JPS62149664A - カルボスチリル誘導体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、新規なカルボスチリル誘導体の製造法に関す
る。

従来の技術 本発明カルボスチリル誘導体は、文献未記載の新規化合
物である。

発明が解決しようとする問題点 本発明は、後記するように医薬品として有用な化合物を
提供することを目的とする。

問題点を解決するための手段 本発明によれば、下記一般式〔工〕で表わされる化合物
が提供される。

〔式中Ｒ１は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニ
ル基又はフェニルアルキル基、Ｒ２は水素原子、又は水
酸基、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基
又は低級アルコキシ基及びＸはハロゲン原子を示す。ま
たＱ及びｍは夫々０又は１〜６の整数を示す。但しＱと
ｍの和は６を越えてはならない。ｎは０，１又は２を示
し、カルボスチリル骨格の３位及び４位の炭素間結合は
一重結合又は二重結合を示す。〕 本発明の上記一般式［Ｉ）で表わされるカルボスチリル
誘導体及びその酸付加塩は、抗ヒスタミン作用、中枢神
経抑制作用を有し、抗ヒスタミン薬及び鎮静剤として有
用である。

上記一般式ＣＩ）においてＲ１で示される低級アルキル
基としては炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状アルキル
基例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル基等を例示でき
る。低級アルケニル基としては炭素数２〜４の直鎖もし
くは分枝状のアルケニル基例えばビニル、アリル、２−
ブテニル、１−メチル−アリル基等を例示できる。また
フェニルアルキル基としては炭素数１〜４の直鎖もしく
は分枝状アルキレン基とフェニル基とが結合した基例え
ばベンジル、２−フェニルエチル、３−フェニルプロピ
ル、４−フェニルブチル、１゜１−ジメチル−２−フェ
ニルエチル基等を例示できる。Ｒ３及びＸで示されるハ
ロゲン原子としては弗素、塩素、臭素、沃素原子等を例
示できる。

Ｒ３で示される低級アルキル基としては炭素数１〜３の
直鎖もしくは分枝状アルキル基即ちメチル、エチル、プ
ロピル及びイソプロピル基を、また低級アルコキシ基と
しては炭素数１〜３の直鎖もしくは分枝状のアルコキシ
基即ちメトキシ、エトキシ、プロポキシ及びイスプロポ
キシ基を例示できる。

以下本発明の一般式［Ｉ］で表わされるカルボスチリル
誘導体に包含される代表的化合物を例示する。尚各化合
物の３．４−位脱水素体とは、カルボスチリル骨格の３
，４−位の結合が二重結合である化合物を表わすものと
する。

