JPS6212910B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明はカラー拡散転写法写真材料に関する。
さらに詳しくは、本発明はカラー拡散転写法写真
材料において形成された色像の光に対する安定性
（以下耐光性という）を高めるための新規な方法
に関するものである。 本発明は(a)疎水性物質と、(b)ポリマーラテツク
ス物質の両者を含む新規組成物並びに該組成物の
製造プロセスに関し、その製造過程で疎水性物質
はラテツクスの不連続相又は分散相を構成する粒
子中に吸収される。本発明は更に、被覆組成物製
造における上記プロセスから生成する上記新規組
成物の使用並びに上記新規組成物で被覆された製
品にも関する。 従来よりカラー拡散転写法写真システムにおい
て、色像の耐光性を改良するのを目的として各種
褪色防止剤を使用する研究が多数なされている。
例えばリサーチ・デイスクロージヤー
（Research Disclosure）誌、第151巻 15162号
（1976年11月発行）の81ページの左欄下から82ペ
ージの左欄上にかけて、種々の褪色防止剤をカラ
ー拡散転写法写真システムの媒染層に添加するこ
とが開示されている。 一方カラー拡散転写法写真材料において、色素
を固定化するための媒染剤の研究についても従来
から数多くなされており、例えば米国特許
2548564号、同3148061号、同3756814号等に開示
されているビニルピリジンポリマー及びビニルピ
リジニウムポリマー；米国特許3709690号等に開
示されている水溶性４級アンモニウム塩ポリマ
ー；米国特許3898088号に記載されている水不溶
性の媒染剤；米国特許3958995号等に開示されて
いる水分散性ラテツクス媒染剤；更に米国特許
4168976号等に開示の染料と共有結合可能な反応
性媒染剤等をあげることができる。これらのうち
特に、媒染層から他の層に移動しにくく、かつ媒
染層の水性塗布が可能な水分散性ラテツクス媒染
剤が好ましい。水性散性ラテツクス媒染剤に関し
ては前記米国特許3958995号のほか、特開昭54−
115228号、同54−145529号、同54−126027号、同
54−155835号、特開昭54−30328号、特開昭56−
17352号等に記載がある。 前記リサーチ・デイスクロージヤー誌15162号
においても水分散性ラテツクス媒染剤について記
載があるものの、これらの水分散性ラテツクス媒
染剤を含む媒染層を水性塗布する際に褪色防止剤
を添加する方法については何ら言及されていな
い。水溶性の褪色防止剤を添加する方法について
は水性塗布液に容易に溶解し添加しうることは推
測されるが、水不溶性ないしは水難溶性の褪色防
止剤を写真要素中に添加する方法としては、以下
の公知の手段に依るものと常識的に判断される。
すなわち たとえば、実質的に水に不溶な高沸点有機溶
媒〔例えば、フタール酸のアルキルエステル
（例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフ
タレートなど）、トリメリト酸エステル（例え
ば、トリ−ｔ−オクチルトリメリテート）、芳
香族エーテル、燐酸エステル（例えば、ジフエ
ニルフオスフエート、トリフエニルフオスフエ
ート、トリクレジルフオスフエート、ジオクチ
ルブチルフオスフエート）、クエン酸エステル
（例えば、アセチルクエン酸トリブチル）、アル
キルアミド（たとえばＮ・Ｎ−ジエチルラウリ
ルアミド）等に溶解し、得られる溶液を親水性
有機コロイド水溶液中に乳化分散する方法（例
えば、米国特許2322027号、等）、 補助溶媒（例えば、メタノール、アセトン、
メチルセロソルブ、等の水溶性溶媒、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等の実質的に水に不溶な溶媒）
をさらに併用する水不溶性高沸点有機溶媒を用
いた乳化分散方法（例えば、米国特許2739888
号、同3351681号、特開昭51−59943号、等参
照）、 化合物自体が常温で油状物である場合はそれ
自体を親水性有機コロイド溶液中に乳化分散す
る方法、 化合物を水に可溶な溶媒（例えば、アセト
ン、メチルセロソルブ、メタノール、エタノー
ル等）に溶解し、親水性有機コロイド塗布液中
に直接分散する方法、 化合物を水混和性有機溶媒に溶解後、この溶
液に水性ローダブルラテツクスを徐々に添加
し、化合物がラテツクス中に含有された分散物
を得る方法（例えば特開昭51−59943号等に記
載されている）および、これに類似のいくつか
の方法（例えば特開昭51−59942号、同54−
110247号、同54−32552号、同54−107941号等
に記載されている）。 などである。 しかし、上記方法〜の方法によると、一般
的に分散物の粒径が0.1μないし２μ程度とな
り、写真要素を処理して水で濡れた状態にある
と、光の散乱による最大濃度の低下の故障となる
だけでなく、分散の際に使用される界面活性剤が
媒染層中に持ち込まれるために、媒染剤の拡散性
アニオン染料に対する媒染力の低下がおこるほ
か、方法では媒染層の塗布厚が厚くなつてし
まう等の欠点がある。また上記方法によつても
分散物の粒径が大きく、最大濃度の低下をおこす
だけでなく、ブツとなつて塗布面状を損う欠点が
ある。さらにまた方法によると、媒染層の塗布
厚が厚くなつてしまうという以外に、ローダブル
ラテツクスは、前述の特許明細書中に記載の如
く、殆んどがカルボキシル基、カルボキシレート
基、スルホ基、スルホネート基あるいはサルフエ
ート基を有しており、しかも乳化重合時にアニオ
ン性界面活性剤を一般的に使用する為にラテツク
ス表面はアニオン性となる場合が多く、カチオン
性の媒染剤ラテツクスと混合すると凝集してしま
う。たとえローダブルラテツクス粒子表面がアニ
オン性でない場合にしても、２種以上のラテツク
スを混合することは非常に不安定であり、凝集物
を生じる傾向にある。 このため最大濃度を低下させることなく褪色防
止剤を媒染層に添加する為の新しい方法の開発が
要求されていた。 一方、疎水性化合物を水性ラテツクスに充填す
ることによつて分散する方法として例えば特開昭
51−59942号、同51−59943号、同54−32552号、
同54−107941号、同54−110247号等に種々の方法
によつて分散可能であることが開示されている。
ところがこれらの充填可能な水性ラテツクスは本
質的に少量の親水性の基、即ち好ましくはカルボ
キシル基、カルボキシレート基、スルホ基、スル
ホネート基およびサルフエート基からなる群から
選ばれたモノマー単位を含有することが特徴であ
る。しかし、この種の充填可能なラテツクスは、
疎水性物質を効果的に分散させるための媒体とし
て作用する以外機能がなかつたのが普通であつ
た。そこで単なる分散のためだけでない機能を有
したポリマーラテツクスに疎水性物質を充填する
ことによつて更に多くの機能を賦与した充填ポリ
マーラテツクス組成物の開発が望まれていた。 従つて本発明の第１の目的は耐光性の改良され
たカラー拡散転写法写真プリントを提供すること
である。 本発明の第２の目的は光褪色防止効果が大き
く、かつ効果の持続性が著しく長い化合物を含有
した媒染層をもつカラー拡散転写法写真要素を提
供することである。 本発明の目的は、第３に、光褪色防止剤を安定
にしかも故障なく媒染層に組み込む為の新規な方
法を提供することである。 本発明の目的は高エネルギーをかけることなく
疎水性物質を充填させることによつて微細に分散
されたポリマーラテツクスを提供することであ
る。 さらに本発明の目的は、疎水性物質を充填した
第４級アンモニウム塩（あるいはホスホニウム）
ポリマーラテツクスおよび該ラテツクスを使用し
た製品を提供することである。 本発明者らは一般式（）で表わされる水性ポ
リマーラテツクスに一般式（）で表わされる疎
水性物質を充填させた充填ポリマーラテツクス組
成物を用いることによつて前記諸目的が達成され
ることを見出した。なお、一般式（）で表わさ
れるポリマーは架橋された第４級アンモニウム塩
（又はホスホニウム塩）ポリマーであり媒染剤と
して用いられる。 式中Ａは少なくとも２個のエチレン性不飽和基
を有する共重合可能なモノマーを共重合したモノ
マー単位を表わす。ＢはＡ及びｚ成分を与えるモ
ノマーと共重合可能なエチレン性不飽和モノマー
を共重合したモノマー単位を表わす。R₁は水素
原子または炭素数１〜約６の低級アルキル基を、
Ｌは１〜約12個の炭素原子を有する二価基を表わ
す。R₂、R₃およびR₄はそれぞれ同一または異種
の１〜約20個の炭素原子を有するアルキル基、も
しくは７〜約20個の炭素原子を有するアラルキル
基を表わし、R₂、R₃及びR₄は相互に連結してＱ
とともに環状構造を形成してもよい。ＱはＮまた
はＰであり、Ｘはアニオンを表わす。ｘは約
0.2ないし約15モル％、ｙは０〜約90モル％、ｚ
は約５ないし約99モル％である。 本発明の好ましい重合体分散物（ラテツクス）
に関して一般式（）に於けるＡのモノマー単位
に相当するエチレン性不飽和基を少くとも２以上
（好ましくは２〜４）有するモノマーには、エス
テル類、アミド類、オレフイレ類、アリール化合
物などがある。 エチレン性不飽和基を少くとも２個有する共重
合可能なモノマーの例はたとえばエチレングリコ
ールジメタクリレート、ジエチレングリコールジ
メタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタ
クリレート、テトラメチレングリコールジメタク
リレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、エチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、ネオペンチル
グリコールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、アリルメタクリレート、アリ
ルアクリレート、ジアリルフタレート、メチレン
ビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルア
ミド、トリビニルシクロヘキサン、ジビニルベン
ゼン、Ｎ・Ｎ−ビス（ビニルベンジル）−Ｎ・Ｎ
−ジメチルアンモニウムクロリド、Ｎ・Ｎ−ジエ
チル−Ｎ−（メタクリロイルオキシエチル）−Ｎ−
（ビニルベンジル）アンモニウムクロリド、Ｎ・
Ｎ・N′・N′−テトラエチル−Ｎ・N′−ビス（ビ
ニルベンジル）−ｐ−キシリレンジアンモニウム
ジクロリド、Ｎ・N′−ビス（ビニルベンジル）−
トリエチレンジアンモニウムジクロリド、Ｎ・
Ｎ・N′・N′−テトラブチル−Ｎ・N′−ビス（ビ
ニルベンジル）−エチレンジアンモニウムジクロ
リドなどがある。これらの中でも、疎水性、耐ア
ルカリ性などの点から、ジビニルベンゼン、トリ
ビニルシクロヘキサンが特に好ましい。Ａは上記
のモノマーを２種以上含んでいてもよい。ＢはＡ
及びｚ成分と共重合可能なエチレン性不飽和モノ
マーを共重合したモノマー単位であり、そのエチ
レン性不飽和モノマーの例としては、たとえばオ
レフイン類（たとえば、エチレン、プロピレン、
１−ブテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソ
ブテン、臭化ビニルなど）、ジエン類（たとえば
ブタジエン、イソプレン、クロロプレンなど）、
脂肪酸又は芳香族カルボン酸のエチレン性不飽和
エステル（たとえば酢酸ビニル、酢酸アリル、ビ
ニルプロピオネート、ビニルブチレート、安息香
酸ビニルなど）、エチレン性不飽和酸のエステル
（たとえば、メチルメタクリレート、ブチルメタ
クリレート、tert−ブチルメタクリレート、シク
ロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレ
ート、フエニルメタクリレート、オクチルメタク
リレート、アミルアクリレート、２−エチルヘキ
シルアクリレート、ベンジルアクリレート、マレ
イン酸ジブチルエステル、フマル酸ジエチルエス
テル、クロトン酸エチル、メチレンマロン酸ジブ
チルエステルなど）、スチレン類（たとえば、ス
チレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、
クロルメチルスチレン、クロルスチレン、ジクロ
ルスチレン、ブロムスチレン、など）、不飽和ニ
トリル（たとえばアクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、シアン化アリル、クロトンニトリルな
ど）がある。この中でも、乳化重合性、疎水性等
の点からスチレン類、メタクリル酸エステル類が
特に好ましい。Ｂは上記モノマーの２種以上を含
んでもよい。 R₁は、水素原子または炭素数１〜約６の低級
アルキル基であるが、重合反応性などの点から水
素原子またはメチル基が好ましい。 Ｌは１〜約12個の水素原子を有する二価基を表
わすが、中でも

