JPH02218648A - プロポキシニトロベンゼン類の製法 - Google Patents
プロポキシニトロベンゼン類の製法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
ある。
態および高い安全性を有する合成抗菌剤であり広く使用
されている。また、その後の研究によりその光学活性体
DR−3355は、ラセミ体であるオフロキサシンより
さらに高い抗菌活性と安全性を有し、抗菌剤としてより
有用な化合物であることが明らかとなった(特開昭57
−46988号および特開昭62−252790号参照
)。
究を進めた結果本発明を完成した。
1にアリル化合物Aを反応させて2−アリルオキシ−3
,4−ジハロゲノニトロベンゼン銹導体!■を製造する
方法、■3.4−ジ八ロゲハロゲノベンゼン誘導体Iに
オキシラン誘導体Bを反応させてトオキシラニルメチル
オキシー3.4−ジハロゲノニトロベンゼンmを製造す
る方法、■3.4−ジハロゲノニトロベンゼン銹導体I
CプロピレンオキサイドCを反応させて2.3−ジハロ
ゲノ−6−ニトロ−[(2−ヒドロキシプロピル)オキ
シJベンゼン■を製造する方法、■2−アリルオキシー
3,4−ジハロゲノニトロベンゼン説導体!!を酸化し
て2−オキシラニルメチルオキシ−3,4−ジハロゲノ
ニトロベンゼン■を製造する方法、および■2−オキシ
ラニルメチルオキシー3,4−ジハロゲノニトロベンゼ
ン■を還元して2.3−ジハロゲノ−6−ニトロ−[(
2−ヒドロキシプロピル)オキシ]ベンゼン■を製造す
る方法に関する。
する0例えばメブル基、エチル基、n−プロピル基、1
so−プロピル基、n−ブチル基等である XIおよび
×2は同じまたは異なりフッ素あるいはその他のハロゲ
ン原子を意味する。2は塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲ
ン原子あるいはメタンスルホニルオキシ基、トリフルオ
ロメタンスルホニルオキシ基、バラトルエンスルホニル
オキシ基等の置換スルホニルオキシ基に代表される求核
置換反応における脱離基または水酸基を意味する。以下
同様である。) 次に本発明の各工程について具体的に述べる。
弐Bで表わされるオキシラン誘導体を縮合させることに
より2−オキシラニルメチルオキシー3.4−ジハロゲ
ノニトロベンゼン■を得ることができる。
水酸基で、オキシラン誘導体BにおいてZがハロゲン原
子あるいは置換スルホニルオキシ基に代表される求核置
換反応における゛脱離基である場合、塩基性条件下、フ
ェノール性水酸基の求核置換反応により縮合を行うこと
ができる。
ロゲン原子であり、オキシラン誘導体Bにおいて2が水
酸基である場合、塩基性条件下、芳香核に対するアルコ
ール性水酸基の求核置換反応により縮合を行うことがで
きる。
リウム、水素化リチウム、ナトリウムアミド、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸カリ
ウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、トリエチルアミン
、ジイソプロピルエチルアミン、1.8−ジアザビシク
ロ(5,4,03−7−ウンデセン(Dllυン、トリ
トンB等の有機塩基、tert−ブトキシカリウム、ナ
トリウムエキサイト、ナトリウムメトキサイド等の金属
アルコキシド類、ブチルリチウム、フェニルリチウム等
のリチウム試薬を挙げることができ、 1〜10当量程
当量−ることが好ましい。
レン、n−ヘキサン等め炭化水素系溶媒、メタノール、
エタノール、1−プロパツール、2−プロパツール、n
−ブタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル
、テトラヒドロフラン、1.4−ジオキサン、1.2−
ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジクロル
メタン、ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素系溶媒
、その他ジメチルスルホキシド、スルホラン等を挙げる
ことができる。
で実施することが好ましく、反応時間は約10分間から
数日であり1時に無水条件下で実施することが望ましい
ことがある。また、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム
、クラウンエーテル等を17100〜当量程度添加する
と、これらの反応が促進されることがある。
体Bにおいて、YおよびZがともに水酸基である場合に
