JPS6215240Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 この考案はエツチング液を用いて、各種材料の
エツチングをおこなうのに使用されるエツチング
装置に関する。

この種エツチング装置は従来、半導体集積回
路、数字電極その他複雑で寸法精度の要求される
ものの蝕刻に使用されている。

第１図はこのようなエツチング装置の従来例を
示すものであつて、エツチング槽本体１の上部に
金属板等の被エツチング材料２を搬送するための
ローラコンベア３が設けられている。このローラ
コンベア３の上下方向には槽本体内に搬入された
被エツチング材料の上下面を挟むようにして多数
のエツチング液噴射口４を有するエツチング液噴
射手段５，５′が配設されている。このエツチン
グ液噴射手段５′の下方には中央にスクリーン６
を有するエツチング残渣受け７が設けられてい
る。エツチング槽本体１の底部にはポンプ８が連
通手段９を介して連設されていて、降下貯溜され
たエツチング液１０をパイプ１１等を介してエツ
チング液噴射手段５，５′へ循環させるようにな
つている。

しかし、このような従来のエツチング装置にお
いては残渣受け７に溜つた金属片等の残渣は直ち
に回収することができないために、次々と落下す
るエツチング液によつて腐蝕され、エツチング液
中に溶け込み、これによつてエツチング液の疲労
が早められるだけでなく、エツチング条件のコン
トロールを困難にするなどの欠点があつた。

この考案は上記事情に鑑みてなされたものであ
つて、上述の如き従来のエツチング装置の欠点を
解消するとともに省資源の観点から、エツチング
残渣として得られる金属片等を回収して再利用に
供し得るエツチング装置を提供することを目的と
する。

すなわち、この考案は被エツチング材料の搬送
手段と被エツチング材料に対するエツチング液の
噴射手段とを内部に有し、断面形状が円状、楕円
状等の曲面からなるか、少なくとも下部が凹形に
なつている筒状側壁を有するエツチング槽と、該
エツチング槽の下部において該筒状側壁の左右両
端部を互いに段違いにして形成したエツチング液
の排出口と、該排出口の下方に位置する端部に連
続的に接続した下方に傾斜したスクリーン部材
と、該スクリーン部材により搬送されるエツチン
グ残渣を収容し且つエツチング液を通過させるメ
ツシユを底部に設けたエツチング残渣回収手段
と、下方に設けられたエツチング液貯溜槽とから
なるエツチング装置を提供するものである。

以下本考案の実施例を示す第２図および第３図
に基いて説明する。

図中２１は筒状側壁２２を有するエツチング槽
であつて、その断面形状が楕円状の曲面からな
り、降下するエツチング残渣を含むエツチング液
を後述する排出口へ円滑に導びくとともに該筒状
側壁に薄片等が附着するのを防止している。叙上
の目的を達するものであれば断面形状は円形であ
つてもよく、又その他の形状であつてもよい。

更にエツチング槽２１の上部には適当な空所２
３を設け槽内部を照射する光源を取り付けるよう
にしてもよく、また筒状側壁２２の両側上部には
槽内部点検用の開閉自在な透明窓２４を設けても
よい。

エツチング槽２１の内部には被エツチング材料
２５をエツチング槽２１内に供給し移送するため
の搬送手段２６例えばローラコンベアが設けら
れ、更に搬送手段２６の上方および下方には搬送
された被エツチング材料２５の上・下面にそれぞ
れ対向するようにしてエツチング液の噴射手段２
７，２７′が設けられている。更に該噴射手段の
下方、すなわちエツチング槽２１の下部には、筒
状側壁２２の左右両端部２８，２９を互いに段違
いにすることによりエツチング液の排出口３０が
形成されている。筒状側壁２２の左端部２８に降
下したエツチング残渣を含むエツチング液の流れ
は、右端部２９に降下したエツチング残渣を含む
エツチング液の流れと整流点Ａにおいて合流し整
流となつて排出口３０を経て後述するスクリーン
部材３１へ流れる。

ここで整流とは、合流によつて左端部の流れと
右端部の流れの強弱のバランスがとられ且つ合流
によつて整流点Ａで適度の撹拌作用が生じてエツ
チング液に含まれるエツチング残渣がスクリーン
部材３１で分離され易いようにエツチング液に分
散された状態の流れをいう。