ｏ５−［２−ヒドロキシ−３−（４−フェニルピペラジ
ニル）プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル
及びその３．４−位脱水素体ｏ６−［２−ヒドロキシ−
３−（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素
体ｏ７−［２−ヒドロキシ−３−（４−フェニルピペラ
ジニル）プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル及びその３，４−位脱水素体ｏ８−［２−ヒドロキシ
−３−（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ）−３
，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水
素体ｏ６−Ｃ３−ヒドロキシ−３−（４−フェニルピペ
ラジニル）プロポキシ］−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル及びその３，４−位脱水素体ｏ７−（４−ヒドロキ
シ−５−（４−フェニルピペラジニル）ペンチルオキシ
クー３．４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−
位脱水素体 ｏｌ−メチル−５−〔２−ヒドロキシ−３−（４−フェ
ニルピペラジニル）プロポキシ〕−３゜４−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−エチル−６−〔２−ヒドロキシ−３−（４−フエ
ニルピベラジニル）プロポキシ〕−３゜４−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−ブチル−５−〔２−ヒドロキシ−３−（４−フェ
ニルピペラジニル）プロポキシ〕−３゜４−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−メチル−７−〔２−ヒドロキシ−３−（４−フェ
ニルピペラジニル）プロポキシ〕−３゜４−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−メチル−８−〔２−ヒドロキシ−３−（４−フェ
ニルピペラジニル）プロポキシ〕−３゜４−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−（３−メチルブチル）−５−［２−ヒドロキシ−
３−（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素
体 ｏｌ−へキシル−６−〔２−ヒドロキシ−３−（４−フ
ェニルピペラジニル）プロポキシ〕−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル及びその３゜４−位脱水素体 ０１−アリル−５−〔２−ヒドロキシ−３−（４−フェ
ニルピペラジニル）プロポキシ〕−３゜４−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその３．４−位脱水素体 ｏｌ−（２−ブテニル）−６−［２−ヒドロキシ−３−
（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ）−３，４−
ジヒドロカルボスチリル及びその３．４−位脱水素体 ｏｌ−アリル−７−〔２−ヒドロキシ−３−（４−フェ
ニルピペラジニル）プロポキシ〕−３゜４−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−ベンジル−５−〔２−ヒドロキシ−３−（４−フ
ェニルピペラジニル）プロポキシ〕−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル及びその３゜４−位脱水素体 ｏｌ−（３−フェニルプロピル）−５−＋２−ヒドロキ
シ−３−（４−（４−メチルフェニル）ピペラジニル）
プロポキシｌ−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びそ
の３，４−位脱水素体ｏ１−ベンジル−６−〔２−ヒド
ロキシ−３−（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ
〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３゜４−
位脱水素体 ｏｌ−（４−フェニルブチル）−６−［２−ヒドロキシ
−３−（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ）−３
，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水
素体 ｏｌ−ベンジル−７−〔２−ヒドロキシ−３−（４−フ
ェニルピペラジニル）プロポキン〕−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル及びその３゜４−位脱水素体 ｏｌ−ベンジル−８−〔２−ヒドロキシ−３−（４−フ
ェニルピペラジニル）プロポキシ〕−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル及びその３゜４−位脱水素体 Ｃ６−クロル−５−〔２−ヒドロキシ−３−（４−フェ
ニルピペラジニル）プロポキシ〕−３゜４−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−メチル−５−ブロム−６−〔２−ヒドロキシ−３
−（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ）−３，４
−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 Ｃ６−フロル−７−〔２−ヒドロキシ−３−（４−フエ
ニルビペラジニル）プロポキシ〕−３゜４−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−ベンジル−５−クロル−８−〔２−ヒドロキシ−
３−（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素
体 Ｃ６，８−ジクロル−５−〔２−ヒドロキシ−３−（４
−フェニルピペラジニル）プロポキシ〕−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル及びその３４−位脱水素体 Ｃ６−クロル−８−ブロム−７−〔２−ヒドロキシ−３
−（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ）−３，４
−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−メチル−５，６−ジプロムー８−〔２−ヒドロキ
シ−３−（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ］−
３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱
水素体 ０１−メチル−５−（２−ヒドロキシ−３−〔４−（２
−クロルフェニル）ピペラジニル）プロポキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素
体 Ｃ６−［２−ヒドロキシ−３−Ｃ４−（３−クロルフェ
ニル）ピペラジニル）プロポキシ）　−３゜４−ジヒド
ロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 Ｃ７−（２−ヒドロキシ−３−Ｃ４−（４−フロルフェ
ニル）ピペラジニル）プロポキシ）−３゜４−ジヒドロ
カルボスチリル及びその３．４−位脱水素体 Ｃ５−ｆ２−ヒドロキシ−３−［４−（２−メチルフェ
ニル）ピペラジニル）プロポキシ）−３゜４−ジヒドロ
カルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−ベンジル−６−（２−ヒドロキシ−３−［４−（
３−メチルフェニル）ピペラジニル〕プロポキシ）−３
，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水
素体 Ｃ８−（２−ヒドロキシ−３−（４−（４−メチルフェ
ニル）ピペラジニル〕プロポキン）　−３゜４−ジヒド
ロカルボスチリル及びその３．４−位脱水素体 ｏｌ−メチル−５−（２−ヒドロキシ−３−〔４−（４
−エチルフェニル）ピペラジニル〕プロポキシ）　−３
，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水
素体 Ｃ６−（２−ヒドロキシ−３−［４−（２−プロピルフ
ェニル）ピペラジニル〕プロポキシ）−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル及びその３゜４−位脱水素体 Ｃ５−（２−ヒドロキシ−３−［４−（２−メトキシフ
ェニル）ピペラジニル〕プロポキシ）　−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル及びその３゜４−位脱水素体 ｏｌ−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−〔４−（３
−メトキシフェニル）ピペラジニル］プロポキシｌ−３
，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３．４−位脱水
素体 Ｃ７−ｆ２−ヒドロキシ−３−Ｃ４−（４−メトキシフ
ェニル）ピペラジニル〕プロポキシ）　−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル及びその３゜４−位脱水素体 ｏｌ−ベンジル−５−（２−ヒドロキシ−３−（４−（
４−プロポキシルフェニル）ピペラジニル〕プロポキシ
）　−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４
−位脱水素体 ｏ６−（２−ヒドロキシ−３−Ｃ４−（２−工トキシフ
ェニル）ピペラジニル〕プロポキシ）−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル及びその３゜４−位脱水素体 Ｃ８−クロル−５−（２−ヒドロキシ−３−〔４−（４
−クロルフェニル）ピペラジニル〕プロポキシｌ−３，
４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素
体 ｏｌ−メチル−６−クロル−７−（２−ヒドロキシ−３
−Ｃ４−（４−クロルフェニル）ピペラジニル〕プロポ
キシｌ−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，
４−位脱水素体ｏ１−ベンジル−６，８−ジクロル−５
−（２−ヒドロキシ−３−［４−（２−ブロムフェニル
）ピペラジニル〕プロポキシ）−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル及びその３．４−位脱水素体ｏ１−アリル−
６−クロル−７−（２−ヒドロキシ−３−［４−（４−
メトキシフェニル）ピペラジニル〕プロポキシｌ−３，
４−ジヒドロカルボスチリル及びその３．４−位脱水素
体ｏ６−クロル−５−（２−ヒドロキシ−３−〔４−（
４−メチルフェニル）ピペラジニル〕プロポキシ）−３
，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３．４−位脱水
素体 Ｃ６，８−ジブロム−５−（２−ヒドロキシ−３−［４
−（４−メチルフェニル）ピペラジニル〕プロポキシｌ
−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位
脱水素・体 Ｃ５−（４−フェニルピペラジニルメトキシ）−３，４
−ジヒドロカルボスチリル及びその３゜４−位脱水素体 Ｃ５−（２−（４−フェニルピペラジニル）エトキシ）
−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３．４−位
脱水素体 Ｃ６−［：２−（４−フェニルピペラジニル）エトキシ
）−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−
位脱水素体 Ｃ７−（２−（４−フェニルピペラジニル）エトキシ］
−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位