【式】

【式】

【式】で表わさ れる二価基が好ましく、耐アルカリ性などの点か
ら

【式】

【式】がより 好ましい。特に乳化重合性、媒染性の点から

【式】が好適である。上式に於いて R₅は、アルキレン（例えばメチレン、エチレ
ン、トリメチレン、テトラメチレンなど）、アリ
ーレン、アラルキレン（例えば

【式】 但し、R₇は０〜約６個の炭素原子を有するアル
キレン）を表わし、R₆は水素原子またはR₂を表
わす。ｎは１または２の整数である。 ＱはＮまたはＰを表わすが、原料の有害性など
の点からＮが好ましい。 Ｘはアニオンを表わし、例えばハロゲンイオ
ン（たとえば塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イ
オンなど）、アルキル硫酸イオン（たとえばメチ
ル硫酸イオン、エチル硫酸イオンなど）、アルキ
ル或いはアリールスルホン酸イオン（たとえばメ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸など）、酢酸
イオン、硫酸イオンなどがある。これらの中でも
塩素イオン、アルキル硫酸イオン、アリールスル
ホン酸イオンが特に好ましい。 R₂、R₃及びR₄はそれぞれ同一または異種の１
〜約20個の炭素原子を有するアルキル基、もしく
は７〜約20個の炭素原子を有するアラルキル基を
表わし、このアルキル基およびアラルキル基には
置換アルキル基および置換アラルキル基が含まれ
る。R₂、R₃及びR₄はまた相互に連結してＱとと
もに環状構造を形成してもよい。 アルキル基としては無置換アルキル基、たとえ
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキ
シル基、２−エチルヘキシル基、ドデシル基な
ど、置換アルキル基たとえばアルコキシアルキル
基（たとえば、メトキシメチル基、メトキシブチ
ル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基、ビ
ニロキシエチル基など）、シアノアルキル基（た
とえば２−シアノエチル基、３−シアノプロピル
基など）、ハロゲン化アルキル基（たとえば、２
−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、パー
フロロプロピル基など）、アルコキシカルボニル
アルキル基（たとえば、エトキシカルボニルメチ
ル基など）アリル基、２−ブテニル基、プロパギ
ル基などがある。 アラルキル基としては、無置換アラルキル基、
たとえば、ベンジル基、フエネチル基、ジフエニ
ルメチル基、ナフチルメチル基など、置換アラル
キル基、たとえばアルキルアラルキル基（たとえ
ば、４−メチルベンジル基、２・５−ジメチルベ
ンジル基、４−イソプロピルベンジル基、４−オ
クチルベンジル基など）、アルコキシアラルキル
基（たとえば、４−メトキシベンジル基、４−ペ
ンタフロロプロペニルオキシベンジル基、４−エ
トキシベンジル基など）、シアノアラルキル基
（たとえば４−シアノベンジル基、４−（４−シア
ノフエニル）ベンジル基など）、ハロゲン化アラ
ルキル基（たとえば、４−クロロベンジル基、３
−クロロベンジル基、４−ブロモベンジル基、４
−（４−クロロフエニル）ベンジル基など）など
がある。 アルキル基の炭素数は１〜12個が好ましく、ア
ラルキル基の炭素数は好ましくは７〜14個であ
る。 R₂、R₃及びR₄が相互に連結してＱとともに環
状構造を形成する例としては

【式】｛W₁はＱとともに脂肪族 複素環を形成するに必要な原子団を表わす）脂肪
族複素環の例としてはたとえば

【式】 （R₈は、水素原子またはR₄を表わす。ｎは２〜12
の整数、

【式】 （ａ＋ｂ＝２〜７の整数）、

【式】 （R₉、R₁₀はそれぞれ水素原子、炭素数１〜６の
低級アルキル基を表わす。）、

【式】など｝及び

【式】 （W₂は無しかまたはベンゼン環を形成するに要す
る原子団を表わす）、

【式】

【式】（R₁₁は水素原子、

【式】

【式】およびR₂を表わ す。） これらの環構造の中でも、

【式】（ｎは４〜６の整数）お よび

【式】が好ましい。 上記の例において、R₂、R₄、R₆、Ｑ及びＸ
は一般式（）におけると同義である。 ｚ成分はもちろん２種以上の混合成分であつて
もよい。 ｘは約0.2ないし約15モル％であるが、好まし
くは1.0〜10モル％であり、ｙは０〜約90モル
％、好ましくは20〜60モル％であり、ｚは約５な
いし約99モル％、好ましくは20ないし80モル％、
特に好ましくは30ないし70モル％である。 一般式（）で表わされる水性ポリマーラテツ
クスは、一般に上記のエチレン性不飽和基を少な
くとも２個有するモノマー、エチレン性不飽和モ
ノマー及び一般式（）で表わされるモノマーを
乳化重合した後、

【式】で表わされる化合 物を反応させて四級化することにより得ることが
できる。 式中Ｌ、Ｘ、R₁は一般式（）で示されたも
のと同じである。一般式（）で表わされるモノ
マーの例としてはたとえばクロルメチルスチレ
ン、ブロムメチルスチレン、ｐ−トルエンスルホ
ニルメチルスチレン、ビニルベンジルクロルアセ
テート、Ｎ−（ｐ−クロルメチルフエニル）アク
リルアミド、メタクリルアミドエチルｐ−トルエ
ンスルホネート、メタクリロイルオキシエチル−
ｐ−トルエンスルホネート、ブロモエチルメタク
リレート、ブロモエチルメタクリルアミドなどが
ある。 また

【式】で表わされる化合物（R₂、 R₃、R₄及びＱは一般式（）のものと同義であ
る。）の例としてはたとえばＮ−メチルアジリジ
ン、Ｎ−メチルアゼチジン、Ｎ−メチルピロリジ
ン、Ｎ−エチルピロリジン、Ｎ−メチルピロリ
ン、Ｎ−ベンジルピロリジン、Ｎ−メチルピペリ
ジン、Ｎ−エチルピペリジン、Ｎ−ベンジルピペ
リジン、Ｎ−ｐ−クロルベンジルピペリジン、Ｎ
−ｐ−イソプロピルベンジルピペリジン、Ｎ−ｐ
−ペンタフロロプロペニルオキシベンジルピペリ
ジン、Ｎ−メチルヘキサメチレンイミン、Ｎ−ベ
ンジルヘキサメチレンイミノ、Ｎ−メチルドデカ
メチレンイミン、Ｎ−ベンジルドデカメチレンイ
ミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、ジメチルプロピルアミン、ジメ
チルベンジルアミン、トリブチルフオスフイン、
トリヘキシルアミン、ジメチル−ｐ−クロロベン
ジルアミン、アザビシクロオクタン、Ｎ−メチル
イミダゾール、Ｎ−メチル−２−メチルイミダゾ
ール、Ｎ−メチルピラゾール、ピリジン、３・５
−ルチジン、メチルピリジンなどがある。 この方法により本発明の一般式（）で表わさ
れる水性ポリマーラテツクスを合成する場合は、

