravutex Eschmann International Limited Etching methods
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