JPS62143051A - 感光材料の現像処理方法及びその装置 - Google Patents

感光材料の現像処理方法及びその装置

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JPS62143051A
JPS62143051A JP28408485A JP28408485A JPS62143051A JP S62143051 A JPS62143051 A JP S62143051A JP 28408485 A JP28408485 A JP 28408485A JP 28408485 A JP28408485 A JP 28408485A JP S62143051 A JPS62143051 A JP S62143051A
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JP
Japan
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temperature
circuit
output
control
photosensitive material
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JP28408485A
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Inventor
Shinichi Taniguchi
進一 谷口
Akira Akashi
明石 明
Toru Watanabe
徹 渡辺
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (+;i′業トの利用分野) この発明は、感光材料を温度制御しなから処理する感光
材料の現像処理方法及びその装置に関するものである。
(発明の背に1) 感光材料を処理液槽に貯溜した処理液内を搬送し、或い
は感光材料に処理液を噴射して搬送しなから現像し、ざ
らには乾燥部て搬送しながら乾燥して処理するものがあ
る。
このように、感光材料を自動的に現像処理する場合に、
処理液の温度及び乾!i:温度は最適な現像処理が行な
われるように制御されている。
(発明が解決しようとする問題点) ところて2例えば、処理液の温度は設定温度に維持する
ように7fa度調節が行なわれるが、設定温度付近にお
ける温度調節時に、ヒータの駆動信号を切っても余熱で
処理液の7Aa度がトがることかある。このため、設定
/ニジ度からの余熱による11一度り讐を少なくするた
めに、出力の小さいヒータを使用する必要がある。
ところで、出力の小さいヒータを使用して、ヒータのオ
シ時の設定温度からの余熱による温度1、B、7を小さ
くすると、ヒータの出力か小さいため、現像処理装置の
林動開始n:Hから設定1品度まての処理液の温度を1
−げるのにうくの時間を片する。
このため、ヒータをm数本使用し、NrLがりの設定温
度に到達1−るまでは複数を並列に駆動し、設定温度に
達してからはヒータの本数を減少するもの、また複数本
を並列から直列にして余熱による温度hBを抑え、オ1
7度よく温度のil制御をしようとしている。
しかし、この場合にはヒータを複数本使用しているので
、少なくとも2測具Eのヒータのオンオフ接点が必要と
なり、構造が複雑である。
この発明はかかる実情に鑑みなされたもので、余熱によ
る温度変化を少なくし、精度よく温度制御でき、かつ設
定温度到達までの時間が短縮される感光材料の現像処理
方法及びその装置を提供することを目的としている。
(問題点を解決するためのL段) この発明はOf記の問題点を解決するために、第1発明
は感光材料を温度制御しながら処理する感光材料の現像
処理方法において、温度調節1段を駆動する駆動(3号
を温度変化に応じて変化させることを特徴とし、第2発
明は感光材料を温度制御しながら処理1−る感光材料の
現像処理装置において、温度:A節を行なう71一度調
節手段と、この温度調節r段の駆動イ、−号を温度変化
に応じてル制御する;tl制御制御上段備えたことを特
徴としている。
(作用) この発明では、制御1段で温度に応じた駆動13号を出
力して、温度調節手段を作動させる。これにより、温度
調節1段が温度変化に応じて作動するため、短時間に設
定の温度にすることができるとともに、精度のよい温度
お制御が行なわれ、余熱による温度変化の影響を防Iト
することができる。
(実施例) 以ド、この発明を通用した自動現像装置の一実施例を添
付図面に基づいて詳細に説明する。
図において符号1は外光を遅閉する自動現像装置の装置
本体で、この装置本体1の一側には供給台2が備えられ
ている。画像を露光した例えばロール巻またはシート状
のフィルム等の感光材料3はこの供給台2から装置本体
!内に供給される。装置本体1の他側には1111集ラ
ツク4が設けられ、現像処理された感光材料3がこの捕
集ラック4から構成される 装置本体1の供給台2側には感光材料取入口5、/、+
;;lけられ、一方捕災ラツク4側には感光材料取出口
6が設けられている。この感光材料取入口5と感光材料