脱水素体 Ｃ８−［２−（４−フェニルピペラジニル）エトキシ）
−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位
脱水素体 Ｃ５−Ｃ３−（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ
］−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−
位脱水素体 Ｃ６−（３−（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ
）−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−
位脱水素体 Ｃ７−［３−（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ
）−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３．４−
位脱水素体 Ｃ６−（７−（４−フェニルピペラジニル）へブチルオ
キシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，
４−位脱水素体 Ｃ８−（３−（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ
）−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３．４−
位脱水素体 Ｃ５−（４−（４−フェニルピペラジニル）ブトキシ］
−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位
脱水素体 Ｃ７−（４−（４−フェニルピペラジニル）ブトキシ）
−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３．４−位
脱水素体 ｏ６−Ｃ５−（４−フェニルピペラジニル）ペンチルオ
キシ］−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，
４−位脱水素体 ｏ８−（５−（４−フェニルピペラジニル）ペンチルオ
キシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，
４−位脱水素体 ｏ５−［６−（４−フェニルピペラジニル）へキシルオ
キシ］−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３．
４−位脱水素体 ｏ７−［６−（４−フェニルピペラジニル）へキシルオ
キシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３．
４−位脱水素体 ｏｌ−メチル−５−（２−（４−フェニルピペラジニル
）エトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びそ
の３，４−位脱水素体 ｏ１−メチル−６−Ｃ３−（４−フェニルピペラジニル
）プロポキシ］−３，４−ジヒドロカルボスチリル及び
その３，４−位脱水素体ｏ１−ブチル−５−（４−（４
−フェニルピペラジニル）ブトキシ）−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏ１−メチル−７−［３−（４−フェニルピペラジニル
）プロポキシ］−３，４−ジヒドロカルボスチリル及び
その３，４−位脱水素体ｏ１−プロピル−８−［２−（
４−フェニルピペラジニル）エトキシ）−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素体ｏ１−
へキシル−６−Ｃ３−（４−フェニルピペラジニル）プ
ロポキシ］−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその
３，４−位脱水素体ｏ１−アリル−５−［３−（４−フ
ェニルピペラジニル）プロポキシ］−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル及びその３，４−位脱水素体ｏ１−アリ
ル−６−（３−（４−フェニルピペラジニル）プロポキ
シ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４
−位脱水素体ｏ１−（１−メチルアリル）−７−Ｃ３−
（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ］−３，４−
ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−ベンジル−５−（２−（４−フェニルピペラジニ
ル）エトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル及び
その３．４−位脱水素体ｏ１−（２−フェニルエチル）
−６−（３−（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ
〕−３゜４−ジヒドロカルボスチリル及びその３．４−
位脱水素体 ｏｌ−（４−フェニルブチル）−５−Ｃ３−（４−フェ
ニルピペラジニル）プロポキシ〕−３゜４−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその３．４−位脱水素体 ｏｌ−ベンジル−７−Ｃ３−（４−フェニルピペラジニ
ル）プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル及
びその３．４−位脱水素体ｏ１−ベンジル−８−［３−
（４−フェニルピペラジニル）プロポキシ）−３，４−
ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素体ｏ
５−　（３−（４−（２−メトキシフェニル）ピペラジ
ニル〕プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル
及びその３．４−位脱水素体ｏ６−（２−（４−（４−
プロポキシフェニル）ピペラジニル〕エトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素
体ｏ５−（３−［４−（３−メチルフェニル）ピペラジ
ニル〕プロポキシｌ−３，４−ジヒドロカルボスチリル
及びその３，４−位脱水素体ｏ６−　（３−Ｃ４−（４
−メチルフェニル）ピペラジニル〕プロポキシｌ−３，
４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素
体ｏ７−　（２−（４−（４−プロピルフェニル）ピペ
ラジニル〕エトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル及びその３，４−位脱水素体Ｃ５−（３−Ｃ４−（４
−クロルフェニル）ピペラジニル〕プロポキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素
体ｏ６−　（３−Ｃ４−（４−ブロムフェニル）ピペラ
ジニル〕プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル及びその３．４−位脱水素体ｏ７−　（２−（４−（
２−クロルフェニル）ピペラジニル〕エトキシｌ−３，
４−ジヒドロカルボスチリル及びその３．４−位脱水素
体ｏ８−　（３−（４−（３−クロルフェニル）ピペラ
ジニル〕プロポキシｌ−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル及びその３，４−位脱水素体ｏ１−メチル−５−（３
−（４−（４−クロルフェニル）ピペラジニル〕プロポ
キシ）　−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３
，４−位脱水素体 ｏｌ−ベンジル−６−［２−［２−（４−ブロムフェニ
ル）ピペラジニル］エトキシ）　−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその３．４−位脱水素体 ｏｌ−アリル−７−（４−［４−（４−ブロムフェニル
）ピペラジニル〕ブトキシｌ−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−メチル−６−（３−［４−（４−メチルフェニル
）ピペラジニル〕プ゛ロポキシ）　−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル及びその３．４−位脱水素体 ｏｌ−ベンジル−５−（３−Ｃ４−（２−メチルフェニ
ル）ピペラジニル〕プロポキシ）　−３゜４−ジヒドロ
カルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−メチル−７−（３−［４−（４−メトキシフェニ
ル）ピペラジニル〕プロポキシ）−３゜４−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその３．４−位脱水素体 ｏｌ−ベンジル−５−（３−（４−（４−メトキシフェ
ニル）ピペラジニル〕プロポキシ）　−３゜４−ジヒド
ロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 Ｃ８−クロル−５−（３−［４−（４−クロルフェニル
）ピペラジニル〕プロポキシ）　−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 Ｃ８−ブロム−５−（３−（４−フェニルピペラジニル
）プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル及び
その３，４−位脱水素体ｏ１−メチルー５−ブロム−６
−（２−（４−フェニルピペラジニル）エトキシ）−３
，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水
素体 Ｃ６−フロル−７−Ｃ３−（４−フェニルピペラジニル
）プロポキシ］　−３，４−ジヒドロカルボスチリル及
びその３，４−位脱水素体ｏ６−クロル−５−［２−（
４−フェニルピペラジニル）エトキシ）−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏ１−ベンジルー５−クロル−８−［３−（４−フェニ
ルピペラジニル）プロポキシ）−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル及びその３，４−位脱水素体 Ｃ６，８−ジクロル−５−［２−（４−フェニルピペラ
ジニル）エトキシ］　−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル及びその３．４−位脱水素体ｏ６−クロルー８−ブロ
ム−７−（３−（４−フェニルピペラジニル）プロポキ
シ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３，４
−位脱水素体 ｏｌ−メチル−５，６−ジプロムー８−　Ｃ２−（４−
フェニルピペラジニル）エトキシ〕−３゜４−ジヒドロ
カルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏ８−クロル−５−［３−Ｃ４−（４−クロルフェニル
）ピペラジニル〕プロポキシｌ　−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−メチル−６−クロル−７−＋２−　［４−（４−
クロルフェニル）ピペラジニルフェトキシｌ−３，４−
ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−ベンジル−６，８−ジクロル−５−＋２−［４−
（２−ブロムフェニル）ピペラジニルフェトキシ）−３
，４−ジヒドロカルボスチリル及びその３．４−位脱水
素体 ０６−クロル−５〜（４−Ｃ４−（４−メチルフェニル
）ピペラジニル〕ブトキシｌ　−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏｌ−アリル−６−クロル−７−（２−Ｃ４−（４−メ
トキシフェニル）ピペラジニルフェトキシ）−３，４−
ジヒドロカルボスチリル及びその３，４−位脱水素体 ｏ６，８−ジブロム−５−＋３−　（４−（４−メチル
フェニル）ピペラジニル〕プロポキシ）　−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリル及びその３゜４−位脱水素体 本発明化合物は下記反応行程式−１に示す如くして製造
できる。

