JP3002978B2 - プロポキシニトロベンゼン類の製造法 - Google Patents

プロポキシニトロベンゼン類の製造法

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JP3002978B2
JP3002978B2 JP10205928A JP20592898A JP3002978B2 JP 3002978 B2 JP3002978 B2 JP 3002978B2 JP 10205928 A JP10205928 A JP 10205928A JP 20592898 A JP20592898 A JP 20592898A JP 3002978 B2 JP3002978 B2 JP 3002978B2
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producing
compound
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propoxynitrobenzenes
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敏洋 藤原
勉 江幡
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第一製薬株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、合成抗菌薬の製造
中間体として有用な次の一般式(3)
【0002】
【化4】
【0003】(式中、X1 およびX2 は、各々独立に、
ハロゲン原子を示す)で表わされる2−オキシラニルメ
チルオキシ−3,4−ジハロゲノニトロベンゼンの製造
法に関する。
【0004】
【従来の技術】オフロキサシン(OFLX)は優れた抗
菌活性と体内動態および高い安全性を有する合成抗菌剤
であり広く使用されている。また、その後の研究により
その光学活性体DR−3355は、ラセミ体であるオフ
ロキサシンよりさらに高い抗菌活性と安全性を有し、抗
菌剤としてより有用な化合物であることが明らかとなっ
た(特開昭57−46986号および特開昭62−25
2790号)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は上記
一般式(3)の化合物の工業的有利な製造法を提供すべ
く鋭意研究を行った結果、本発明を完成した。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は次の反応式で表
わされる。
【0007】
【化5】
【0008】(式中、X1 およびX2 は、各々独立に、
ハロゲン原子を示す) すなわち、本発明は、一般式(1)の化合物に式(2)
の化合物を反応させて一般式(3)の化合物を製造する
方法である。
【0009】
【発明の実施の形態】(2)式の化合物において、置換
スルホニルオキシ基としては、メタンスルホニルオキシ
基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基またはパラ
トルエンスルホニルオキシ基等が挙げられる。
【0010】化合物(1)と(2)との反応は塩基性条
件下に行われる。反応に使用する塩基としては水素化ナ
トリウム、水素化リチウム、ナトリウムアミド、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、1,8−ジアザビシ
クロ〔5,4,0〕−7−ウンデセン(DBU)、トリ
トンB等の有機塩基、tert−ブトキシカリウム、ナ
トリウムエトキサイド、ナトリウムメトキサイド等の金
属アルコキシド類、ブチルリチウム、フェニルリチウム
等のリチウム試薬を挙げることができ、これらは1〜1
0当量程度用いることが好ましい。
【0011】反応に使用する溶媒としてはベンゼン、ト
ルエン、キシレン、n−ヘキサン等の炭化水素系溶媒、
メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロ
パノール、n−ブタノール等のアルコール系溶媒、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサ
ン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶
媒、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロロホルム等
の塩素系溶媒、その他ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン等を挙げることができる。
【0012】反応は−78℃から溶媒の沸点の温度範囲
で実施することが好ましく、反応時間は約10分間から
数日であり、時に無水条件下で実施することが望ましい
ことがある。また、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウ
ム、クラウンエーテル等を1/100〜当量程度添加す
ると、これらの反応が促進されることがある。
【0013】原料の(2)式の化合物については、その
光学活性体を容易に入手することができ〔参考文献
J.Org.Chem.43,4876(1978)、
52,3710(1986)、Angew.Che
m.Int.Ed.Engl.17,937(197
8)、Synthesis 316(1982)、J.
Org.Chem.46,3348(1981)、Ca
n.J.Chem.57,233(1979)〕、この
光学活性体を用いることにより(3)式で表わされる化
合物の光学活性体を得ることができる。
【0014】
【実施例】次に実施例を挙げて説明する。
【0015】実施例12,3−ジフルオロ−6−ニトロ−〔(R)−2,3−
エポキシプロピルオキシ〕ベンゼン((3):X1=X2
=F) 2,3−ジフルオロ−6−ニトロフェノール((1):
1=X2=F)700.4mgを無水DMF4mlに溶解
後、K2CO3 304.1mgを加え70℃で30分間攪
拌する。触媒量の18−クラウン−6−エーテル、KI
242.4mgおよび(R)−グリシジルトシレート1
gを加え同温で6時間加熱攪拌する。反応後、酢酸エチ
ルを加え有機層を水洗、乾燥(MgSO4)後、留去し
て得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付
し、ベンゼン流分より油状物質として標記の縮合体50
7mg、収率55%を得た。 NMR(CDCl3)δ: 2.72(1H,d,d,J=2.7 and 4.8Hz,エポキシプロピル基3位
のプロトン) 2.89(1H,d,d,J=4.8 and 4.8Hz,エポキシプロピル基3位
のプロトン) 3.42(1H,巾18Hzの多重線,エポキシプロピル基2位のメ
チレンプロトン) 4.21(1H,d,d,d,J=1.2,6.0 and 7.2Hz,エポキシプロピル
基1位のプロトン) 4.53(1H,d,d,d,J=1.2,3.6 and 4.8Hz,エポキシプロピル
基1位のプロトン) 7.07(1H,d,d,d,J=7.2,9.0 and 9.6Hz,4位核プロトン) 7.74(1H,d,d,d,J=2.4,5.4 and 7.2Hz,5位核プロトン)
【0016】
【発明の効果】本発明方法によれば、合成抗菌薬の製造
中間体として有用な一般式(3)の化合物を高収率で得
ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−218648(JP,A) 特開 昭62−252790(JP,A) 特開 昭57−46986(JP,A) J.Am.Chem.Soc.,Vo l.101,No.13,p.3666−3668 (1979) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 303/22 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、X1 およびX2 は、各々独立に、ハロゲン原子
    を示す)で表わされる化合物に、式(2) 【化2】 で表わされる化合物を反応させることを特徴とする一般
    式(3) 【化3】 (式中、X1 およびX2 は、各々独立に、ハロゲン原子
    を示す)で表わされる化合物の製造法。
  2. 【請求項2】 置換スルホニルオキシ基が、メタンスル
    ホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ
    基またはパラトルエンスルホニルオキシ基である請求項
    1記載の製造法。
  3. 【請求項3】 X1 およびX2 が、各々フッ素原子であ
    る請求項1又は請求項2記載の製造法。
JP10205928A 1998-07-22 1998-07-22 プロポキシニトロベンゼン類の製造法 Expired - Lifetime JP3002978B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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J.Am.Chem.Soc.,Vol.101,No.13,p.3666−3668(1979)

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