取出口6との間、即ち、装置本体!内部には図示しない
駆動手段である搬送モータ7により等速で駆動される多
数の搬送ローラ8が配設され、これにより蛇行した搬送
路9か形成されている。
この搬送路9に沿って順次隣合わせて現像液槽lO1定
着液槽11、水洗液槽12及び乾燥部13か配設され、
これらの処理液槽には所定:I;の処理液が貯溜され、
それぞれ所定の温度に維持されている。なお、カラー感
光材料3を処理する場合には、漂白定着か行なわれる。
この現像液槽lOには第2図に示すように、1:;MS
にオーバフローバイブ14が設けられ、オーバーフロー
した処理液をJJI液タンク15に排出1−るよ)にな
っている。さらに、現像液槽ioのノ戊部にはI非7夜
パイフ゛16か1没けられ、バルブ17の作動で処理液
を排液タンク15に排出する。
この現像液槽10の底部と北部とは循環パイプ18て連
通され、処理液が底部からF部へ循環するようになっC
いる。循環パイプ18にはフィルタ19、駆動[・段で
ある攪拌ポンプ20、温度調j市r段であるヒーター2
1が備えられ、処理液は攪拌ポンプ20の駆動で循環パ
イプ18を介して循環し攪拌される。
ヒーター21は現像液N110に配置された温度センサ
22で得られる温度情報から制御手段23で駆動され、
処理液の温度を制御している。
;トリ御丁段23は第3図に示すように構成され、温度
センサ22の出力が温度調整回路24へ人力され、l、
v度調整回路24の出力はインバータ25を介してOR
回路26と、AND回路27へ人力される。このOR回
路26にはAND回路28の出JJか入力され、このA
ND回路28には抵抗29、コンテンツ30を介して電
源7.ij:圧が旬えられているとともに、1jII′
記01ζ回路26の出力が人力される。このOR回路2
6の出力はrンハータ31を介してOR回路32へ人力
されるとともに、AND回路33へ人力される。このA
ND回路33にはパルス発生回路34からのパルス信号
か人力され、このAND回路33の出力は11「記AN
D回路27へ人力される。このAND回路27の出力は
酵記OR回路32に人力され、OR回路32の出力は制
御トランジスタ35のベースへ抵抗36を介して入力さ
れるようになっている。
制御トランジスタ35のエミッタはアースされ、コレク
タは判導体のリレー回路37を介して電源と接続されて
いる。
を導体のリレー回路37は交流電源38と温度調節f段
であるヒーター39の駆動回路を開閉するようになって
いる。
次に、この実施例の作動を第4図の動作タイムチャート
に基づいて説明する。
自動現像装置の運転スイッチを投入すると、温度調整回
路24の出力は温度センサ22の検出温度が設定温度よ
り低いときに、ハイレベル信号を出力する(第4図A)
。この温度調整回路24のハイレヘルfli号はAND
回路27と、インバータ25を介してOR回路26へ人
力される。
このとさ、OR回路26にはAND回路28からハrレ
ヘルイ、;号か人力されていないので、ローレヘルイ、
1号か出力される(第4図B)。
このため、AND回路33にはパルス発生回路34から
パルス信号が人力されているが(第4図C)、AND回
路33.27はローレベル信号を出力しく第4図D)、
このローレベル信号かOR回路32へ人力される。
ところて、このOR回路32にはインバータ31を介し
てハイレベルG? ”tが人力されているため、ハイレ
ベル信号を出力しく第4図E ) 、 il制御トラン
ジスタ35を4通する。このため、′ト導体のリレー回
路37が作動してヒーター39に交流電圧が印加され、
処理液の温度を1:昇させる。
そして、処理液が設定温度に到達すると、温度調整回路
24がローレベル13号を出力し、これによりOR回路
26の出力がハイレベル信号となるが、AND回路27
の出力はローレベル信号であり、またインバータ31の
出力もローレヘルイ=号であるため、OR回路32の出
力はローレベル信号である。
このため、制御トランジスタ35は非導通となり、リレ
ー回路37が遮断されヒーター39は駆動しないから温
度のト昇が抑えられる。
次に、処理液の温度が低ドすると、温度調整回路24の
出力がハイレベル信号になるが、OR回路26はAND
回路28を介してハイレベル(iE号に保持されている
ため、AND回路33はパルス発)[1回路34の出力
に応じて作動し、AND回路27及びOR回路32を作
動させる。このため、制御トランジスタ35を導通と非
導通のスイッチング動作を所定のパルス幅で行ない、ヒ
ーター39を駆動させて温度を設定値に維持する。
以後、同様に温度調整回路24の出力とパルス発生回路
34の出力とに応じて、制御トランジスタ35を作動さ
せて、ヒーター39を駆動して処理1夜の温度−j御を
行なう。
このため、ヒーター39の出力は第5図Aの余熱による
温度1−シ11か政所され、また第5図Bの温度1シ1
時間が改?qされ、第5図Cに示すように。
(7シ度トr+、時間か短縮され、しかも温度が設定値
に到達した後も、出力を落さずに温度のM制御が粒度よ
く行なわれる。
なお、この実h’6例の回路はマイクロコンピュータを