く反応行程式−１〉 （ＩＩ）　　　　　　　　　　　　　　［Ｉｆｆ］−〉
ＣＩ） （式中Ｒ’、Ｒ２，Ｒ３，Ｘ、Ｑ、ｍ、ｎ、カルボスチ
リル骨格の３位と４位の炭素間結合は前記に同じ） 即ち一般式〔■〕で表わされるヒドロキシカルボスチリ
ル誘導体に一般式〔■〕で表わされる公知のハロゲノア
ルキルピペラジン誘導体を反応させることにより、本発
明化合物を製造できる。上記方法における反応は、好ま
しくは塩基性化合物を脱ハロゲン化水素剤とし、適当な
溶媒中室温〜２００℃好ましくは５０〜１５０℃で数時
間〜１５時間内に行なわれる。上記において適当な溶媒
としては、例えばメタノール、エタノール、イソプロパ
ツール等の低級アルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトン等のケトン類、ジオキサン、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド等を例示できる。また脱ハロゲン化水
素剤として利用できる塩基性化合物としては、例えば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエト
キサイド、カリウムエトキサイド、水素化ナトリウム、
金属カリウム、ナトリウムアミド、ピリジン、キノリン
、トリエチルアミン、トリプロピルアミン等の第三級ア
ミン類等を例示できる。

