JPS62132156A - 電子部品中のハロゲン元素の定量分析法 - Google Patents

電子部品中のハロゲン元素の定量分析法

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Publication number
JPS62132156A
JPS62132156A JP60271490A JP27149085A JPS62132156A JP S62132156 A JPS62132156 A JP S62132156A JP 60271490 A JP60271490 A JP 60271490A JP 27149085 A JP27149085 A JP 27149085A JP S62132156 A JPS62132156 A JP S62132156A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
quantitative analysis
electronic components
halogen elements
halogen
ion
Prior art date
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Pending
Application number
JP60271490A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiyuki Matsumoto
松本 敏志
Masayoshi Ezawa
江澤 正義
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Device Engineering Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Device Engineering Co Ltd
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Publication of JPS62132156A publication Critical patent/JPS62132156A/ja
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  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 電子部品のなかにはハロゲンにより極めて汚染され易く
、この汚染により特性に不良が生ずる場合が少なくない
が、本発明はイオンマイクロアナライザによる測定値か
ら、上記ハロゲンによる汚染の程度を迅速かつ高感度で
定量できるようにして、電子部品の品質管理を強化し、
性能向上に寄与するハロゲン元素の定量分析法に関する
〔発明の背景〕
既述のように、電子部品のなか(例えば電子管の基本的
で重要な構成材料であるガラス等)には、ハロゲン例え
ば(1!、 F等に極めて汚染され易く、しかも一旦汚
染されてしまうと、その除去、清浄化が困難で、そのま
ま使用して最終製品としたときになって、はじめて特性
(例えば電子放出特性)不良となってハロゲン汚染が判
明する場合が少な(ない。
従来、その対策、品質管理のために、電子部品材料中の
微量なハロゲン元素量の定量分析には力を注ぎ、化学分
析やX線マイクロアナライザによる分析を行って来た。
しかし、化学分析では材料(の表面近くの汚染部分だけ
でなく)全体のハロゲン量しか定量分析できない。X線
マイクロアナライザならば微少部分の分析も可能である
が、検出感度が低い(0,1%以上)等の問題点があっ
て、ハロゲン汚染対策は十分に進んでいなかった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、電子部品材料である金属(例えばステ
ンレス)やガラスの表面に付着した汚染材料であるハロ
ゲン元素を、迅速かつ高感度で定量分析できる方法を提
供することにある。
〔発明のm要〕
現在、半導体製造工程の一部に広く用いられているイオ
ン注入法は、表面に注入した原子数を正確に把握できる
ことが特徴となっている0本発明は此の点に着目して、
イオン注入法を、定量分析用の標準試料作製に応用する
こととした。
イオン注入法によって作製した複数種類の標準試料を、
あらかじめイオンマイクロアナライザで測定し、検量線
を作成しておく。以後、実試料をイオンマイクロアナラ
イザにより測定し、検量線と比較することにより定量分
析を行うことが出来る。
なお、これまでにイオンマイクロアナライザによるハロ
ゲン元素の定量に関する公表例はない。
〔発明の実施例〕
本発明の一実施例を第1図(a)、(b)により説明す
る。
単結晶シリコン中にCI!、をイオン注入した標準試料
を作製した。試料作製条件は、注入(打込)エネルギ 
:150keV、注入R: 10”、5x t o”、
10′Δ(atOIms−CI+1−2)、コノ試料ラ
イオンマイクロアナライザにより深さ方向分析をm÷行
い、濃度プロファイルを得た。濃度プロファイルの一例
を第1図(a)に示した。本図の横軸に示すスパッタ時
間とは、イオンマイクロアナライザのへイオンでスパッ
タされた時間を示し、結局試料表面がスパッタし去られ
た深さを示す。試料中の注入CZ量は理論的にはガウス
分布となり、第1図に示す実測と近似することによりR
p(Projection Range)のCZ濃度が
求められる。
このような標準試料をイオン濃度を変えて複数個作製し
、イオンマイクロアナライザ測定を行うことにより、検
量線を作成できる。このようにして作成した検量線の一
例を第1図(b)に示す、この図に明らかなように、良
好な直線性が得られたため、この検量線により、500
ppm=1.0%の濃度範囲のClが、イオンマイクロ
アナライザを用いて定量可能となった。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明により、イオンマイクロアナ
ライザを用いることにより、迅速(分析時間:30分/
試料)に、かつ高感度に(約10ppm以上)、電子部
品中のハロゲン元素量を定量分析することが可能になっ
た。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)はClイオンを特定量正確に注入した標準
試料の濃度プロファイルの一例を示す図、第1図(b)
はCZ検量線の一例を示す図である。 第  1  図 (ω) (b)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 清浄な材料に、イオン注入法によりハロゲン元素を夫々
    異なる特定量ずつ正確に注入した複数個の標準試料を作
    成し、これらの試料のなかのハロゲン元素のイオン強度
    と基体材料のイオン強度の比を、イオンマイクロアナラ
    イザにより測定して、其の結果から検量線を作成し、イ
    オンマイクロアナライザによる実試料の測定結果から上
    記検量線を用いて、上記実試料中のハロゲン元素の定量
    分析を行うようにしたことを特徴とする電子部品中のハ
    ロゲン元素の定量分析法。
JP60271490A 1985-12-04 1985-12-04 電子部品中のハロゲン元素の定量分析法 Pending JPS62132156A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0438440A (ja) * 1990-06-02 1992-02-07 Hitachi Ltd 定量分析試料とイオン注入方法およびイオン注入機能付二次イオン質量分析装置
JP2001318064A (ja) * 2000-05-09 2001-11-16 Agere Systems Guardian Corp 元素の定量分析のための校正方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0438440A (ja) * 1990-06-02 1992-02-07 Hitachi Ltd 定量分析試料とイオン注入方法およびイオン注入機能付二次イオン質量分析装置
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