【式】（Ｌ、Ｘ及びR₁は一般式（） と同義）および

【式】で表わされる繰返 し単位を０〜約10モル％、通常０〜約５モル％程
度含有するのが通例である。 また一般式（）で表わされる水性ポリマーラ
テツクスは、上記のエチレン性不飽和基を少なく
とも２個有するモノマー、エチレン性不飽和モノ
マー及び一般式（）で表わされる不飽和モノマ
ーとを乳化重合した後、R₄−Ｘで表わされるア
ルキル化剤、アルケニル化剤またはアラルキル化
剤との反応により四級化することによつて得るこ
ともできる。 R₁、Ｌ、Ｑ、R₂、R₃は一般式（）と同義で
ある。一般式（）で表わされるモノマーの例と
しては、たとえばＮ−ビニルベンジルピロリジ
ン、Ｎ−ビニルベンジルピロリン、Ｎ−ビニルベ
ンジルピペリジン、Ｎ−ビニルベンジルヘキサメ
チレンイミン、Ｎ−ビニルベンジルドデカメチレ
ンイミン、Ｎ・Ｎ−ジメチルアミノプロピルメタ
クリレート、Ｎ・Ｎ−ジエチルアミノエチルメタ
クリレート、Ｎ・Ｎ−ジメチルアミノプロピルメ
タクリルアミド、Ｎ−（N′・N′−ジメチルアミノ
メチルフエニル）アクリルアミド、Ｎ−（N′・
N′−ジヘキシルアミノメチル）メタクリルアミ
ドなどがある。これらの中でもＮ−ビニルベンジ
ルピペリジン、Ｎ−ビニルベンジルヘキサメチレ
ンイミン、Ｎ−（N′・N′−ジメチルアミノメチル
フエニル）アクリルアミドが特に好ましい。 R₄−Ｘで表わされるアルキル化剤、アルケニ
ル化剤またはアラルキル化剤（R₁、Ｘは一般式
（）に於けるものと同義）の例としてはたとえ
ばｐ−トルエンスルホン酸メチル、ジメチル硫
酸、ジエチル硫酸、エチルブロマイド、アリルク
ロライド、ｎ−ブチルブロマイド、エチルクロル
アセテート、ｎ−ヘキシルブロマイド、ベンジル
クロライド、ｐ−クロロベンジルクロライド、ｐ
−メチルベンジルクロライド、ｐ−イソプロピル
ベンジルクロライド、ｐ−ペンタフロロプロペニ
ルオキシベンジルクロライドなどがある。これら
の中でも、ベンジルクロライド、ｐ−クロルベン
ジルクロライド、ｐ−トルエンスルホン酸メチ
ル、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸が好ましい。 更に一般式（）で表わされる水性ポリマーラ
テツクスは上記のエチレン性不飽和基を少なくと
も２個有するモノマー、エチレン性不飽和モノマ
ー及び一般式（）で表わされる不飽和モノマー
とを乳化重合することによつても得ることができ
る。 R₁、R₂、R₃、R₄、Ｌ、Ｑ、Ｘは一般式
（）と同義である。 一般式（）で表わされるモノマーの例として
は、たとえばＮ−ベンジル−Ｎ−ビニルベンジル
ピペリジニウムクロリド、Ｎ−ベンジル−Ｎ−ビ
ニルベンジルパーヒドロアゼピニウムクロリド、
Ｎ−（４−クロロベンジル）−Ｎ−ビニルベンジル
パーヒドロアゼピニウム−ｐ−トルエンスルホナ
ート、Ｎ−メチル−Ｎ−ビニルベンジルドデカメ
チレンイミニウムクロリド、Ｎ−ベンジル−
N′−ビニルベンジルイミダゾリウムクロリド、
１−ヘキシル−２−メチル−３−ビニルベンジル
イミダゾリウムクロリド、１−ブチル−２−フエ
ニル−３−ビニルベンジルイミダゾリウムクロリ
ド、１−オクチル−２−イソプロピル−３−ビニ
ルベンジルイミダゾリウムクロリド、Ｎ−ビニル
ベンジル−ｐ−フエニルピリジニウムクロリド、
Ｎ−ビニルベンジル−ｐ−ベンジルピリジニウム
−ｐ−トルエンスルホネート、Ｎ−ビニルベンジ
ル−ｐ−フエニルプロピルピリジニウムクロリ
ド、Ｎ−ベンジル−N′−ビニルベンジルベンツ
イミダゾリウムクロリト、Ｎ−（N′・N′−ジエチ
ル−N′−（ｐ−イソプロピルベンジル）−アンモニ
オメチルフエニル）アクリルアミドクロリド、Ｎ
−メタクリロイルオキシエチル−Ｎ・Ｎ−ジエチ
ル−Ｎ−ｐ−クロルベンジルアンモニウムクロリ
ド、Ｎ−メタクリルアミドプロピル−Ｎ・Ｎ−ジ
メチル−Ｎ−ｐ−オクチルベンジルアンモニウム
クロリド、Ｎ−ビニルベンジル−Ｎ・Ｎ・Ｎ−ト
リヘキシルアンモニウムクロリド、Ｎ−ビニルベ
ンジル−Ｎ・Ｎ・Ｎ−トリブチルアンモニウム−
ｐ−トルエンスルホネート、Ｎ−ビニルベンジル
−Ｎ・Ｎ−ジブチル−Ｎ−ベンジルアンモニウム
クロリド、Ｎ−ビニルベンジル−Ｎ・Ｎ−ジエチ
ル−Ｎ−ｐ−イソプロピルベンジルアンモニウム
−クロリドなどがある。 本発明で用いる水性ポリマ−ラテツクスの合成
には、特公昭47−29195号、特開昭48−37488号、
同48−76593号、同48−92022号、同49−21134
号、同49−120634号、特開昭53−72622号、英国
特許第1211039号、同961395号、米国特許第
2795564号、同第2914499号、同第3033833号、同
第3547899号、同第3227672号、同第3290417号、
同第3262919号、同第3245932号、同第2681897
号、同第3230275号、カナダ国特許第704778号、
ジヨン、シーペトロプーロスら著「オフイシア
ル、ダイジエスト」（John C.Petropoulos etal：
Official Digest）33、719〜736（1961）、林貞男
著「エマルジヨン入門」（1970）、室井宗一著「高
分子ラテツクスの化学」（1970）、本山卓彦著「ビ
ニルエマルジヨン」（1965）、マイク、シヤイダ
ー、ジユアングら著「ジヤーナル・オブ・サイエ
ンス、ポリマー・ケミストリー・エデイシヨン」
（Mike Shi−der Juang etal；Journal of
Polymer Science、Polymer Chemistry
Edition）14、2089〜2107（1976）などに記載の
方法を参考にして行なうと好都合である。目的に
応じて、重合の開始剤、濃度、重合温度、反応時
間などを幅広く、かつ、容易に変更できることは
いうまでもない。 例えば、重合は、一般に20〜180℃、好ましく
は40〜120℃で行なわれる。重合反応は、通常重
合すべき単量体にたいし0.05〜５重量％のラジカ
ル重合開始剤と必要に応じて0.1〜10重量％の乳
化剤を用いて行なわれる。重合開始剤としては、
アゾビス化合物、パーオキサイド、ハイドロパー
オキサイド、レドツクス触媒など、たとえば過硫
酸カリウム、過硫酸アンモニウム、tert−ブチル
パーオクトエート、ベンゾイルパーオキサイド、
イソプロピルパーカーボネート、２・４−ジクロ
ロベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケト
ンパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイ
ド、ジクミルパーオキサイド、アゾビスイソブチ
ロニトリル、２−2′−アゾビス（２−アミジノプ
ロパン）ハイドロクロライドなどがある。 乳化剤としてはアニオン性、カチオン性、両
性、ノニオン性の界面活性剤の他、水溶性ポリマ
ーなどがある。たとえばラウリン酸ソーダ、ドデ
シル硫酸ナトリウム、１−オクトキシカルボニル
メチル−１−オクトキシカルボニルメタンスルホ
ン酸ナトリウム、ラウリルナフタレンスルホン酸
ナトリウム、ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム、ラウリルリン酸ナトリウム、セチルトリメ
チルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメチ
ルアンモニウムクロライド、Ｎ−２−エチルヘキ
シルピリジニウムクロライド、ポリオキシエチレ
ンノニルフエニルエーテル、ポリオキシエチレン
ソルビタンラウリルエステル、ポリビニルアルコ
ール、特公昭53−6190号に記載の乳化剤、水溶性
ポリマーなどがある。 上記の四級化反応は一般に−10℃ないし約100
℃の温度で行なわれるが、特に20℃〜80℃が好ま
しい。本発明に用いる水性ポリマーラテツクスは