上記反応においてはまた反応促進剤として沃化カリウム
、沃化ナトリウム等の沃化アルカリ金属化合物を使用す
ることもできる。一般式〔■〕で表わされる化合物と一
般式Ｃｍ）で表わされる化合物との使用割合は特に制限
はないが、前者１モル当り後者を１モル以上通常は１〜
５モル好ましくは１〜１．２モル程度用いるのがよい。

かくして本発明において目的とする一般式〔Ｉ〕で表わ
される化合物が収得される。

上記において出発原料とする一般式〔■〕で表わされる
化合物は、例えば下記反応行程式−２に示す方法に従い
容易に製造できる。

く反応行程式−２〉 （１ｂ１　　　　　　　　　　　［ＩＶｂｌ（式中Ｒ”
、Ｘ及びカルボスチリル骨格の３位と４位の炭素間結合
は前記に同じ。Ｒ４は低級アルキル基又は低級アルカノ
イル基及びｎ′は１又は２を示す） 即ち一般式［ＩＩａ〕で表わされるヒドロキシカルボス
チリル類にハロゲン化剤を反応させるか、又は一般式［
ＩＶａｌで表わされるアルコキシ又はアルカノイルオキ
シカルボスチリル類にハロゲン化剤を反応させて得られ
る化合物［：ＩＶｂ〕を加水分解することによって、出
発原料とする一般式〔■〕で表わされる化合物を収得で
きる。上記におけるハロゲン化反応は公知のハロゲン化
剤、例えば弗素、塩素、臭素、沃素、二弗化キセノン、
塩化スルフリル、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸、
次亜臭素酸、さらし粉、塩化沃素等を用いて行ない得る
。ハロゲン化剤用量は原料化合物に導入するハロゲン原
子の数に応じて適宜に決定できる。例えばハロゲン原子
１個を導入する時には、原料化合物に対し通常等モル−
過剰量、好ましくは等モル−１，５倍モルを、ハロゲン
原子２個を導入する時には２倍モル〜大過剰士好ましく
は２〜３倍モルを夫々使用すればよい。上記反応は通常
適当な溶媒例えば水、メタノール、エタノール、クロロ
ホルム、四塩化炭素、酢酸等又は之等の混合溶媒中で行
なうのがよい。反応温度は特に限定されず適宜選択され
、通常−２０〜１００℃程度、好ましくはＯ℃〜室温と
される。反応は約３０分〜２０時間の範囲内に完結する
。

また上記一般式（ＩＶｂ〕で表わされる化合物の加水分
解反応は、該化合物［ＩＶｂ）のＲ４の種類により若干
具なり、例えばＲ４が低級アルカノイル基である場合は
、通常のエステル加水分解反応条件下に行ない得る。具
体的には例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化バリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム等の
塩基性化合物、硫酸、塩酸等の鉱酸、酢酸、芳香族スル
ホン酸等の有機酸の存在下に通常の不活性溶媒例えば水
、メタノール、エタノール、アセトン、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、ベンゼン等の溶媒中で実施できる。

反応温度は通常室温〜１５０℃好ましくは５０〜１００
℃とすればよく、反応は１〜１２時間で完結する。また
上記Ｒ４が低級アルキル基である場合その加水分解反応
条件は通常のエーテル加水分解反応条件と同様のものと
すればよい。具体的には例えば塩化アルミニウム、三弗
化硼素、三臭化硼素、臭化水素酸等を溶媒として、例え
ば水、メタノール、エタノール、ベンゼン、塩化メチレ
ン、クロロホルム等の溶媒中０〜２００℃好ましくは室
温〜１２０°Ｃで数時間〜１２時間程度反応させればよ
い。いずれの加水分解反応においても、使用される触媒
の量は特に限定されず、通常原料化合物に対し過剰曾と
すればよい。

尚前記反応行程式−２において原料とする一般式（ＩＩ
ａ）又は（ＩＶａｌで表わされる化合物中Ｒ１が低級ア
ルキル基を示すものには新規化合物が包含される。該化
合物はＲ１が水素原子である公知のヒドロキシカルボス
チリルを原料として之にアルキルハライドを塩基性化合
物例えばナトリラム、カリウム等のアルカリ金属原子、
ナトリウムアミド、カリウムアミド等のアルカリ金属ア
ミド、水素化ナトリウム等の存在下、適当な溶媒中例え
ばベンゼン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチ
ルスルホキサイド、ジメチルホルムアミド等の溶媒中で
、０°Ｃ〜７０℃好ましくは０℃〜室温下に約３０分〜
１２時間反応させて後、得られる化合物を前記反応行程
式−２に示す一般式［ＩＶａ）で表わされる化合物の加
水分解反応と同様の条件下に加水分解することにより容
易に製造できる。上記反応において原料化合物に対する
塩基性化合物及びアルキルハライドの使用割合は適当に
決定できるが通常夫々２〜１０倍モル好ましくは２〜４
倍モルとするのがよい。