は1〜1.5当′量のミツノブ試薬を用いて縮合を行う
ことができる。
ル(ジメチルエステル、ジエチルエステル、ジイソプロ
ピルエステル、ジベンジルエステル等)とトリフェニル
ホスフィンあるいはトリアルキルホスフィンとのコンプ
レックスであり、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、l、4−ジオキサン等のエーテル系溶媒中で、同時
に無水条件下で試薬を調製して、0℃〜50℃で反応す
ることが好ましい(0,Mitsunobu、 5yn
thesis 1〜281981 Jan、参照)。
るアリル化合物を、■で述べた方法と同様にして縮合さ
せ、式!!で表わされる2−アリルオキシ−3,4−ジ
ハロゲノニトロベンゼンを得ることができる。
ゼン11を酸化して2−オキシラニルメチルオキシ−3
,4−ジハロゲノニトロベンゼンIIIを得ることがで
きる。
ギ酸、酢酸等の低級脂肪酸から炭素数20程度の高級脂
肪酸の過酸化物、安息香酸、トクロル安息香酸等芳香属
カルボン酸の過酸化物、その他トリフルオロ酢酸の過酸
化物、過酸化水素、tert−ブタノールの過酸化物等
が挙げられる。使用する溶媒としてはクロロホルム、ジ
クロルメタン、ジクロルエタン等の塩素系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン等の炭化水素系溶媒、メタノール、エタノ
ール等のアルコール系溶媒、その他酢酸エチル、ギ酸、
酢酸、トリフルオロ酢酸、水等が挙げられ、これらを組
み合せた混合溶媒中で反応を行うこともある。
施することが好ましく、反応時間は約10分間から数日
であり、時に酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、炭酸ナトリウム等塩基の存在下実施すること
が望ましいことがある。
シ−3,4−ジハロゲノニトロベンゼン■のオキシラン
環を還元的に開裂して2−ヒドロキシプロピル基を形成
させて、2.3−ジハロゲノ−6−二トロー[(2−ヒ
ドロキシプロピル)オキシ]ベンゼン■となし、これと
同時にあるいは続いてニトロ基も還元してアミノ基とし
、2,3−ジハロゲノ−6−アミノ−[(2−ヒドロキ
シプロピル)オキシ]ベンゼンVに導くことができる。
キシプロピル基の形成およびニトロ基からアミノ基への
変換に用いられる還元反応としては、パラジウム−炭素
、ラネーニッケル、酸化合金等を触媒とする接触還元(
常圧から約50kg/cm”程度の加圧下で実施するこ
とが望ましい)、水素化アルミニウムリチウム(LiA
1)14)による還元、水素化ホウ素ナトリウム(Na
BH4)による還元、ハイドロサルファイドによる還元
、ジボラン(B2)1B)による還元等を挙げることが
できる。この場合、反応に使用する溶媒としては、ベン
ゼン、トルエン、n−ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メ
タノール、エタノール、1−プロパツール、2−プロパ
ツール、n−ブタノール等のアルコール系溶媒、ジエチ
ルエーテルテトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、
1.2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、ジクロ
ルメタン、ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素系溶
媒、その他ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、水等を挙げ
ることができ、これらを組み合せた混合溶媒中で反応を
行うこともある。
範囲で実施することが好ましく、反応時間は約10分間
から数日であり、時にボロントリフロライド・エーテル
コンプレックス(BFs・0Etz)塩化アルミニウム
(AICIs) 、四塩化チタン(TiCl2)、塩化
マグネシウム(MgCh )等のルイス酸を添加するこ
とにより反応が促進されることがある。
プロピル)オキシ]ベンゼンVを粗生成物のままあるい
はJIL離・精製後そのアミノ基をメチレンマロネート
化して、2.3−ジハロゲノ−6−(2,2−ジアルコ
キシカルボニルエチニル)アミノ−[(2−ヒドロキシ
プロピル)オキシ]ベンゼン■に導くことができる。
基、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、ジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基等を意味し、Rはメチル、エ