全製造工程が一個の容器内で行なうことが出来、
また水混和性有機溶媒を四級化反応時用いなくて
もよく、従つて有機溶媒を添加した時のラテツク
スの凝集や不安定化を引起こすことなく安定に、
しかも容易に製造できる特徴を有する。 次に本発明に用いる水性ポリマーラテツクスの
例を示す。 合成例 １ （例示重合体−11の合成） 撹拌装置、温度計、窒素導入管、還流冷却管、
滴下ロートを備えた５の四ツ口フラスコにオク
チルフエノキシポリエチレングリコール硫酸エス
テルナトリウム塩の30％水溶液150ｇと蒸留水3.6
を注入する。フラスコ内の空気を窒素ガスで置
換しながら昇温し、60℃を維持しながら撹拌す
る。50％濃度のアルカリ洗浄したジビニルベンゼ
ン76ｇと蒸留精製したスチレン250.8ｇ、アルカ
リ洗浄したクロロメチルスチレン423.2ｇを混合
して滴下ロートに入れる（これをＡ液とする）。
Ａ液の1/10をフラスコに注入し乳化する。過硫酸
カリウム４、857ｇ、亜硫酸水素ナトリウム１、
214ｇを100mlの蒸留水に溶解し、フラスコに注入
する。30分後過硫酸カリウム12.61ｇ、亜硫酸水
素ナトリウム３、152ｇを400mlの蒸留水に溶解
（これをＢ液とする）その1/2をフラスコ内に注入
する。ただちに、Ａ液を滴下し始め１時間で終了
する様に調節する。滴下終了後Ｂ液の残りを注入
し60℃を保ちながら更に２時間撹拌して降温す
る。PH計でPHをチエツクしながら1Nの水酸化ナ
トリウム水溶液を加えてPHを７にする。このラテ
ツクスを（Ｌ−１）とする。 （Ｌ−１）のラテツクス209mlを0.5の撹拌装
置、温度計を装着した三ツ口フラスコに入れ、蒸
留水200mlを加える。Ｎ−メチルピペリジン7.34
ｇを加えて室温で20分撹拌した後60℃に昇温して
２時間撹拌する。室温まで降温し、Ｎ−ベンジル
ピペリジン5.56ｇを加えて30分撹拌する。70℃に
昇温し２時間撹拌して降温し、反応を終了する。 合成例 ２ （例示重合体−12の合成） 合成例１と同様にして（Ｌ−１）ラテツクス
104mlにＮ−メチルピペリジン1.93ml及びＮ−ベ
ンジルピペリジン6.93mlを加えた他は全く同じ方
法で合成した。 合成例 ３ （例示重合体−３の合成） 合成例１と同様の２の四ツ口フラスコに、オ
クチルフエノキシポリエチレングリコール硫酸エ
ステルナトリウム塩の30％水溶液20ｇと蒸留水
780mlを加える。窒素ガスを導入してフラスコ内
の空気を置換しながら60℃に昇温、維持する。ス
チレン0.5ｇを入れて乳化し、過硫酸カリウム
0.04ｇ、亜硫酸水素ナトリウム0.015ｇ、1Nの炭
酸水素ナトリウム0.44mlを５mlの蒸留水に溶解し
て加える。１時間20分後、過硫酸カリウム2.59
ｇ、亜硫酸水素ナトリウム0.998ｇを蒸留水100ml
に溶解した液（これをＣ液とする）の2/5と1Nの
炭酸水素ナトリウム11.5mlを添加する。ただち
に、アルカリ洗浄した56.6％のジビニルベンゼン
とスチレン35ｇ、アルカリ洗浄したクロロメチル
スチレン56.01ｇの混合液を滴下ロートから滴下
開始する。１時間で滴下を終了し、Ｃ液の残り2/
３と1N炭酸水素ナトリウム20mlを注入する。２時
間後Ｃ液の残りと1Nの炭酸水素ナトリウム5.75
mlを注入し更に１時間60℃で撹拌を続け降温す
る。このラテツクスを（Ｌ−２）とする。 室温でＮ−メチルピペリジ32.76ｇを20分間で
滴下し30分間撹拌後70℃に昇温して更に１時間撹
拌する。温度を室温まで冷却し反応を終了する。 合成例 ４ （例示重合体−２の合成） 撹拌装置、温度計、滴下ロート、窒素導入管、
還流冷却管を装置した１の四ツ口フラスコに３
ｇのノニルフエノキシポリエチレングリコールと
0.5ｇのポリビニルアルコール（重合度500）及び
蒸留水400mlを入れて溶解する。スチレン0.5ｇを
注入して乳化し、窒素ガスを導入してフラスコ内
の空気を置換しながら70℃まで昇温する。２・
2′−アゾビス−２−アミジノプロパン塩酸塩を
0.04ｇ添加する。 １時間後温度を60℃にし２・2′−アゾビス−２
−アミジノプロパン塩酸塩0.82ｇを蒸留水100ml
に溶解した溶液（これをＤ液とする）の1/2を注
入し、ただちに56.6％濃度のジビニルベンゼン
（アルカリ洗浄処理したもの）3.61ｇとスチレン
14.41ｇ及び、Ｎ−ビニルベンジルヘキサメチレ
ンイミン（蒸留精製済bp₁.₉＝126.5〜127.5℃）の
混合液を滴下ロートから滴下し始める。滴下開始
から１時間後Ｄ液の残りの1/2を注入し、更に滴
下終了時Ｄ液の残り全部を注入する。滴下は１時
間半で終了する様に調節する。更に２時間60℃で
撹拌し室温に冷却する。蒸留水210mlを加え、ｐ
−トルエンスルホン酸メチル26.4ｇを15分間で滴
下する。30分後昇温開始し、70℃で２時間反応し
て降温し終了する。この反応液をセルロースチユ
ーブに入れ流水中で一昼夜透析して精製した。 本発明においてポリマーラテツクスに充填され
る疎水性物質は一般式（）によつて表わされ
る。 式中、Ｒ_1A、Ｒ_2A、Ｒ_3A、Ｒ_4AおよびＲ_5Aはそ
れぞれ水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数
１〜約20のアルキル基で例えばメチル基、tert−
ブチル基、シクロヘキシル基、tert−ヘキシル
基、tert−オクチル基等）、アリール基（好まし
くは炭素数６〜約20のアリール基例えばフエニル
基等）、アルケニル基（好ましくは炭素数１〜約
20のアルケニル基で例えばアリル基等）、アラル
キル基（好ましくは炭素数７〜約20のアラルキル
基で例えばベンジル基、フエネチル基等）、アル
コキシ基（好ましくは炭素数１〜約20のアルコキ
シ基で例えばメトキシ基、ブトキシ基等）、アリ
ールオキシ基（好ましくは炭素数６〜約20のアリ
ールオキシ基で例えばフエノキシ基等）、アルケ
ノキシ基（好ましくは炭素数１〜約20のアルケノ
キシ基で例えばアリルオキシ基等）、アラルコキ
シ基（好ましくは炭素数７〜約20のアラルコキシ
基で例えばベンジルオキシ基等）、アルキルチオ
基（好ましくは炭素数１〜約20のアルキルチオ基
で例えばメチルチオ基、オクチルチオ基等）、ア
リールチオ基（好ましくは炭素数６〜約20のアリ
ールチオ基で例えばフエニルチオ基等）、ハロゲ
ン原子（例えばクロル原子、ブロム原子等）、水
酸基、アミノ基、アシルアミノ基（例えばアセチ
ルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、ジアシル
アミノ基（例えばコハク酸イミド基、ヒダントイ
ニル基等）、スルホンアミド基（例えばメタンス
ルホンアミド基等）、アルキルアミノ基（好まし
くは炭素数１〜約20のアルキルアミノ基で例えば
メチルアミノ基、ブチルアミノ基等）、ジアルキ
ルアミノ基（好ましくは炭素数２〜約40のジアル
キルアミノ基で例えばＮ・Ｎ−ジメチルアミノ基
等）、アリールアミノ基（好ましくは炭素数６〜
約20のアリールアミノ基で例えばアニリノ基
等）、窒素原子、酸素原子および酸素原子を少な
くとも一つ含有する５〜６員環のヘテロ環アミノ
基（例えば４・６−ビスオクチルチオ−１・３・
５−トリアジン−２−イルアミノ基等）、スルホ
基、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６
〜約20のアリールスルホニル基で例えばフエニル
スルホニル基等）、アリールスルフイニル基（好
ましくは炭素数６〜約20のアリールスルフイニル
基で例えばフエニルスルフイニル基等）、アシル
オキシ基（例えばアセチル基等）、アシル基（例
えばアセチル基、ベンゾイル基等）、アルコキシ
カルボニル基（好ましくは炭素数１〜約20のアル
コキシカルボニル基で例えばメトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基等）、