更に本発明の一般式（Ｉｌで表わされるカルボスチリル
誘導体のうちｎがＯのものは、前述した方法に準じてこ
れにハロゲン化剤を反応させることによりｎが１又は２
である一般式ＣＩ）で表わされる本発明化合物に変換す
ることができ、またカルボスチリル骨格の３，４−位の
結合が一重結合である本発明化合物はこれを脱水素反応
することにより上記結合が二重結合である本発明化合物
に変換できる。更にｎが１又は２であり且つカルボスチ
リル骨格の３，４−位の結合が二重結合である本発明化
合物は、これを還元することによりｎが０でかつ上記３
．４−位の結合が一重結合である本発明化合物に変換で
きる。更にまたＲ１が水素原子を示す本発明化合物は、
これに低級アルキルハロゲン、低級アルケニルハロゲン
又はフェニルアルキルハロゲンを反応させることによっ
て、上記Ｒ１が夫々低級アルキル基、低級アルケニル基
又はフェニルアルキル基に変換された本発明化合物とす
ることもできる。

本発明の一般式ＣＩ）で表わされるカルボスチリル誘導
体は、医薬的に許容される酸を作用させることにより容
易に酸付加塩とすることができる。

該酸としては例えば、塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸
等の無機酸、シュウ酸、マレイン酸、フマール酸、リン
ゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸等の有機酸を挙げる
ことができる。かくして得られる各々の行程での目的化
合物は、通常の分離手段により容易に単離精製すること
ができる。該分離手段としては、例えば溶媒抽出法、稀
釈法、再結晶法、カラムクロマトグラフィー、プレパラ
テイブ薄層クロマトグラフィー等を例示できる。

尚本発明は光学異性体も当然に包含するものである。

実施例 以下に本発明を更に説明するために参考例及び実施例を
挙げるが本発明はこれ等に限定されるものではない。

参考例　１ ５−アセチルオキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリル
２０．５ｇを酢酸２００　ｍＱに溶解し、この溶液に攪
拌水冷下、臭素１６ｇの酢酸６０ｍＱ溶液を３０分で滴
下し、同温度で２時間反応する。

この反応液に水３００ｍ１を加え３時間放置し、析出結
晶を枦取し、メタノールから再結晶して、融点２３７〜
２３９℃の無色針状結晶の８−ブロム−５−アセチルオ
キシ−３，４−ジヒドロカルボスチリル２１ｇを得る。

かくして得られた８−ブロム−５−アセチルオキシ−３
，４−ジヒドロカルボスチリル２１ｇを８Ｎ−塩酸１５
０ｍ１に分散し、３時間加熱還流ののち冷却し、不溶解
物を枦取し、水洗、乾燥し、メタノール−水から再結晶
して、融点２１２〜２１３℃の無色針状結晶の８−ブロ
ム−５−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリル
１４ｇを得る。

参考例　２ ５−ビトロキジ−３，４−ジヒドロカルボスチリル１６
．４ｇを酢酸３００　ｍＱに溶解し室温攪拌下に、塩素
７ｇを含む酢酸５０ｍ１溶液を滴下し、３時間攪拌する
。この反応液を水５００　ｍＱ中に投入し、１時間放置
し析出物を枦取し水洗乾燥し、エタノール−水から再結
晶して、融点２０９〜２１０℃の無色針状結晶の６−ク
ロル−５−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル１３．５ｇを得る。

参考例　３ ５−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリル１６
．４ｇを酢酸３００　ｍＱに溶解し室温攪拌下に、塩素
１４ｇを含む酢酸８０回溶液を滴下し、３時間反応する
。以下参考例２と同様な操作を行ない粗結晶をメタノー
ルから再結晶して、融点２５９〜２６０℃の無色針状結
晶の６，８−ジクロル−５−ヒドロキシ−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル１６ｇを得る。

参考例　４ ７−メドキシー３．４−ジヒドロカルボスチリル３５．
４ｇを酢酸３００　ｍＱに溶解し、攪拌水冷下に塩化ス
ルフリル２７ｇの酢酸１００ｍＱ溶液を滴下し、−夜装
置する。反応液を氷水ＩＱに投入し析出物を炉取し水洗
乾燥後メタノールより再結晶して、融点２１２℃の無色
針状結晶の６−クロル−７−メドキシー３，４−ジヒド
ロカルボスチリル３０ｇを得る。

かくして得られる６−クロル−７−メドキシー３．４−
ジヒドロカルボスチリル３０ｇを４７％臭化水素酸水溶
液３００　ｍＱに分散し４時間加熱還流する。冷却後不
溶物を枦取し水洗乾燥し、メタノール−クロロホルムか
ら再結晶して、融点２６４〜２６６℃の無色針状結晶の
６−クロル−７−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル２５ｇを得る。