用いて構成することも可能である。
そして、パルス発生回路34はC独に備えられているた
め、パルス1.1号のデユーティ比を任意に変化するこ
とができ、これにより処理液の温度か設定値に到達した
後のヒーター39の出力を自由に調整することができる
従って、被温度制御体の容積、比熱、スター!・からの
設定111度までの時間、711一度をM制御する精度
の幅の大きさ等の温度:lil+御系に応用り口if能
である。
また、この実施例では没定l晶度に到達するまでは、ヒ
ーター39を100%1i動じ、その後に出力を落して
、パルス発生回路34のチューディ比を固定しであるが
、ヒーター39は100%稼動に限定されず、都合によ
り+’l IIIに選定される。そして、制御を精度よ
く行なうために、パルス幅変調回路を備えてデユーティ
比を変化させたり、また、温度設定値に到達する以mf
から出力を落として設定温度に近ずくにつれて、出力を
さらに落していく等、出力を小刻みに変化させることも
可能である。
さらに、前記実施例は現像処理液の温度調節について説
明したが、定着液の温度調節には勿論のこと、感光材料
の乾燥部13の風の温度、また装置本体1内の気体の温
度制御にも適用できる。
さらに、ヒーター39等の加熱F段に限らず、コンプレ
ッサ等の冷却F段にも適用てきる。
(発明の効果) この発明は11t1記のように、制御手段で温度に応し
た駆動信号を出力して、温度調節1段を温度変化に応じ
て作動させるようになしたから、短時間に設定の温度に
することができるとともに、精度のよい温度ル制御か行
なわれ、余熱による温度変化の景三響を1υJ+Lする
ことかできる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明を適用した自動現像装置の断1r+i
 Iツ1、第2図は温度;ta制御装置の概略図、第3
図はこの発明の要部を爪ずブロック図、第4図はこの発
明の0動タイムチヤート、第5図A、B、Cはヒーター
の出力特性を示す図である。 lO・・・現像液槽 13・・・乾燥部 18−・・循環バイブ 20・・・攪拌ポンプ 21−・・ヒーター 22・・・温度センサ 23・・・;レノ御r段 特 許 出 願 人  小西六写rCf’X株式会社代
理人ブ11理[:  鶴 若 俊 雄第2図 E 第4図 緘 第5図 (−続 Jon   iF   課 ■1相61手8月20f=1 1 “11件の衣ツバ 昭和60年特評断l第284084珍 2 発明の名称  感丸材料の現像処理方法及びその装
置3 4IIi iEをする各 ゛1シ件との関係 特許出即人 住所 東京都新Vrメ西新宿」1目26番2号氏名 (
127)小西六写呉王業株式会7t4 代理人〒151 iF所 東京都渋谷区代々木21目23番1号6  J
+li 1f−のヌ(象   明Mi11課の発明の詳
細な説明の#Il及び図面(1)明細書第5負第tat
i乃全第19打の「オーバーフロー」を1〜オーバフロ
ー」と訂正する。 (2)1司i臀第9貞第141丁の1催制御トランジス
タ35を」を1−制両トランシスタの」と訂正する。 (3)同書第10@第11行の1変化する」を[変化さ
せる」と訂正する。 (4)1閣面中第2図を別紙のとおり訂正する。 以  上

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)感光材料を温度制御しながら処理する感光材料の
    現像処理方法において、温度調節手段を駆動する駆動信
    号を温度変化に応じて変化させることを特徴とする感光
    材料の現像処理方法。
  2. (2)感光材料を温度制御しながら処理する感光材料の
    現像処理装置において、温度調節を行なう温度調節手段
    と、この温度調節手段の駆動信号を温度変化に応じて制
    御する制御手段とを備えたことを特徴とする感光材料の
    現像処理装置。
JP28408485A 1985-12-17 1985-12-17 感光材料の現像処理方法及びその装置 Pending JPS62143051A (ja)

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JP (1) JPS62143051A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH049055A (ja) * 1990-04-26 1992-01-13 Fuji Photo Film Co Ltd 感光材料処理装置及びその装置の加水方法
JPH0414042A (ja) * 1990-05-08 1992-01-20 Fuji Photo Film Co Ltd 感光材料処理装置及びその装置の加水方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH049055A (ja) * 1990-04-26 1992-01-13 Fuji Photo Film Co Ltd 感光材料処理装置及びその装置の加水方法
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