【式】−（CH₂）−_lＲ_8Aおよび

【式】を表わし、これらは互いに同 じでも異なつてもよい。また、Ｒ_1A、Ｒ_2A、Ｒ_3
A、Ｒ_4AおよびＲ_5Aはとなりの置換基と共同して
５〜６員環の炭素環、クロマン環もしくはクマラ
ン環を形成してもよい。ここでＲ_6AおよびＲ_7Aは
水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜約
20のアルキル基で例えばメチル基、tert−ブチル
基、ヘキシル基等）、アリール基（好ましくは炭
素数６〜約20のアリール基で例えばフエニル基
等）およびアラルキル基（好ましくは炭素数７〜
約20のアラルキル基で例えばベンジル基等）を表
わし、Ｒ_6AとＲ_7Aが互いに結合して５〜６員環を
形成してもよい。Ｒ_8Aはアルコキシカルボニル基
（好ましくは炭素数２〜約20のアルコキシカルボ
ニル基で例えばメトキシカルボニル基、ブトキシ
カルボニル基、オクタデシルカルボニル基等）を
表わす。Ｘは単結合、−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−、−Ｏ
−、−CH₂−Ｓ−CH₂−、−CH₂−Ｏ−CH₂−、−
SO₂−、−SO−、

【式】

【式】

【式】

【式】を表わす。 ｌ、ｍおよびｎは１〜３の整数を表わす。Ｒ_9Aは
水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜約
10のアルキル基で例えばメチル基、エチル基、ブ
チル基、ヘキシル基等）およびアリール基（好ま
しくは炭素数６〜約15のアリール基で例えばフエ
ニル基等）を表わし、Ｒ_10AおよびＲ_11Aは水素原
子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜約10のア
ルキル基で例えばメチル基、エチル基、イソプロ
ピル基、ブチル基等）およびアリール基（好まし
くは炭素数６〜約15のアリール基で例えばフエニ
ル基、４−ヒドロキシフエニル基等）を表わし、
互いに結合して５員もしくは６員環を形成しても
よい。Ｒ_12Aは水素原子、アルキル基（好ましく
は炭素数１〜約20のアルキル基で例えばメチル
基、tert−ブチル基、tert−オクチル基等）およ
びアリール基（好ましくは炭素数６〜約20のアリ
ール基で例えばフエニル基等）を表わす。また、
Ｒ_1A〜12Aで記載したアルキル基およびアリール
基はハロゲン原子、ヒドロキシル基、スルホ基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（好ま
しくは炭素数２〜約19のアルコキシカルボニル
基）、アシルオキシ基、アルコキシ基（好ましく
は炭素数１〜約19のアルコキシ基）、アリールオ
キシ基（好ましくは炭素数６〜約19のアリールオ
キシ基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１
〜約19のアルコキシ基、アミド基（例えばアセト
アミド基、オクタデカンアミド基、エタンスルホ
ンアミド基、ベンツアミド基等）、アミノ基、ア
ルキルアミノ基（好ましくは炭素数１〜約19のア
ルキルアミノ基）、ジアルキルアミノ基（好まし
くは炭素数２〜約38のジアルキルアミノ基）で置
換されてもよく、アリール基に関してはさらにア
ルキル基（好ましくは炭素数１〜約14のアルキル
基）、ニトロ基等で置換されてもよい。 一般式（）で示される化合物のうち、次の一
般式（）、（）、（）および（）で示される
化合物が特に有効である。 一般式（）、（）、（）および（）におけ
るＲ_1A、Ｒ_2A、Ｒ_3A、Ｒ_4A、Ｒ_5AおよびＸは一般
式（）と同じ意味を持つ。Ｒ_13Aは水素原子、
アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプ
ロピル基、tert−ブチル基、オクチル基）、アリ
ール基（例えばフエニル基等）、アラルキル基
（例えばベンジル基、フエネチル基等）およびテ
ルペニル基（例えば７・７−ジメチルノルボルニ
ル基等）を表わす。Ｒ_14Aは水素原子、アルキル
基（例えばメチル基、tert−ブチル基、シクロヘ
キシル基、イソアミル基、オクチル基等）、アリ
ール基（例えばフエニル基等）、アラルキル基
（例えばベンジル基等）、アルケニル基（例えばア
リル基等）、アシル基（例えばアセチル基、ピバ
ロイル基、ベンゾイル基等）およびスルホニル基
（例えばメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニ
ル基等）を表わす。 Ａは５員環もしくは６員環を形成するのに必要
な非金属原子群（例えば炭素原子、酸素原子、窒
素原子、硫黄原子および水素原子等で構成され
る。）を表わす。この環はアルキル基（例えばメ
チル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基、オ
クチル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ
基、ブトキシ基、オクチルオキシ基等）、アリー
ル基（例えばフエニル基等）、アリールオキシ基
（例えばフエノキシ基等）、アラルキル基（例えば
ベンジル基、フエネチル基等）、アラルコキシ基
（例えばベンジルオキシ基等）、アルケニル基（例
えばアリル基等）、アルケニルオキシ基（例えば
アリルオキシ基等）、Ｎ−置換アミノ基（例えば
アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、Ｎ−ア
ルキル−Ｎ−アリールアミノ基、ピペラジノ基、
モルホリノ基等）、ヘテロ環基（例えばベンゾチ
アゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、イミダゾリ
ル基、オキサゾリル基等）などで置換されていて
もよく、縮合環を形成する残基によつて置換され
ていてもよい。Ｒ_13A、Ｒ_14AおよびＡの置換基で
記載したアルキル基とアリール基はさらに置換さ
れていてもよく、この置換基としては例えば一般
式（）のＲ_1A〜13Aに関して述べた置換基であ
る。 ここで一般式（）〜（）において、さらに
好ましい化合物を示すと、一般式（）において
はＲ_13Aが水素原子もしくは炭素数１〜20のアル
キル基であるもの、一般式（）においてはＡに
より、クロマン環もしくはクマラン環を形成する
もの、一般式（）においてはＲ_1AおよびＲ_4Aの
いずれか一方が水素原子であるもの、一般式
（）においてはＸが−Ｓ−、−Ｏ−、