参考例　５ ８−メトキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリル３５ｇ
を酢酸２００ＩｒＩＩ２に溶解し攪拌冷却下に塩素１６
ｇの酢酸１００ｒｌｌｉ２溶液を滴下し一夜放置する。

反応液に水ＩＱに投入し析出物を枦取し水洗乾燥後クロ
ロホルムより再結晶して融点２０１〜２０２℃の淡赤色
針状結晶の５．６−ジクロル−８−メトキシ−３，４−
ジヒドロカルボスチリル４２ｇを得る。

かくして得られる５、６−ジクロル−８−メトキシ−３
，４−ジヒドロカルボスチリル４２ｇを４７％臭化水素
酸水溶液５００戒に分散し４時間加熱還流したのち、冷
却し不溶物を枦取し水洗乾燥する。粗結晶をメタノール
から再結晶して、融点２３３〜２３５℃の無色針状結晶
の５．６−ジクロル−８−ヒドロキシ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル２９ｇを得る。

参考例　６ 上記参考例５と同様にして、８−ブロム−５−ヒドロキ
シカルボスチリルを得る。

無色針状晶（再結晶溶媒メタノール）、融点　２６６〜
２６７℃（分解） 参考例　７ ８−ブロム−５−メトキシ−３，４−ジヒドロカルボス
チリル２２．７ｇ及び塩化第一銅２５ｇをジメチルスル
ホキサイド１００ＩＩ１１２に混和し、攪拌下１３５〜
１４０℃で４時間加熱する。反応終了後反応液を氷２０
０ｇ及び濃塩酸５０ｍｆ２に投入し１時間室温で攪拌し
て析出晶を枦取、稀塩酸で洗い、次いで水洗乾燥する。

粗結晶をリグロイン−ベンゼンから再結晶して、融点１
６５℃の淡赤色針状結晶の８−クロル−５−メトキシ−
３，４−ジヒドロカルボスチリル１３ｇを得る。

かくして得られる８−クロル−５−メトキシ−３，４−
ジヒドロカルボスチリル１３ｇ及び塩化アルミニウム３
５ｇをベンゼン３０回に分散し、２時間加熱還流する。

反応液を氷水中に投入し、析出物を枦取し水洗乾燥後、
イソプロパツールより再結晶して、融点２０６〜２０７
℃の無色針状結晶の８−クロル−５−ヒドロキシ−３，
４−ジヒドロカルボスチリル８ｇを得る。

実施例　１ １−ベンジル−５−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロ−カ
ルボスチリル２．５ｇ及び５０％水素化ナトリウム０．
４８ｇをジメチルホルムアミド３０制に加え攪拌したの
ち、１−クロロ−３−（４−フェニルピペラジニル）プ
ロパン４ｇを加え５０〜６０℃で２．５時間反応する。

反応液を減圧濃縮し、残留物をクロロホルムで抽出する
。蒸留によりクロロホルムを除去した後、粗結晶をリグ
ロインから再結晶して、融点１１３℃の淡黄色針状結晶
の１−ベンジル−５−［３−（４−フェニルピペラジニ
ル）−プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル
２．１ｇを得る。