上記の整流を得るために必要ならば更に右端部
２９に沿つて適当な噴射手段３２を設け右端部２
９のエツチング残渣を含むエツチング液の流れを
調整するようにしてもよい。

スクリーン部材３１は、一端が筒状側壁２２の
右端部２９に右端部２９の曲面と連続するように
円滑に接続され、他端が下方に傾斜して後述する
エツチング残渣回収手段３３へ導びかれている。

そして排出口３０より整流となつて排出される
エツチング残渣を含むエツチング液を、エツチン
グ残渣とエツチング液とに分離する。エツチング
残渣はスクリーン部材３１の傾斜面に沿つてエツ
チング残渣回収手段３３へ落下するが、大部分の
エツチング液はスクリーン部材３１を通過してそ
のままエツチング液貯溜槽３６へ落下する。スク
リーン部材３１の上方には、必要ならば噴射手段
３４を設け、エツチング残渣がスクリーン部材３
１の傾斜面に沿つて円滑に落下するのを補助して
もよい。

更にスクリーン部材３１は耐蝕性材料例えばチ
タンで作られた市販のスノコ状スクリーンが好適
であるが、他にプラスチツク製のスクリーンであ
つてもよい。

エツチング残渣回収手段３３はスクリーン部材
３１と貯溜槽３６の間に棚状に設けられ、その底
部はエツチング液のみを通過させるメツシユ３５
が設けられている。従つてスクリーン部材３１よ
り落下したエツチング残渣はメツシユ３５上に回
収され適当な手段で外部に排出される。貯溜槽３
６は、スクリーン部材３１及びエツチング残渣回
収手段３３から落下するエツチング液が該槽内へ
流入するように一部が開放された箱状の槽で、前
記のエツチング槽２１、スクリーン部材３１、エ
ツチング残渣回収手段３３等をこの上に支持して
いる。貯溜槽３６に貯溜されたエツチング液は循
環手段（図示せず）によつて再び噴射手段２７，
２７′，３２，３４へ送られる。貯溜槽３６には
内部点検用等のための開閉自在な窓３７を設けて
もよい。

このような構成に係るエツチング装置において
は、噴射手段２７，２７′から噴射され、被エツ
チング材料２５と接触した後降下するエツチング
液は、筒状側壁２２の左端部２８上と右端部２９
上とを円滑に流れて合流し整流点Ａで整流となつ
て排出口３０に流れスクリーン部材３１上を通過
するが、その際、エツチング液の大部分がスクリ
ーン部材３１を透過して貯溜槽３６に降下する
が、小量のエツチング液とともにエツチング残渣
はこのスクリーン部材３１上を搬送され、回収手
段３３に落下蓄積される。またこのエツチング残
渣と同時に回収手段３３に落下する少量のエツチ
ング液はメツシユ３５を通過してエツチング液貯
溜槽３６に導入される。

回収手段３３に蓄積されたエツチング残渣は適
当な手段によつて間隔をおいてあるいは連続的に
直ちに取り出し回収することができるので、従来
のエツチング装置の場合のようにエツチング液内
に溶解されてエツチング液の疲労が早まることを
回避することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のエツチング装置の断面図、第２
図は、この考案のエツチング装置の正面図、第３
図は第２図Ａ−A′線の断面図を各々示す。 ２１……エツチング槽、２２……筒状側壁、２
６……搬送手段、２７，２７′……噴射手段、２
８……左端部、２９……右端部、３０……排出
口、３１……スクリーン部材、３３……エツチン
グ残渣回収手段、３５……メツシユ、３６……エ
ツチング液貯溜槽。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 被エツチング材料の搬送手段と被エツチング材
   料に対するエツチング液の噴射手段とを内部に有
   するエツチング槽の下部において、該エツチング
   槽の筒状側壁の左右両端部を互いに段違いにして
   形成したエツチング液の排出口を設け、エツチン
   グ液の大部分を透過して降下させるがエツチング
   残渣を小量のエツチング液とともに搬送しうるよ
   うに下方に傾斜したスクリーン部材を前記排出口
   の下方に位置する端部に連続的に接続してなり、
   該スクリーン部材により搬送されたエツチング残
   渣を収容し且つエツチング液を通過させるメツシ
   ユを底部に設けたエツチング残渣回収手段を設
   け、下方にエツチング液貯溜槽を設けてなるエツ
   チング装置。