JP3002978B2 - プロポキシニトロベンゼン類の製造法 - Google Patents
プロポキシニトロベンゼン類の製造法Info
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Description
中間体として有用な次の一般式(3)
ハロゲン原子を示す)で表わされる2−オキシラニルメ
チルオキシ−3,4−ジハロゲノニトロベンゼンの製造
法に関する。
菌活性と体内動態および高い安全性を有する合成抗菌剤
であり広く使用されている。また、その後の研究により
その光学活性体DR−3355は、ラセミ体であるオフ
ロキサシンよりさらに高い抗菌活性と安全性を有し、抗
菌剤としてより有用な化合物であることが明らかとなっ
た(特開昭57−46986号および特開昭62−25
2790号)。
一般式(3)の化合物の工業的有利な製造法を提供すべ
く鋭意研究を行った結果、本発明を完成した。
わされる。
ハロゲン原子を示す) すなわち、本発明は、一般式(1)の化合物に式(2)
の化合物を反応させて一般式(3)の化合物を製造する
方法である。
スルホニルオキシ基としては、メタンスルホニルオキシ
基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基またはパラ
トルエンスルホニルオキシ基等が挙げられる。
件下に行われる。反応に使用する塩基としては水素化ナ
トリウム、水素化リチウム、ナトリウムアミド、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、1,8−ジアザビシ
クロ〔5,4,0〕−7−ウンデセン(DBU)、トリ
トンB等の有機塩基、tert−ブトキシカリウム、ナ
トリウムエトキサイド、ナトリウムメトキサイド等の金
属アルコキシド類、ブチルリチウム、フェニルリチウム
等のリチウム試薬を挙げることができ、これらは1〜1
0当量程度用いることが好ましい。
ルエン、キシレン、n−ヘキサン等の炭化水素系溶媒、
メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロ
パノール、n−ブタノール等のアルコール系溶媒、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサ
ン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶
媒、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロロホルム等
の塩素系溶媒、その他ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン等を挙げることができる。
で実施することが好ましく、反応時間は約10分間から
数日であり、時に無水条件下で実施することが望ましい
ことがある。また、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウ
ム、クラウンエーテル等を1/100〜当量程度添加す
ると、これらの反応が促進されることがある。
光学活性体を容易に入手することができ〔参考文献
J.Org.Chem.43,4876(1978)、
同52,3710(1986)、Angew.Che
m.Int.Ed.Engl.17,937(197
8)、Synthesis 316(1982)、J.
Org.Chem.46,3348(1981)、Ca
n.J.Chem.57,233(1979)〕、この
光学活性体を用いることにより(3)式で表わされる化
合物の光学活性体を得ることができる。
エポキシプロピルオキシ〕ベンゼン((3):X1=X2
=F) 2,3−ジフルオロ−6−ニトロフェノール((1):
X1=X2=F)700.4mgを無水DMF4mlに溶解
後、K2CO3 304.1mgを加え70℃で30分間攪
拌する。触媒量の18−クラウン−6−エーテル、KI
242.4mgおよび(R)−グリシジルトシレート1
gを加え同温で6時間加熱攪拌する。反応後、酢酸エチ
ルを加え有機層を水洗、乾燥(MgSO4)後、留去し
て得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付
し、ベンゼン流分より油状物質として標記の縮合体50
7mg、収率55%を得た。 NMR(CDCl3)δ: 2.72(1H,d,d,J=2.7 and 4.8Hz,エポキシプロピル基3位
のプロトン) 2.89(1H,d,d,J=4.8 and 4.8Hz,エポキシプロピル基3位
のプロトン) 3.42(1H,巾18Hzの多重線,エポキシプロピル基2位のメ
チレンプロトン) 4.21(1H,d,d,d,J=1.2,6.0 and 7.2Hz,エポキシプロピル
基1位のプロトン) 4.53(1H,d,d,d,J=1.2,3.6 and 4.8Hz,エポキシプロピル
基1位のプロトン) 7.07(1H,d,d,d,J=7.2,9.0 and 9.6Hz,4位核プロトン) 7.74(1H,d,d,d,J=2.4,5.4 and 7.2Hz,5位核プロトン)
中間体として有用な一般式(3)の化合物を高収率で得
ることができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、X1 およびX2 は、各々独立に、ハロゲン原子
を示す)で表わされる化合物に、式(2) 【化2】 で表わされる化合物を反応させることを特徴とする一般
式(3) 【化3】 (式中、X1 およびX2 は、各々独立に、ハロゲン原子
を示す)で表わされる化合物の製造法。 - 【請求項2】 置換スルホニルオキシ基が、メタンスル
ホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ
基またはパラトルエンスルホニルオキシ基である請求項
1記載の製造法。 - 【請求項3】 X1 およびX2 が、各々フッ素原子であ
る請求項1又は請求項2記載の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10205928A JP3002978B2 (ja) | 1998-07-22 | 1998-07-22 | プロポキシニトロベンゼン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10205928A JP3002978B2 (ja) | 1998-07-22 | 1998-07-22 | プロポキシニトロベンゼン類の製造法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1037989A Division JP2857760B2 (ja) | 1989-02-17 | 1989-02-17 | プロポキシニトロベンゼン類の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1180145A JPH1180145A (ja) | 1999-03-26 |
JP3002978B2 true JP3002978B2 (ja) | 2000-01-24 |
Family
ID=16515069
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10205928A Expired - Lifetime JP3002978B2 (ja) | 1998-07-22 | 1998-07-22 | プロポキシニトロベンゼン類の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3002978B2 (ja) |
-
1998
- 1998-07-22 JP JP10205928A patent/JP3002978B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
J.Am.Chem.Soc.,Vol.101,No.13,p.3666−3668(1979) |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH1180145A (ja) | 1999-03-26 |
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