チル等の低級アルキル基を意味する)で表わされる化合
物の等モル以上を用いて、メタノール、エタノール等の
アルコール系溶媒あるいはその他通当な溶媒中で加熱還
流するか、無溶媒で両者を80〜180℃程度に加熱攪
拌することにより行うことができる。
おいてYが水酸基であるとき(ジハロゲノニトロフェノ
ールであるとき)これと式Cで表わされるプロピレンオ
キサイドを、時に酸、塩基等の縮合剤を用いて縮合する
ことにより、2.3−ジハロゲノ−6−ニトロ−[(2
−ヒドロキシプロピル)オキシ]ベンゼン■を得ること
ができる。
オロ酢酸、メタンスルホン酸、P−トルエンスルホン酸
、トリフルオロメタンスルホン酸、濃硫酸等の有機酸お
よび無機酸、ボロントリフワライド・エーテルコンプレ
ックス、塩化アルミニウム、四塩化チタン、塩化マグネ
シウム等のルイス酸、メチルマグネシウムクロライド、
エチルマグネシウムクロライド、フェニルマグネシウム
クロライド等のグリニア試薬、水素化ナトリウム、水素
化リチウム、ナトリウムアミド、水酸化ナトリウム、水
酸化リチウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム等の無機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン、 1.8−ジアザビシクロ[5,4
,0]−7−ウンデセン(DBtl)、トリトンB1ピ
リジン、キノリン、イソキノリン等の有機塩基、ter
t−ブトキシカリウム、ナトリウムエトキサイド、ナト
リウムメトキサイド等の金属アルコキサイド類、その他
ブチルリチウム、フェニルリチウム等を挙げることがで
き、触媒量から等モル以上の範囲で適宜用いることが好
ましい。
も可能である。
レン、n−ヘキサン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、1.4−ジオキサン、l、
2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジメチルアセト
アミド、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジク
ロルメタン、ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素系
溶媒、その他ジメチルスルホキシド、スルホラン、2−
プロパツール、tart−ブタノール、酢酸エチル等を
挙げることができるが、無溶媒で反応を行うことも可能
である。
実施することが好ましく、反応時間は約10分間から数
日であり、時に無水条件下で実施することが望ましいこ
とがある。
ロ−[(2−ヒドロキシプロピル)オキシフベンゼン■
を、粗生成物のまま、または単離・精製後、先に述べた
ニトロ基を還元する方法およびアミノ基をメチレンマロ
ネート化する方法に準拠して処理し、2.3−ジハロゲ
ノ−6−アミノ−〔(2−ヒドロキシプロピル)オキシ
ランゼンVを経て、2.3−ジハロゲノ−6−(2,2
−ジアルコキシカルボニルエチニル)アミノ−【(2−
ヒドロキシプロピル)オキシフベンゼン■へ変換するこ
とができる。
体および式Cで表わされるプロピレンオキサイドについ
ては、その光学活性体を容易に入手することができる[
参考文献 J、Org、Ctll、43゜4876
(197B)、同 52.3710 (19H)、An
gew、Chem、Int。
thasis 316 (1982)、J、Org、C
hem、 46,3348(1981)、Can、J
、Chem、 57,233(1979)]それらの
光学活性体を用いることにより式III、式■、式Vお
よび式■で表わされる化合物の光学活性体を得ることが
できる。
プロ2.3−ジフルオロートニトロフェノール (I:
Y−0)I X’−X’−F) 35.02gを無水ジ
メチルホルムアミド(D M F ) 350m1に
溶解、K2CO227,64gを加え85〜90℃で2
0分間攪拌した後、にI 3gとエピクロルヒドリン1
8.50 gを加え同温で3時間攪拌する。
17gを1〜2時間毎に3回追加し、さらに同温で一夜
攪拌する。
NaHCO3水、水の順に洗い、乾燥(MgSO4)後
、留去して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィに付し、油状物買として標記のオキシラニルメチル体
22.92g 収率49.Hを得た。
ン)3.33〜3.52(IH,m、オキシラン環のメ
チン)4.12〜4.62(2H,m、−0−CH2−
オキシラン環)7.09(IH,d、d、d、J=7.
