JPS62140817A - 光デイスク基板用ポリカ−ボネ−トシ−トの製法 - Google Patents

光デイスク基板用ポリカ−ボネ−トシ−トの製法

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JPS62140817A
JPS62140817A JP60281202A JP28120285A JPS62140817A JP S62140817 A JPS62140817 A JP S62140817A JP 60281202 A JP60281202 A JP 60281202A JP 28120285 A JP28120285 A JP 28120285A JP S62140817 A JPS62140817 A JP S62140817A
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JP
Japan
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sheet
less
mirror
pressure
surface roughness
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JP60281202A
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Goro Shimaoka
島岡 悟郎
Katsumi Yoshida
勝美 吉田
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学用途、特に光ディスク基板用のポリカー
ボネート(以下、PCと略記する)シートの製法に関し
するものである。
〔従来の技術およびその問題点〕
PCは、透明性、耐熱性、耐衝撃性に優れ、優れた加工
性を有することから、光学分野に広く使用されている。
最近は、オーディオ用のコンパクトディスク等に使用さ
れ、更に、光磁気ディスク基板用としての実用化の検討
、試作などもなされている。これら光ディスク用PC基
板は、主に射出成形法によって製造されており、この射
出成形法は量産性に優れているが、光学歪みが残りやす
い欠点がある。
光ディスク用基板としては、複屈折の低いことが重要な
条件となり、コンパクトディスクでは複屈折が通常50
nm以下、光磁気ディスクでは20nm以下(いずれも
シングルパス)にすることが必要とされている。
通常の射出成形用に使用されている分子量が22、00
0〜25.000程度のPC材料を用い射出成形により
PC基板を成形した場合には、流動性が低く、複屈折が
150nm以上と高く実用化は側底不可能であるので、
分子量が通常15.000程度の低分子機高流動性PC
を材料として、高温成形することにより製造される。
ところが、上記方法では、複屈折は低減されるが、反面
PCの特徴である耐衝撃性の大幅に低下したものなるこ
と、光ディスク基板の直径が200mm以上のものの場
合には、中心部と周辺部で複屈折に差が生じ易く、30
0鵬の基板では射出成形が難しいこと、更に光ディスク
基板は、A1蒸着膜その他の記録部部分の保護膜や表面
保護膜を通常塗装法で形成するが、低分子量PCでは、
洗浄工程や塗装工程、特に塗料中の溶剤により、クラッ
クや亀裂が生成し易いという欠点があった。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の如き射出成形法によるPC光ディスク基板の持つ
欠点を解決する方法として、本発明者は、PCシートを
使用する方法について鋭意検討した結果、本発明を完成
した。
即ち、本発明は、分子量が25.000〜35.000
の範囲のポリカーボネート樹脂をTダイ押出機によりシ
ート状に押出し、表面粗さ0.1−以下の鏡面ロールに
て鏡面を転写しながら冷却し、所定の厚みのポリカーボ
ネートシートを成形しく以下工程■という)、該ポリカ
ーボネートシートを表面粗さ0.1p以下の鏡面仕上げ
を施した鏡面板間に挟み、温度160〜180℃、圧力
0.1〜30kg / cdで熱処理する(以下工程■
という)ことを特徴とする複屈折が20 nm以下の光
ディスク基板用ポリカーボネートシートの製法である。
まず、本発明に用いる原料PCシートは、通常の押出成
形用に使用しているポリカーボネート樹脂で良く、特に
限定されないが、当然、用途との関係からゴミの極めて
少ないものを使用し、環境からのゴミの混入を極力抑え
るためにクリート度の高い雰囲気で、前記の方法(工程
■)で製造したものである。この方法で製造したPCシ
ート中の有害なゴミの量は射出成形法と比較した場合同
等以上の高品質であり、複屈折は通常10〜200nm
の範囲でバラライでおり、また押出方向に延伸されたも
のである。
次いで、このシートを用い、前記と同様に環境からのゴ
ミの付着を極力抑えた前記工程■の如く熱処理すること
により、シート全面の複屈折が20nm以下に低減させ
る。ここに、加熱温度が160℃未満では複屈折の低減
効果が少なく、180℃を超えると、鏡面板とPCシー
トとが密着し、取り出しが困難となるばかりか、PCの
軟化が大きくシートの厚み精度が悪(なるので好ましく
ない。また圧力が001kg / cat未満では、押
出時の延伸歪が熱処理時に除去される過程で収縮が生じ
てシートが変形し、逆に30kg/C[I!を超えると
シート厚みが変化するので好ましくない。
本発明による熱処理工程■は、シートの押出工程■に引
き続いて連続処理してする方法でも良く、また押出シー
トを所定の寸法に切断した後、−役乃至多投のプレスに
仕込み行ってもよい。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明の詳細な説明する。
実施例1及び比較例1〜3 粘度平均分子量28.000のPCを280℃にてTダ
イ式押出機により1.100mm巾のシート状に押出し
、鏡面ロールにて鏡面を転写しつつ冷却して厚み1.2
m+nのPCシートを連続的に生産した。
このシートを400mm X 400 mmに切断した
次いで、この切断シートを表面粗さ0.09虜のクロム
メッキ仕上げしたステンレス製鏡面板の間に挟み、熱処
理を行った。熱処理条件と得られた処理PC切断シート
の複屈折を第1表に示した。
また、このシートに擦り偏性改良の為にシリコン系のハ
ードコート塗料を塗布した場合のクラックや亀裂の発生
の有無、及び1 kgの重りを1mの高さから落下させ
る衝撃試験を実施した。この結果も第1表に併記した。
参考例1 粘度平均分子ffi 15.000のPCを使用してな
る直径120mmの射出成形による光ディスク基板につ
いての物性値を第1表に併記した。
第1表 〔発明の作用および効果〕 以上、実施例、比較例及び参考例から明白な如く、本発
明のPC製光ディスク基板は、■押出法によるシートを
作成する為に高分子量(25、000〜35.000)
 PCを使用できるので、耐衝撃性が優れている。
■塗装時のクラック、亀裂の発生が防止できる。
■押出用のTダイを大きくすれば、1,000mm巾以
上のシートも生産出来、大型の基板を容易に作成できる
■大型の基板を適当な大きさの基板に切り出すことによ
って、効率良く小型の基板もうることが出来る。
の特徴がある。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  分子量が25,000〜35,000の範囲のポリカ
    ーボネート樹脂をTダイ押出機によりシート状に押出し
    、表面粗さ0.1μm以下の鏡面ロールにて鏡面を転写
    しながら冷却し、所定の厚みのポリカーボネートシート
    を成形し、該ポリカーボネートシートを表面粗さ0.1
    μm以下の鏡面仕上げを施したステンレス板間に挟み、
    温度160〜180℃、圧力0.1〜30kg/cm^
    2で熱処理することを特徴とする複屈折が20nm以下
    の光ディスク基板用ポリカーボネートシートの製法。
JP60281202A 1985-12-16 1985-12-16 光デイスク基板用ポリカ−ボネ−トシ−トの製法 Granted JPS62140817A (ja)

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