上記実施例１と同様にして下記実施例２〜１３の各化合
物を得る。

実施例　　　化　　合　　物　　　　　形　　　状　　
　融点Ｎｏ、　　　　　　　　　　　　　　　　　（再
結晶溶媒）　　（℃）２７−　Ｃ３−（４−フェニルピ
無色針状晶２１３〜ペラジニル）プロポキシ〕−（メタ
ノール−２１５３，４−ジヒドロカルボスチ　　　エー
テル）リル・２塩酸塩３／４水和物 ３８−　［３−（４−フェニルピ無色板状晶１１２〜ペ
ラジニル）プロポキシ〕−（エタノール）　　　１１４
３．４−ジヒドロカルボスチ リル ４７−（３−（４−フェニルピ黄色針状晶２３７〜ペラ
ジニル）プロポキシ〕力　（メタノール）　　２３８ル
ボスチリル ５　７−　（３−［４−（４−メチ淡黄色針状晶　１４
９〜ルフエニル）ピペラジニル〕　　（エタノール）　
　　１５０プロポキシ）　−３，４−ジヒ ドロカルボスチリル ６ローブロムー７−Ｃ３−（４無色針状晶２４５〜−フ
ェニルピペラジニル）プ　（メタノール−２５８０ポキ
シ］−３，４−ジヒド　　　エーテル）ロカルボスチリ
ルφ２ＨＣＱ ７７−（３−［４−（３−クロ無色針状晶１５６〜ルフ
エニル）ピペラジニル〕　　（エタノール）　　　１５
８プロポキシ）　−３，４−ジヒ ドロカルボスチリル 実施例　　　化　　合　　物　　　　　形　　　状　　
　融点Ｎｏ、　　　　　　　　　　　　　　　　　（再
結晶溶媒）　　（℃）８　７−　ｆ３−　Ｃ４−（２−
メト　無色粉末状品　１３４〜キシフエニル）ピペラジ
ニル〕　（エタノール）　　　１３７プロポキシｌ　−
３，４−ジヒ ドロカルボスチリル ９７−Ｃ４−（４−フェニルピ無色針状晶１２３〜ペラ
ジニル）ベトキシ〕−（イソプロパ　　　１２５３．４
−ジヒドロカルボスチ　　　　ノール）リル １０１−メチル−７−（３−（４無色粉末状晶　２０４
〜−フェニルピペラジニル）プ　（エタノール）　　２
０７０ポキシ）−３，４−ジヒド ロカルボスチリル番２ＨＣ １１１−ベンジル−７−〔３−淡黄色針状晶　１２５〜
（４−フェニルピペラジニル）（エタノール）　　　１
２７プロポキシ）−３，４−ジヒド ロカルボスチリルＱ １２１−アリル−７−［３−（４無色粉末状晶　１８９
〜−フェニルピペラジニル）プ　（エタノール）　　　
１９２０ポキシ）−３，４−ジヒド ロカルボスチリル・２ＨＣＱ １３　７−　（３−［４−（２−クロ　淡黄色針状晶　
１４６〜ルフエニル）ピペラジニル〕　　（エタノール
）　　１４７プロポキシｌ　−３，４−ジヒ Ｌ？門占１１１７五ＩＩ　ｄ 実施例　１４ １−メチル−５−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロ−カル
ボスチリル１．８ｇ及び水素化ナトリウム（５０％油中
）１ｇをジメチルホルムアミド３ｏ＋ｎＱに混和し、１
−クロロ−２−ヒドロキシ−３−（４−フェニルピペラ
ジニル）プロパン２．６ｇを室温にて加え７０〜８０℃
で３時間攪拌する。

反応液を水の中へ注ぎ、有機層をクロロホルムで抽出す
る。クロロホルムを減圧下に留去し、残渣をアセトンに
溶解する。この溶液中に蓚酸を含むアセトン溶液を加え
ｐＨ調整し、析出物を枦取、メタノール−アセトンから
再結晶して、融点２２０〜２２１℃（分解）の無色不定
形結晶の１−メチル−５−〔２−ヒドロキシ−３−（４
−フェニルピペラジニル）プロポキシ）−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル・１蓚酸塩２．８ｇを得る。

上記実施例１４と同様にして下記実施例１５〜２３の各
化合物を得る。

１５６．８−ジクロル−５−〔２無色不定形品　２５１
〜−ヒドロキシ−３−（４−〕　　　（水）　　　　２
５３エニルピペラジニル）プロポ キシ）−３，４−ジヒドロ力 ルボスチリル・１塩酸塩 １６６−クロル−７−（２−ヒト無色不定形品　１８３
〜ロキシー３−　Ｃ４−（２−メ　　（エタノール）　
　　１８４トキシフエニル）ピペラジニ ル〕プロポキシｌ　−３，４− ジヒドロカルボスチリル １７１−ベンジル−５−〔２−ヒ　無色針状晶　１４８
〜ドロキシ−３−（４−フエニ　（石油ベンジン　　１
５０ルピペラジニル）プロポキシ〕　−エーテル）−３
，４−ジヒドロカルボス チリル １８５−［２−ヒドロキシ−３−無色針状晶　２３９〜
（４−フェニルピペラジニル）　　　（水）　　　　２
４１プロポキシ］−３，４−ジヒ ドロカルボスチリル・１塩酸塩 １９６−［２−ヒドロキシ−３−無色針状晶　２２３〜
（４−フェニルピペラジニル）　　　（水）　　　　　
２２４プロポキシ）−３，４−ジヒ ドロカルボスチリル・１塩酸 塩１／２水和物 ドロカルボスチリル・１塩酸塩 ドロカルボスチリル ドロカルボスチリル１／２水和物 （以　上）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１は水素原子、低級アルキル基、低級アルケ
   ニル基又はフェニルアルキル基及びＸはハロゲン原子を
   示す。ｎは０、１又は２を示し、カルボスチリル骨格の
   ３位及び４位の炭素間結合は一重結合又は二重結合を示
   す。〕 で表わされるヒドロキシカルボスチリル誘導体に一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾２は水素原子又は水酸基及びＲ＾３は水素原
   子、ハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ
   基を示す。またｌ及びｍは夫々０又は１〜６の整数を示
   す。但しｌとｍの和は６を越えてはならない。Ｘは前記
   に同じ。〕で表わされるハロゲノアルキルピペラジン誘
   導体を反応させて一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｘ、ｌ、ｍ、ｎ及びカ
   ルボスチリル骨格の３位と４位の炭素間結合は前記に同
   じ。〕 で表わされるカルボスチリル誘導体を得ることを特徴と
   するカルボスチリル誘導体の製造法。