【式】

【式】であるも のである。 本発明に用いられる化合物の具体例を示す。 本発明に用いられる疎水性物質は例えば米国特
許2336327号、同2535058号、同2792428号、同
2796445号、同2841619号、同3184457号、同
3285937号、同3432300号、西独特許出願
（OLS）2005301号、同2008376号、同2140309
号、同2146668号、同2165371号およびジヤーナル
オブ ザ ケミカル ソサイエテイーJournal
of the Chemical Society、243頁（1954年）に記
載されているかまたはこれらに記載の製造方法に
準じて合成される。 本発明における充填ポリマーラテツクス組成物
においては、疎水性物質が、架橋された第４級ア
ンモニウム（あるいはホスホニウム）ポリマーラ
テツクスの表面に吸着されているか、内部に吸収
されているものと信ぜられる。本発明において
は、疎水性物質が、架橋ラテツクスに充填されて
いることが特徴であり、充填させるためのプロセ
スとしては、水性ラテツクス中に、水混和性有機
溶媒に溶解させた疎水性物質を添加する方法；特
開昭51−59942号に記載の如く、水性ラテツクス
の第１の流れと、水混和性有機溶媒に溶解させた
疎水性物質溶液の第２の流れを混合する方法；特
開昭51−59943号に記載の如く疎水性物質を溶解
した水混和性有機溶媒中に、水性ラテツクスを添
加する方法；その他特開昭54−32552号、同54−
107941号、同54−110247号などに記載されている
が、これらに限定されるものではない。 本発明に従つて疎水性物質を水性ラテツクスに
充填する場合のラテツクスの濃度は特に規定はな
いが、固形分濃度で30重量％以下、好ましくは15
重量％以下がよい。 本発明において水性ポリマーラテツクスと、そ
れに充填される疎水性物質の比率（充填割合）
は、充填させるためのプロセス、使用する水混和
性有機溶媒の種類と量、充填される疎水性物質の
疎水性、ラテツクスの構造、界面活性剤の種類と
量などによつて異なり一概にはいえないが、ラテ
ツクス固形分の３〜50重量％より好ましくは５〜
25重量％の疎水性物質が充填されうる。 本発明に有用な水混和性有機溶媒の典型的な例
としては、エチルアルコール、メチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、アセトン、メチル
エチルケトン、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチル
ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド及びこれらの混合物をあげられるが、
これらに制限されるものではない。さらに充填プ
ロセス完了後に、これらの有機溶媒は留去あるい
は透析等によつて除去してもよい。 また水混和性有機溶媒と水との混和比率は、充
填する疎水性物質の種類と量、水混和性有機溶媒
の種類、混合方法などにより異なるため一概には
いえないが、疎水性物質が、ポリマーラテツクス
粒子に充填される過程には、ある一つの方法にお
いては水混和性有機溶媒に溶解した疎水性物質が
水性ポリマーラテツクスと混合することによつて
析出すると同時にラテツクス粒子に沈着、さらに
場合によつて吸収されるという過程が含まれると
考えられるため、水混和性有機溶媒の比率が高い
ために、疎水性物質が溶解してしまうという条件
は避けなければならない。 本発明によつて得られる充填ポリマーラテツク
ス組成物はそのまま、紙、布等に含浸させて使用
してもよく、また、必要に応じて、ゼラチン、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、あ
るいは他の親水性ポリマーと混合して紙、布、フ
イルムベース、金属、木等の支持体上に塗布して
使用してもよい。 本組成物は、酸性染料に対する媒染剤として使
用されるのが好ましく、特に色素転写法およびカ
ラー拡散転写法写真要素の受像層用媒染剤として
好ましく使用されるが、この限りではない。 本発明をカラー拡散転写法用写真要素に使用す
る場合について以下述べる。 カラー拡散転写法用写真プリントを得るための
典型的な写真要素の態様として、下記のタイプの
ものを挙げることができる。 透明支持体上に受像層、白色反射層、カーボ
ンブラツクを含む遮光層、シアン色素像供与化
合物を含む層、赤感性ハロゲン化銀乳剤層、中
間層、マゼンタ色素像供与化合物を含む層、緑
感性ハロゲン化銀乳剤層、中間層、イエロー色
素像供与化合物を含む層、青感性ハロゲン化銀
乳剤層、保護層が順次積層されたもの（感光シ
ート）と第２の透明支持体上に中和層、タイミ
ング層が積層されたもの（カバーシート）とが
面対面の関係で重ねられており、しかもこの間
にカーボンブラツクを含む処理液が延展される
ような位置に該処理液を内蔵する、圧力で破壊
可能な容器が配置されていて、これら三者が一
体的に固定されたいわゆる“積層一体型”感光
材料。 本発明の組成物を受像層に使用する以外は、
このようなフイルムユニツトの構成は従来よく
知られており、例えばPhotographic Science
and Engineering（フオトグラフイツク・サイ
エンス・エンド・エンジニアリング）、
vol.20、No.４、pp.155〜164 July／August
1976年に詳しい説明がある。またこれによつて
転写画像が得られる反応機構についても詳しく
説明されている。 透明支持体上に中和層、タイミング層、受像
層が積層されたもの（受像シート）と不透明の
第２の支持体上にシアン色素像供与化合物を含
む層、赤感性ハロゲン化銀乳剤層、中間層、マ
ゼンタ色素像供与化合物を含む層、緑感性ハロ
ゲン化銀乳剤層、中間層、イエロー色素像供与
化合物を含む層、青感性ハロゲン化銀乳剤層、
保護層が順次積層された感光シートとが面対面
の関係で向い合つて重ねられており、しかもこ
の間に複数のPHインジケーター染料と白色反射
層用白色顔料を含む処理液が延展されるような
位置に該処理液を内蔵する、圧力で破壊可能な
容器が配置されていて、これら三者が一体的に
固定されたいわゆる“積層一体型”感光材料。 本発明の組成物を受像層に使用する以外は、
このようなフイルムユニツトの構成は従来よく
知られており、例えばNeblette′s Handbook
of Photography and
ReprographyMaterials、Processes and
Systems（ネブレツツ・ハンドブツク・オブ・
フオトグラフイー・エンド・リプログラフイ
ー・マテリアルズ・プロセスイズ・エンド・シ
ステムズ）、Seventh Ed.（1977年）の第12章
に詳しい説明がある。またこれによつて転写画
像が得られる反応機構についても詳しく説明さ
れている。前記のPHインジケーター染料も例え
ば米国特許3647437号、同3833615号に具体的な
説明がある。 該態様との層構成は適宜変更できる。例え
ば色素像供与化合物とハロゲン化銀とは同一の層
中にあつてもよい。 一方、タイミング層は複数層化してもよい。ま
た感光シートと受像シートとが剥離できるような
ものでもよい。 本発明を用いる写真プリントは、先に述べたよ
うな積層一体型感光材料からつくられたもの、即
ち積層一体型写真プリントである事が好ましい。 カラー拡散転写法写真要素に使用されるハロゲ
ン化銀乳剤は、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭
銀、塩沃臭化銀もしくはこれらの混合物の親水性
コロイド状分散物であつて、ハロゲン組成は感光
材料の使用目的と処理条件に応じて選択される
が、沃化物含量が10mole％以下、塩化物含量が
30mole％以下の純臭化銀、沃臭化銀又は塩沃化
銀が特に好ましい。 本発明に有利に使用される内部潜像型ハロゲン
化銀乳剤としては、米国特許2592250号、同
3206313号、同3447927号、同3761276号、及び同
3935014号等に記載があるコンバーシヨン型乳
剤、コア／シエル型乳剤、異種金属を内蔵させた
乳剤等を挙げることができる。 この型の乳剤の造核剤としては、米国特許
2588982号、同2563785号に記載されたヒドラジン
類；同3227552号に記載されたヒドラジド類とヒ
ドラゾン類、英国特許1283835号、特公昭49−
38164号、米国特許3734738号、同3719494号、同
3615615号に記載された四級塩化合物：米国特許
3718470号に記載された、かぶらせ作用のある
（nucleating）置換基を色素分子中に有する増感
色素；米国特許4030925号、同4031127号に記載さ
れたアシルヒドラジノフエニルチオ尿素系化合物
が代表的なものである。 ハロゲン化銀乳剤は、所望に応じて分光増感色
素によつて拡大された感色性をもち得る。分光増
感色素としては、シアニン色素やメロシアニン色
素等を適宜使用できる。 色素像供与化合物として各種化合物を利用する
ことが出来るが、カプラー及び色素放出レドツク
ス化合物が特に有用である。 色素放出レドツクス化合物のうち、酸化を受け
た化合物がアルカリ加水分解して色素を放出する
ものとしては、下記の文献に記載のものを挙げる
ことができる。 米国特許4053312号、同4055428号、同4076529
号、同4152153号、同4135929号、特開昭53−
149328号、同51−104343号、同53−46730号、同
54−130122号、同53−3819号、特開昭56−12642
号、同56−16130号、同56−16131号、等 このうち、イエロー色素を放出するもの； 米国特許4013633号、特開昭53−149328号、同
51−114930号、特開昭56−71072号、リサーチ・
デイスクロージヤー（Research Disclosure）
17630（’78）、同16475（’77）等 マゼンタ色素を放出するもの： 米国特許3954476号、同3931144号、同3932308
号、特開昭53−23628号、同52−106727号、同54
−65034号、同54−161332号、同55−4028号、同
55−36804号、同54−149777号、同54−146655
号、同54−42848号、西独特許出願（OLS）
2847371号、等 シアン色素を放出するもの： 米国特許3942987号、同3929760号、同4013635
号、特開昭51−109928号、同53−149328号、同52
−8827号、同53−143323号、同53−47823号、特
開昭56−71061号、等 また、酸化を受けなかつた方の化合物が閉環す
るなどして色素を放出するレドツクス化合物とし
ては、下記の文献に記載のものを挙げることがで
きる。 米国特許4139379号、同3980479号、西独特許出
願（OLS）2402900号、同2448811号、等。 本発明の実施には次の一般式で表わされる色素
放出レドツクス化合物が好ましい。 Ｙ−Ｘ ただし上式において、Ｙはレドツクス母核（キ
ヤリアー）を表わし、Ｘは前記Ｙに直接に結合し
ているかまたは介在基Ｌを介して結合している染
料残基または染料前駆体残基を表わす。 Ｌは、炭素数１〜６個有するアルキレン基（ま
たはアルキリデン基）、アリーレン基または複素
環式基の如き介在基を表わし、この介在基Ｌは前
記Ｘと直接に結合しているかまたは−Ｏ−、−Ｓ
−、−SO₂−、−NR₀−（R₀は水素原子またはアル
キル基）、−CO−、−CO−NH−または−SO₂−
NH−を介して結合しているものである。 前記染料残基は原則として、任意の種類の染料
の残基であり得る。ただし、この染料残基は、感
光材料内の写真層を通過して受像層に到達するに
充分な拡散性を有するものでなければならない。
この目的のために、所望によりこの染料残基に１
またはそれ以上の水溶性付与基を結合させること
ができる。適当な水溶性付与基の例には次のもの
があげられる：カルボキシル基、スルホ基、スル
ホンアミド基、スルフアモイル基、脂肪族または
芳香族のヒドロキシル基。 本発明に特に適当な染料の例には次のものがあ
げられる：アゾ染料、アゾメチン染料、アンスラ
キノン染料、フタロシアニン染料、インジゴイド
染料、トリフエニルメタン染料、金属錯体染料、
有色金属錯体。 前記染料前駆体（プレカーサー）残基とは、写
真処理工程中の常用処理段階において、あるいは
追加的処理段階において、酸化による発色系内で
の助色基（助色団）の遊離（すなわち助色団が遊
離して、これが発色団に加わること）により、染
料に変換し得る化合物の残基のことである。この
場合の染料先駆体はロイコ染料であつてもよく、
あるいは、写真処理中に他の染料に変換される染
料であつてもよい。 このレドツクス化合物に有効なＹの例はＮ−置
換スルフアモイル基である。例えば、Ｙとして次
の式(A)で表わされる基を挙げることができる。 式中、βはベンゼン環を形成するに必要な非金
属原子群を表わし、該ベンゼン環に炭素環もしく
はヘテロ環が縮合して例えばナフタレン環、キノ
リン環、５・６・７・８−テトラヒドロナフタレ
ン環、クロマン環等を形成してもよい。更に上記
ベンゼン環又は該ベンゼン環に炭素環もしくはヘ
テロ環が縮合して形成された環には、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキル
アミノ基、アリールアミノ基、アミド基、シアノ
基、アルキルメルカプト基、ケト基、カルボアル
コキシ基、ヘテロ環基等が置換していてもよい。 αは−OG¹又は−NHG²で示される基を表わ
す。ここにG¹は水素原子又は加水分解されて水
酸基を生ずる基を表わし、好ましくは水素原子、

【式】又は

【式】で示される基であ る。ここにG³はアルキル基特にメチル基、エチ
ル基、プロピル基の如き炭素原子数１〜18のアル
キル基、クロルメチル基、トリフルオロメチル基
等の炭素原子数１〜18のハロゲン置換アルキル
基、フエニル基、置換フエニル基を表わす。又、
G²は水素原子、炭素原子数１〜22個のアルキル
基又は加水分解可能な基を表わす。ここに上記
G²の加水分解可能な基として好ましいものは、

