JPS62121942A

JPS62121942A - 光情報記録媒体用基板と光情報記録媒体の各製造方法

Info

Publication number: JPS62121942A
Application number: JP17746486A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Miyazono; 宮園　泰
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1985-07-30
Filing date: 1986-07-28
Publication date: 1987-06-03
Also published as: JPH0411932B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野）本発明は、光学的に情報の記録再生、また消去ができる
再生専用又はジ；き換え可能イ【光情報記録媒体用基板
及び光情報記録媒体の各製造方法に関するしのであり、
特に、情報の記録、再生又は消去をする光のトラッキン
グを容易にするための情報用）ｔを有するｉＷｊ記基板
基板前記媒体の各製造方法に関するものである。

〔従来の技術］近年、光情報記録媒体（以下、「媒体」という。）を右
する光メモリ装置は高密度で大容量のメモリ装置として
注目されている。この媒体が高密度及び大容量となる理
由は、情報の記録単位であるピットが、光の波長及び記
録層へ光を集光させるレンズの開口数によって決まり、
その人きざを１μｕｓ！ＩＩにすることができるからで
ある。なお、再生もこのピッ（〜の有無を光学的に読み
出すことによりなされる。しかし、情報の記録、再生を
正確にするためには、電子制御システムを有する精密な
機械機構を必要とし、そのため、光メモリ装置を大型に
ぜざるを得ないことから、その対策として、第９図に示
すような構造がとられるようになった。すなわち、第９
図は、ガラスからなり、中央に円柱状のｎ通孔１ａを設
けた媒体用基板１（以下、［基板Ｊという。）であり、
この１．＜板１は、記録層を設ける主表面２をエツチン
グして、情報の記録再生を行う光のドラッギングを容易
にする例えば同心状の案内溝３（以下、「プレグルーブ
１という。）や、トラック番号、セクタ一番号等を示す
ための小陥部４（以下、「プレピット」という。）を有
している。なお、プレグルーブ又はプレピッ１〜の総称
として、以下、情報用溝という。

そして、従来、この情報用溝３（４）を基板１に形成す
る方法としては、先ず、ガラスからなる円板状の原板の
主表面にレジスト膜を塗布し、次に、前記レジスト膜に
へｒレープを対物レンズを介して、情報用溝の巾と同一
のレジストパターンを得るように照射する。次に、照射
されたレジスト膜を現像し、レジストパターンを形成し
、次に、前記レジストパターンをマスクとして、ＣＦ４
のエツチングガス中でスパッタリングを行い、レジスト
パターンで被覆されていない原板表面をエツチングし、
情報用溝３（４）を設ける。次に、前記レジストパター
ンをアセトン等の溶媒で除去して、情報用溝３（４）を
設けた基板１を作成していた。そして、この情報用溝３
（４）上に記録層を被覆して、例えば、サンドイッチ状
の媒体を作成した。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、従来の技術では、下記のような欠点があ
った。

■　ガラスからなる原板上に塗布されたレジスト膜にレ
ーザ光を照射すると、そのレーザ光の七−ド変化によっ
て、レーザ光の出力のゆらぎが発生し、これによって本
来、照射されるべき部分が照射されずに、所望するレン
ズｌ−パターンが得られない欠点があった。

■　レー＋ｆ先によってレジスト膜を照射しても、レジ
スト膜のレーザ光に対り°る表面反射率が数％と低いた
め、レジスト膜の所望する位置にレーザ光をトラッキン
グすることができず、不必要なところを照射してしまい
、結果的に所望する情報用溝が作成できない欠点があっ
た。

■　さらに、従来の技術では、直接、原板に情報用溝を
形成するための照射時間が、原板の大きさにもよるが、
前記情報用溝を作成するために、少なくとも数１０分か
ら１時間を要し、生産性が悪いという欠点があった。

〔問題点を解決するためのｆ段〕

本発明は、前述した欠点を除去した、基板及び媒体のＩ
！Ｊ造方法であり、その第１発明は、情報用溝を有する
基板の製造方法において、前記情報用溝を形成するため
のパターンを有し、中央にｄ通孔を設けた基準板と、中
央に貫通孔を設け、主表面に感光性材料を被覆した、前
記基板を作成する原板とを用い、前記基準板及び前記原
板のそれぞれの貫通孔に、前記基準板と前記原板の位置
を決めるための治具を挿入し、前記基準板のパターンを
前記原板に転写し、前記情報用溝を形成することを特徴
とする基板の製造方法であり、その第２発明は、基板に
情報用溝を設けた光情報記録媒体の製造方法において、
前記情報用溝を形成するためのパターンを有し、中央に
４通孔を設けた基準板と、中央に貫通孔を設け、主表面
に感光性材料を被覆した、前記基板を作成する原板とを
用い、前記基準板及び前記原板のそれぞれの貫通孔に、
前記基準板と前記原板の位置を決めるための治具を挿入
し、前記基準板のパターンを前記原板に転写し、前記情
報用溝を形成し、前記情報用溝上に記録層を被覆したこ
とを特徴とする媒体の製造方法である。