2.9 and 9)!z ニドo基メタ位の核プロト
ン) 7.76(IH,d、d、d、J−2,4,5,4an
d 7.2Hz =トロ基オルト位核プロトン) 実施例2 2.3−ジフルオロ−6−二トロフエノール (IY・
OH,X1@X2・F)700.4mg ’r無水DM
F4mlニ溶解後、K、Go、 304.1egを加え
70℃で30分間攪拌する。
.4mgおよび(R)−グリシジルトシレート1gを加
え同温で6時間加熱攪拌する。
O4)後、留去して得た残漬をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィに付し、ベンゼン流分より油状物買として標
記の縮合体507mg、収率55奪を得た。
Z、エポキシブロビル基の3位のプロトン) 2.89(IH,d、d、J=4.8 and 4.8
Hz、エポキシプロビル基3位のプロトン) 3.42(IH,巾18Hzの多重線、エポキシプロピ
ル基2位のメチレンプロトン) 4.21(IH,d、d、d、J=1.2,6.0 a
nd 7.2)1z、zポキシブロビル基1位のプロト
ン) 4.53(IH,d、d、d、J−1,2,3,6an
d 4.8Hz、zポキシブロピル基1位のプロトン) 7.07(IH,d、d、d、J=7.2.9.0 a
nd 9.6H!、 4位核プロトン) 7.74(IH,d、d、d、J”2.4,5.4 a
nd 7.2Hz、 5位核プロトン) 実施例3 ラセミ体を得た方法に準じ、2.3−ジフルオロ−[i
−ニド073. /−ル17.98g 、に2CO31
4,19g%に13.32gおよび(R)−エピクロル
ヒドリン10gを無水DMF中85〜90℃で反応し標
記の(R)−2,3−二ポキシプロピル体8.06g
収率3桟を得た。油状物質NMRは実施例2で得たも
のと一致した。
ン201に懸濁、水冷攪拌中グリシドール1.85gを
滴下、無水トルエン18m1で洗いこむ(はとんどまじ
らない)0滴下後、ナトリウム塩がブロック化するので
室温ではげしく攪拌して粉砕する(25分)。
54gを無水トルエン20m1に溶解して滴下し、氷室
で一夜攪拌する0反応後、氷水を加え、有機層を重曹水
および水で洗う、乾燥(MgSO4)後留去して得た残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付し目的化合
物793agを得た。 NMR5品と一致。
ジエチルエステル2.61gを無水テトロヒドロフラン
(THF)30ml中、水冷下20分間攪拌する(ミツ
ノブ試薬の調製)、2.3−ジフルオロ−6−二トロフ
エノール1.75gおよびグリシドール815mgを無
水T HF 20m1に溶解した溶液を加え、室温で一
夜攪拌する。
HCOs水溶液および水で洗う、有機層を脱水(Na2
SO4)後留去して得た残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィに付し、表題化合物590mgを得た。 N
MR標品と一致。
ン3.54gを無水トルエン20m1に溶解した溶液中
に水冷下漬下し、同温で一夜攪拌する0反応後氷水を加
え有機層を水洗、乾燥(MgSOJ後留去して2.3−
ジフルオロ−6−ニトロ−(2−プロペニルオキシ)ベ
ンゼンの枢体を得る。
ロル酸安息香酸(80k) 4.75gを加え室温で一
夜攪拌する0反応液を34F Na2CO,水溶液およ
び水で洗い、乾燥(Mg504)後留去して得た残漬を
シリカゲルカラムクロマトグラフィに付し、2.3−ジ
フルオロ−6−二トロー(2,3−エポキシプロビルオ
キシ)ベンゼン3.36g (収率73零)を得た。
NMR標品と一致実施例7 水素化ナトリウム(60%) 1.0Ogを無水トルエ
ン20a+1に懸濁、水冷下撹拌中に、アリルアルコー
ル1.54gを無水トルエン18111に溶解した溶液
を滴下し、同温で15分間、室温で20分間攪拌する。
メタノール3511に溶解、5駕Pd−C1,Ogを触
媒として加え室温、常圧にて接触水添する(計5時間)
。
−6−ニトロ−(2,3−二ポキシプロピルオキシ)ベ
ンゼンの枢体を得、単離精製すること無くこれにジエチ
ル・エトキシメチレンマロネート(EMME)1.19
gを加え、140℃で常圧で30分減圧下エタノールを
除きながら30分、さらに常圧で30分加熱攪拌する(
反応終了時の丁LCでは加圧下接触水添した時に副生じ
た一級アルコール体の生成は認められない)0反応後シ
リカゲルカラムクロマトグラフィに付し目的化合物V7
1.32g(収ll71りを得た。
た。
11に溶解、5kPd−C300■gを加え、常温、常
圧にて水添する(約3.5時間)0反応後触媒を濾去し
、溶媒を留去して2.3−ジフルオロ−6−アミノ−[
(R)−2−ヒドロキシブロピルオキシコベンゼンの枢
体を得る。これとEMME518鳳gを無溶媒で120
℃に加熱、常圧で20分間、減圧で20分間再度常圧で
20分間攪拌する。放冷後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィに付し、ベンゼン・酢酸エチル5:l流分より
メチレンマロネート化体VT 514mg(収率63t
)を得た。ax品と一致 トリフェニルホスフィンとアゾジカルボン酸ジエチルを
無水THF中氷冷下20分間攪拌した(ミツノフ試薬の
調製)、これに上記のメチレンマロネート化体■を無水
THFに溶解した溶液を加え室温で一夜攪拌した。TH
Fを留去て得た残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィに付しくS)−ジメチル・(7,8−ジフルオロ−3
−メチル−3,4−ジヒドロ−28−[1,4]ベンゾ
オキサジン−4−イル)メチレンマロネートを得た。こ
のものの光学純度は92* a、e、であフた。
チニル アミノ−(二2−ヒドロキシプロピルオキシ)
ヘンゼ:/ Vl: X’−X”−F I’1−Et
2.3−ジフルオロ−6−ニトロフ二ノール2.5g
。
1m1を無水トルエン5■1に溶解、封管中50℃で7
2時間加温攪拌する0反応液を酢酸エチルに溶解し、N
a)ICO,水溶液および水で洗い、乾燥(MgSO4
)後留去して2,3−ジフルオロ−6−二トロー(2−
ヒドロキシプロピルオキシ)ベンゼンの枢体2.17g
を得る。
0mgを触媒として加え、常圧で接触還元に付す0反応