【式】−SO₂G⁵又は−SOG⁵で示される基で ある。ここにG⁴は、メチル基の如き炭素原子数
１〜４のアルキル基；モノ、ジ若しくはトリクロ
ロメチル基やトリフルオロメチル基の如きハロゲ
ン置換アルキル基；アセチル基の如きアルキルカ
ルボニル基；アルキルオキシ基；ニトロフエニル
基やシアノフエニル基の如き置換フエニル基；低
級アルキル基若しくはハロゲン原子で置換された
又は未置換のフエニルオキシ基；カルボキシル
基；アルキルオキシカルボニル基；アリールオキ
シカルボニル基；アルキルスルホニルエトキシ基
又はアリールスルホニルエトキシ基を表わす。又
G⁵は置換又は未置換のアルキル基又はアリール
基を表わす。 更にｂは０、１又は２の整数である。但し上記
αには上述の如き−NHG₂のG₂として上述した一
般式(A)で示される化合物を不動性かつ非拡散性に
するアルキル基に該当するものが導入されている
ことがあるが、その場合を除いて、即ちαが−
OG¹で示される基である時及びαが−NHG₂で示
されかつG₂が水素原子、炭素原子数１〜８のア
ルキル基、又は加水分解可能な基であるときには
ｂは１又は２、好ましくは１である。Ballは化合
物を耐拡散性にする基を表わす。 この種のＹの具体例は、特開昭48−33826号、
同53−50736号、同54−54021号及び同54−143230
号に述べられている。この型の化合物に適するＹ
の別の例として、次の式(B)で表わされる基が挙げ
られる。 式中、Ball、α、ｂは式(A)の場合と同義であ
り、β′は炭素環たとえばベンゼン環を形成する
のに必要な原子団を表わし、該ベンゼン環に、更
に炭素環もしくは複素環が縮合してナフタレン
環、キノリン環、５・６・７・８−テトラヒドロ
ナフタレン環、クロマン環等を形成してもよい。
更に上記各種の環にハロゲン原子、アルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、
ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリー
ルアミノ基、アミド基、シアノ基、アルキルメル
カプト基、ケト基、カルボアルコキシ基、ヘテロ
環基等が置換していてもよい。この種のＹの具体
例は、特開昭51−113624号、同53−149328号、同
54−65034号、同54−111344号、同56−16131号、
米国特許4053312号等に記載されている。 又、本発明に使用されるカプラーは、例えば
The Theory of Photographic Process（第４
版、1977年、T.H.James編）第12章に記載され
ている。以下レドツクス化合物を使用する場合を
代表として説明するが、その他の色素像供与化合
物を使用する場合にも適用できる。 色素放出レドツクス化合物の塗布量は、１×
10^-4〜１×10^-2mole／m²、好ましくは、２×10^-4
〜２×10^-3mole／m²である。 本発明に用いられる色素放出レドツクス化合物
は、担体である親水性コロイド中にこの化合物の
型に応じて、種々の方法で分散することが出来
る。例えばスルホ、カルボキシ基のような解離性
基をもつ化合物は水又はアルカリ性水溶液に溶解
してから親水性コロイド溶液に加えて分散でき
る。一方水性媒体に溶け難く、有機溶媒に溶け易
い化合物は、下記の方法で分散できる。 化合物を実質的に水不溶の高沸点溶媒に溶解
した液を親水性コロイド溶液に加えて分散する
方法。この方法に関しては例えば米国特許
2322027号、同2533514号、同2801171号に記載
されている。又必要に応じて低沸点溶媒又は水
に溶解しやすい有機溶媒を用いても良く、これ
ら溶媒は乾燥による揮発、水洗等により除去さ
れる。 化合物を水混和性溶媒に溶解後、親水性コロ
イド溶液に分散する方法。 上記で高沸点溶媒に代えて、又は高沸点溶
媒と併用して親油性ポリマーを用いる方法。こ
の方法に関しては例えば米国特許3619195号、
西独特許（DAS）1957467号に記載されてい
る。 化合物を水混和性溶媒に溶解後、この溶液に
水性ラテツクスを徐々に添加し、化合物がラテ
ツクス粒子中に含有された分散物を得る方法。
この方法に関しては、例えば特開昭51−59943
号に記載されている。 この他、上記で得た親水性コロイド分散中に、
例えば特公昭51−39835号記載の親油性ポリマー
のヒドロゾルを添加しても良い。 色素放出レドツクス化合物の分散は、界面活性
剤を乳化助剤として用いることにより著しく助け
られる。有用な界面活性剤は、例えが前述の特許
明細書中及び特公昭39−4923号、米国特許第
3676141号に記載されている。 本発明中に使用する色素放出レドツクス化合物
を分散するのに使用する親水性コロイドには例え
ばゼラチン、コロイド状アルブミン、カゼイン、
カルボキシメチルセルローズ、ヒドロキシエチル
セルローズ等のセルロース誘導体、寒天、アルギ
ン酸ソーダ、澱粉誘導体などの糖誘導体、合成親
水性コロイド例えばポリビニルアルコール、ポリ
Ｎ−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸共重合
体、ポリアクリルアミド又はこれらの誘導体（例
えば部分加水分解物）等があげられる。必要に応
じて、これらのコロイドの二つ以上の相溶性混合
物を使用する。この中で最も一般的に用いられる
のはゼラチンであるが、ゼラチンは一部または全
部を合成親水性コロイドで置き換えて使用しても
よい。 色素放出レドツクス化合物を用いて、カラー拡
散転写画像を得るためのプロセスについては、
Photographic Science and Engineering誌、vol
20、No.：４、p155〜164、July／August1976に記
載されている。 上記プロセスにおいて、色素放出レドツクス化
合物をクロス酸化できるものである限り、どのよ
うなハロゲン化銀現像薬でも使用することができ
る。このような現像薬は、アルカリ性処理組成物
の中に含ませてもよいし、写真要素の適当な層に
含ませてもよい。本発明において使用しうる現像
薬の例をあげると次の通りである。 特開昭56−16131号に記載のハイドロキノン
類、アミノフエノール類、フエニレンジアミン
類、ピラゾリジノン類〔例えばフエニドン、１−
フエニル−３−ピラゾリジノン、ジメゾン（１−
フエニル−４・４−ジメチル−３−ピラゾリジノ
ン）、１−ｐ−トリル−４−メチル−４−オキジ
メチル−３−ピラゾリジノン、１−（4′−メトキ
シフエニル）−４−メチル−４−オキシメチル−
３−ピラゾリジノン、１−フエニル−４−メチル
−４−オキシメチル−３−ピラゾリジノン〕な
ど。 ここにあげたもののなかで、フエニレンジアミ
ン類などのカラー現像薬よりも一般に受像層のス
テイン形成を軽減する性質を具えている白黒現像
剤（なかでもピラゾリジノン類）が、特に好まし
い。 処理組成物は、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、リン酸ナトリウムのよう
な塩基を含みPH９以上、好ましくは11.5以上のア
ルカリ強度を持つ。処理組成物は亜硫酸ナトリウ
ム、アスコルビン酸塩、ピペリジノヘキソーズレ
ダクトンの如き酸化防止剤を含有し、臭化カリウ
ムのような銀イオン濃度調節剤を含有し得る。又
ヒドロキシエチルセルロース、ナトリウムカルボ
キシメチルセルロースの如き粘度増加化合物を含
有させてもよい。 又アルカリ性処理組成物中には現像促進もしく
は色素の拡散を促進する如き化合物を含ませても
よい（たとえばベンジルアルコールの如き化合
物）。 本発明が適用出来る感光要素は、ハロゲン化銀
乳剤と色素像供与体が組合つている。意図される
色再現に応じてハロゲン化銀乳剤の感色性と色素
像の分光吸収との組合せが適宜に選択される。減
色法による天然色の再現にはある波長範囲に選択
的部光感度をもつ乳剤と同波長範囲に選択的な分
光吸収をもつ色素像を供与する化合物との組合せ
の少くとも二つからなる感光要素が使用される。
特に青感性ハロゲン化銀乳剤と黄色色素放出レド
ツクス化合物との組合せ、緑感性乳剤とマゼンタ
色素放出レドツクス化合物との組合せ並びに赤感
性乳剤とシアン色素放出レドツクス化合物との組
合せからなる感光要素は有用である。これら乳剤
と色素放出レドツクス化合物との組合せ単位は感
光要素中で面対面の関係で層状に重ねて塗布され
てもよいし、或いは各粒子状（色素放出レドツク
ス化合物とハロゲン化銀粒子が同一粒子中に存在
する）に形成されて混合して一層として塗布され
てもよい。 中間層と色素像供与体を含有する層の間に特開
昭55−52056号に記載されるように隔離層を設け
てもよい。又中間層中に特願昭54−144155号に記
載されるようにハロゲン化銀乳剤を加えてもよ
い。 本発明の好ましい実施態様を次に挙げる。 １ 前記一般式（）で表わされるポリマー媒染
剤分散物を含む層を少なくとも１層含有する写
真要素において、該ポリマー媒染剤分散物に、
前記一般式（）で表わされる疎水性物質が充
填されていることを特徴とする写真要素。 ２ 特許請求の範囲においてＺが30ないし70モル
％である特許請求の範囲に記載の充填ポリマー
ラテツクス組成物。 ３ 特許請求の範囲において、Ａがジビニルベン
ゼン又はトリビニルシクロヘキサンである場
合。 ４ 特許請求の範囲において、Ｂがスチレン類又
はメタクリル酸エステル類である場合。 ５ 特許請求の範囲において、ＱがＮである場
合。 ６ 特許請求の範囲において、 Ｌが