後触媒を濾去、溶媒を留去して2.3−ジフルオロ−ド
アミノ−(2−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンゼンの
枢体を得る。これにE M M E 2.42gを加え
、常圧で30分間、減圧で発生するエタノールを除きな
がら30分間、さら°に常圧で30分間、 120℃で
加熱攪拌する0、反応混合物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィに付し、yAB化合物2.19gを得た。
Claims (5)
- (1)式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ I で表わされる化合物に式A ▲数式、化学式、表等があります▼A で表わされる化合物を反応させることを特徴とする式I
I ▲数式、化学式、表等があります▼II で表わされる化合物の製法 - (2)式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ I で表わされる化合物に式B ▲数式、化学式、表等があります▼B で表わされる化合物を反応させることを特徴とする式I
II ▲数式、化学式、表等があります▼III で表わされる化合物の製法 - (3)式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ I で表わされる化合物に式C ▲数式、化学式、表等があります▼C で表される化合物を反応させることを特徴とする式IVで
表わされる化合物の製法 ▲数式、化学式、表等があります▼IV - (4) 式II ▲数式、化学式、表等があります▼II で表わされる化合物を酸化することを特徴とする式III ▲数式、化学式、表等があります▼III で表わされる化合物の製法
- (5)式III ▲数式、化学式、表等があります▼III で表わされる化合物を還元することを特徴とする式IV ▲数式、化学式、表等があります▼IV で表わされる化合物の製法
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---|---|---|---|
JP1037989A JP2857760B2 (ja) | 1989-02-17 | 1989-02-17 | プロポキシニトロベンゼン類の製法 |
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---|---|---|---|
JP10205928A Division JP3002978B2 (ja) | 1998-07-22 | 1998-07-22 | プロポキシニトロベンゼン類の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02218648A true JPH02218648A (ja) | 1990-08-31 |
JP2857760B2 JP2857760B2 (ja) | 1999-02-17 |
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ID=12512978
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---|---|---|---|
JP1037989A Expired - Lifetime JP2857760B2 (ja) | 1989-02-17 | 1989-02-17 | プロポキシニトロベンゼン類の製法 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2857760B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1993023386A1 (en) * | 1992-05-15 | 1993-11-25 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Process for producing glycide derivative |
WO1994007873A1 (es) * | 1992-10-07 | 1994-04-14 | Derivados Del Etilo, S.A. | Prodedimiento para la obtencion de benzoxazinas utiles para la sintesis de ofloxacina, levofloxacina y derivados |
JPWO2013187406A1 (ja) * | 2012-06-11 | 2016-02-04 | アステラス製薬株式会社 | 4,4,7−トリフルオロ−1,2,3,4−テトラヒドロ−5h−1−ベンゾアゼピン化合物の製造方法及びその合成中間体 |
-
1989
- 1989-02-17 JP JP1037989A patent/JP2857760B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO1993023386A1 (en) * | 1992-05-15 | 1993-11-25 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Process for producing glycide derivative |
WO1994007873A1 (es) * | 1992-10-07 | 1994-04-14 | Derivados Del Etilo, S.A. | Prodedimiento para la obtencion de benzoxazinas utiles para la sintesis de ofloxacina, levofloxacina y derivados |
JPWO2013187406A1 (ja) * | 2012-06-11 | 2016-02-04 | アステラス製薬株式会社 | 4,4,7−トリフルオロ−1,2,3,4−テトラヒドロ−5h−1−ベンゾアゼピン化合物の製造方法及びその合成中間体 |
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