【式】である場合。 ７ 特許請求の範囲において、一般式（）で表
わされる化合物が一般式（）で表わされる化
合物である場合。 ８ 特許請求の範囲において、一般式（）で表
わされる化合物が一般式（）で表わされる化
合物である場合。 ９ 特許請求の範囲において、一般式（）で表
わされる化合物が一般式（）で表わされる化
合物である場合。 10 特許請求の範囲において、一般式（）で表
わされる化合物が一般式（）で表わされる化
合物である場合。 11 特許請求の範囲において、水性ポリマーラテ
ツクスのラテツクス固形分の５〜25重量％疎水
性物質が充填された場合。 12 実施態様1.の写真要素がカラー拡散転写法写
真要素である場合。 実施例 １ 固形分濃度10％の例示重合体−３約100ｇを
よく撹拌しながら、例示疎水性物質−18を約１
ｇ含むエタノール溶液20mlを室温にて約30秒間で
添加した。 得られた充填ポリマーラテツクス（ポリマーラ
テツクス／疎水性物質）組成物は長期にわたつて
安定であり、ゼラチンとの相溶性も良好であつ
た。 実施例 ２ 例示疎水性物質−３ 2.6ｇを溶解したエタ
ノール溶液に、固形分濃度13％の例示重合体−
３約100ｇを撹拌しながら約１分間で添加した。 得られたポリマーラテツクス／疎水性物質組成
物は長期にわたつて安定であり、ゼラチンとの相
溶性も良好であつた。 実施例 ３ 固形分濃度13％の例示重合体−19 約100ｇ
をよく撹拌しながら、例示疎水性物質−11を
1.3ｇ溶解したエタノール溶液30mlを室温にて約
30秒間で添加した。 得られたポリマーラテツクス／疎水性物質組成
物は長期にわたつて安定であり、ゼラチンとの相
溶性も良好であつた。 実施例 ４ 固形分濃度５％の例示重合体−20 約200ｇ
をよく撹拌しながら、例示疎水性物質−92ｇを
溶解したエタノール溶液30mlを室温にて約30秒間
で添加した。 得られたポリマーラテツクス／疎水性物質組成
物は長期にわたつて安定であり、ゼラチンとの相
溶性も良好であつた。 実施例 ５ 実施例１に記載した方法により、第１表に示し
た疎水性物質を充填したのち、ゼラチンと混合
し、ポリエチレンテレフタレート透明支持体上
に、次の如く各層を塗布して感光シートを作つ
た。 (1) 例示重合体−３を３ｇ／m²、第１表に示し
た充填された疎水性物質を0.3ｇ／m²、ゼラチ
ン３ｇ／m²および塗布助剤として を含む受像層。 (2) 二酸化チタン20ｇ／m²、ゼラチン2.0ｇ／m²
を含有する白色反射層。 (3) カーボンブラツク2.0ｇ／m²とゼラチン1.5
ｇ／m²を含有する遮光層。 (4) 下記のシアン色素放出レドツクス化合物0.44
ｇ／m²、トリシクロヘキシルホスフエート0.09
ｇ／m²、２・５−ジ−ｔ−ペンタデシルハイド
ロキノン0.008ｇ／m²、およびゼラチン0.8ｇ／
m²を含有する層。 (5) 赤感性内潜型直接ポジ臭化銀乳剤（銀の量で
1.03ｇ／m²）、ゼラチン1.2ｇ／m²、下記の造核
剤0.04mg／m²および２−スルホ−５−ｎ−ペン
タデシルハイドロキノン・ナトリウム塩0.13
ｇ／m²を含有する赤感性乳剤層。 (6) ２・５−ジ−ｔ−ペンタデシルハイドロキノ
ン0.43ｇ／m²、トリヘキシルホスフエート0.1
ｇ／m²およびゼラチン0.4ｇ／m²を含有する
層。 (7) 下記構造式のマゼンタ色素放出レドツクス
化合物（0.21ｇ／m²）、構造式のマゼンタ色
素放出レドツクス化合物（0.11ｇ／m²）、トリ
シクロヘキシルホスフエート（0.08ｇ／m²）、
２・５−ジ−ｔ−ペンタデシルハイドロキノン
（0.009ｇ／m²）及びゼラチン（0.9ｇ／m²）を
含有する層。 構造式 構造式 (8) 緑感性内潜型直接ポジ臭化銀乳剤（銀の量で
0.82ｇ／m²）、ゼラチン（0.9ｇ／m²）、層(5)と
同じ造核剤（0.03mg／m²）および２−スルホ−
５−ｎ−ペンタデシルハイドロキノン・ナトリ
ウム塩（0.08ｇ／m²）を含有する緑感性乳剤
層。 (9) (6)と同一層。 (10) 下記構造のイエロー色素放出レドツクス化合
物（0.53ｇ／m²）、トリシクロヘキシルホスフ
エート（0.13ｇ／m²）、２・５−ジ−ｔ−ペン
タデシルハイドロキノン（0.014ｇ／m²）およ
びゼラチン（0.7ｇ／m²）を含有する層。 (11) 青感性内潜型直接ポジ臭化銀乳剤（銀の量で
1.09ｇ／m²）、ゼラチン（1.1ｇ／m²）、層(5)と
同じ造核剤（0.04mg／m²）および２−スルホ−
５−ｎ−ペンタデシルハイドロキノン・ナトリ
ウム塩（0.07ｇ／m²）を含有する青感性乳剤
層。 (12) ゼラチン1.0ｇ／m²を含む層。 また、以下の如くカバーシートを作つた。 カバーシート 透明なポリエチレンテレフタレート支持体上に
順次、以下の層（1′）〜（3′）を塗布してカバー
シートを作製した。 (1′) アクリル酸とアクリル酸ブチルの80対20
（重量比）の共重合体（22ｇ／m²）および１・
４−ビス（２・３−エポキシプロポキシ）−ブ
タン（0.44ｇ／m²）を含有する層。 (2′) アセチルセルロース（100ｇのアセチルセル
ロースを加水分解して、39.4ｇのアセチル基を
生成するもの）（3.8ｇ／m²）およびスチレンと
無水マレイン酸の60対40（重量比）の共重合体
（分子量約５万）のメタノール開環物（0.23
ｇ／m²）および５−（２−シアノ−１−メチル
エチルチオ）−１−フエニルテトラゾール
（0.154ｇ／m²）を含有する層。 (3′) スチレン−ｎ−ブチルアクリレート−アク
リル酸−Ｎ−メチロールアクリルアミドの49.7
対42.3対３対５の共重合体ラテツクスとメチル
メタアクリレート−アクリル酸−Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドの93対４対３（重量比）共重
合体ラテツクスを前者のラテツクスと後者のラ
テツクスの固形分比が６対４になるように混合
し、塗布した厚さ２μの層。 前記感光シートをカラーテストチヤートを通し
て露光したのち上記カバーシートを重ね合わせ
て、両シートの間に、下記処理液を85μの厚みに
なるように展開した（展開は加圧ローラーの助け
をかりて行つた）。処理は25℃で行い、いずれも
良好な転写色画像を得、疎水性物質を添加してい
ないブランクと比較して、本発明のものは濃度低
下を認めなかつた。 処理液 １−ｐ−トリル−４−ヒドロキシメチル−４−メ
チル−３−ピラゾリドン 6.9ｇ メチルハイドロキノン 0.3ｇ ５−メチルベンゾトリアゾール 3.5ｇ 亜硫酸ナトリウム（無水） 0.2ｇ カルボキシメチルセルロース・Na塩 58ｇ 水酸化カリウム（28％水溶液） 200c.c. ベンジルアルコール 1.5c.c. カーボンブラツク 150ｇ 水 685c.c. 実施例 ６ 実施例５で処理して得られた転写画像を、モノ
シート状態のままそれぞれ40℃ 30％RHで２週
間放置して乾燥させたのち、螢光灯3000 luxで２
週間感光シート側より照射した。 乾燥させた照射前の反射濃度が1.0のところの
照射による濃度低下を第１表にまとめて示した。
いずれも耐光性が向上しているのがはつきりして
いる。

【表】 実施例 ７ （比較） 疎水性物質−18をトリシクロヘキシルホスフ
エートおよび補助溶媒としての酢酸エチルに溶解
させゼラチン溶液中に乳化分散させたのち、水性
ラテツクス・例示重合体−３と混合して、実施
例５の層(1)のかわりに以下のような受像層を塗布
した。 (1) 例示重合体３を３ｇ／m²、疎水性物質−18
を0.3ｇ／m²、トリシクロヘキシルホスフエー
ト0.15ｇ／m²、ゼラチン３ｇ／m²を含む層。 以下(2)〜(12)まで実施例と同様に塗布して感光シ
ートを作り、実施例５と同様に処理したところ、
処理後１時間後の反射最大濃度が、実施例５に比
較して、イエロー濃度で0.07、マゼンタ濃度で
0.15、シアン濃度で0.20それぞれ低かつた。本発
明の方法は、最大濃度を低下させずに耐光性を向
上させ、目的が達成されることを示している。 実施例 ８ 実施例４に記載した方法により、第２表に示し
た疎水性物質を充填したのち、ゼラチンと混合
し、ポリエチレンテレフタレート透明支持体上
に、次の如く各層を塗布して感光シートを作つ
た。 (1) 例示重合体−20を３ｇ／m²、第２表に示し
た充填された疎水性物質を0.3ｇ／m²、ゼラチ
ン３ｇ／m²および塗布助剤として を含む層。 以下層(2)〜(12)までは実施例５と同様に塗布し、
処理も同様に行つた。 処理翌日より螢光灯17000 luxで２週間感光シ
ート側より照射した。光が照射されていないとこ
ろの反射濃度が1.0の個所の濃度低下を第２表に
まとめて示した。

【表】

【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 分散相のポリマーが下記一般式（）で表わ
   される水性ポリマーラテツクスに一般式（）で
   表わされる疎水性物質が充填されていることを特
   徴とする充填ポリマーラテツクス組成物 式中Ａは少なくとも２個のエチレン性不飽和基
   を有する共重合可能なモノマーを共重合したモノ
   マー単位を表わす。ＢはＡ及びｚ成分を与えるモ
   ノマーと共重合可能なエチレン性不飽和モノマー
   を共重合したモノマー単位を表わす。R₁は水素
   原子または炭素数１〜約６の低級アルキル基を、
   Ｌは、１〜約12個の炭素原子を有する二価基を表
   わす。R₂、R₃およびR₄は、それぞれ同一または
   異種の１〜約20個の炭素原子を有するアルキル
   基、もしくは７〜約20個の炭素原子を有するアラ
   ルキル基を表わし、R₂、R₃及びR₄は相互に連続
   して、Ｑとともに環状構造を形成してもよい。Ｑ
   はＮまたはＰであり、Ｘはアニオンを表わす。
   ｘは約0.2ないし約15モル％、ｙは０〜約90モル
   ％、ｚは約５ないし約99モル％である。 式中、Ｒ_1A、Ｒ_2A、Ｒ_3A、Ｒ_4AおよびＲ_5Aは水
   素原子、アルキル基、アリール基、アルケニル
   基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキ
   シ基、アルケノキシ基、アラルコキシ基、アルキ
   ルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、水酸
   基、アミノ基、アシルアミノ基、ジアシルアミノ
   基、スルホンアミド基、アルキルアミノ基、ジア
   ルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環ア
   ミノ基、スルホ基、アリールスルホニル基、アリ
   ールスルフイニル基、アシルオキシ基、アシル
   基、アルコキシカルボニル基、【式】 −（CH₂）−_lR₈および【式】を表わ し、これらは互いに同じでも異なつてもよい。ま
   た、Ｒ_1A、Ｒ_2A、Ｒ_3A、Ｒ_4AおよびＲ_5Aはとなり
   の置換基と共同して５〜６員環の炭素環、クロマ
   ン環もしくはクマラン環を形成してもよい。ここ
   でＲ_6AおよびＲ_7Aは水素原子、アルキル基、アリ
   ール基およびアラルキル基を表わし、Ｒ_6AとＲ_7A
   が互いに結合して５〜６員環を形成してもよい。
   Ｒ_8Aはアルコキシカルボニル基を表わす。Ｘは単
   結合、−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−、−Ｏ−、−CH₂−Ｓ−
   CH₂−、−CH₂−Ｏ−CH₂−、−SO₂−、−SO−、 【式】【式】 【式】【式】を表わ す。 ｌ、ｍおよびｎは１〜３の整数を表わす。Ｒ_9A
   は水素原子、アルキル基およびアリール基を表わ
   し、Ｒ_10AおよびＲ_11Aは水素原子、アルキル基お
   よびアリール基を表わし、互いに結合して５員も
   しくは６員環を形成してもよい。Ｒ_12Aは水素原
   子、アルキル基およびアリール基を表わす。