そして、本発明の態様としては、先ず、前記治具におい
て、前記基準板及び前記原板の何れか一方に挿入される
治具が断面凸状をなし、もう一方に挿入される治具が断
面凹部を右してなり、かつ前記断面凸状治具を前記凹部
に挿入して位置決めをすることであり、また、前記治具
において、前記基準板に挿入される治具と前記原板に挿
入される治具とが、一体となっていることである。

（実施例１）本例を第１図〜第４図に基づいて詳細に説明１ノる。第
１図及び第２図は、縦断面図であり＼第３図（ａ）及び
第４図（ａ）は平面図であり、第３図（ｂ）及び第４図
（ｂ）は正面図である。

先ず、精密研摩を施した、直径１３０馴、厚さ２．３ｍ
で、その中央部に直径６ＩｎＩｎの４通孔を設けた石英
ガラスからなる基準板用のガラス板を用意し、その一方
の主表面（１３０ｍφの面〉に、スパッタリング法によ
り遮光性のＣｒ１ｌｕ（厚さ：　１ｏｏｏ人）を成膜す
る。次に、前記Ｃｒ膜上にポジ型の電子線レジスト（例
えば、チッソ社製のＰＢＳ）をスピンコード法により塗
布して、レジスト膜（厚さ２１５００人）を形成し、次
に、電子線描画装置を用いて、同心円状のｒｔＪ　１μ
ｍのレジストパターンを２μｍの間隔で得るために描画
した。次に、前記レンス１〜膜を５−メチル２ヘキナノ
ンと２ペンタノンとの混合液に水を加えた現像液で現像
し、レジストパターンを形成する。次に、前記レジスト
パターンをマスクとして、１ｉｒＩ酸第２ｔ？リウムア
ン七ンと過塩素酸との混合液を用いて前記レジスト膜で
被覆されていない部分をエツチングし、前記レジスト膜
を硫酸で除去し、巾１μｍの凹部を２μｍの間隔で同心
円状の、情報用溝を形成するためのクロムパターンを設
番ノた基準板を形成する。

また、情報用溝を設けて基板を作成する原板として、外
径が１３０ｍ、厚さが１．２ＩＨＲで、中央部に直径１
５１Ｂ１Ｂの４通孔を設け、精密研摩をしたソーダライ
ムガラスを用いた。

そして、この原板の情報用溝を形成する主表面に、電子
ビーム蒸着法により、情報用溝を設けるＳｉ　０２膜（
厚さ：　１０００人）を被覆し、次に、このＳｔ　０２
股上にヘキサメヂルジシシザン（以下、１１１ＨＤｓＪ
という。）を、後記するレジスト膜と前述した３１０２
　膜との付着力を高めるために薄く被覆した。次に、前
記１１ＨＤＳ上に例えばヘキスト社製のＡＺ−４００７
のフ第１〜レジスｌ−（厚さ：　１０００人）を被覆し
た。次に、このレジスト膜付原板をクリーンオーブン内
に入れ、窒素雰囲気中で、９０℃、３０分間、前記レジ
スト膜をブレベークし、レジスト膜付原板を準備した。

次に、第１図に示すような露光装置７に、前記基準板５
及び前記原板６を配置する。この露光装置７は、左側本
体８内に形成された凹陥部９に嵌合固定された基準板ホ
ルダー１０と、第１真空室１１と、この第１真空室１１
を真空にするための排気管１２と、右側本体１３内に形
成された凹陥部１４に嵌合固定され、前記基準板ホルダ
ー１０と近接もしくは接触するように右側本体１３と共
に左方向に移！ＩすＪする原板ホルダー１５とを具備し
ている。なお、左側本体８の第１真空室１１は、図示さ
れていない、左側本体８の底壁により閉空間となってい
る。また、露光装置７は、第２頁空室１６と、この第２
貞空室１６を真空にするための排気管１７とを具備し、
かつ、この第２真空室１６の底壁１８の中央部には、前
記原板６を挿入保持し、基準療５との位置決めをするた
めの原板用治具１９を固着している。この原板用治具１
９は、第４図に示すように、円柱状の治具支持部１９１
ａと原板７を載置する円板状部１９１ｂとからなる断面
Ｔ字状の主部１９１と、その主部１９１の上面１９２に
設けられたリング１９３とからなっている。なお、この
リング１９３の外径は１４゜９６　ｍで、内仔４４１２
．０２　ｍｍ及びリングの厚さは１．４７　ｒｔｔｒｒ
ｒであり、高さは１．１１Ｍである。また、この上面１
９２には、Ｏリングを押入りるためのリング状溝１９４
が設けられている。さらに、この露光装置７は、右側本
体１３上に植設された０リング２０を有し、第２図に示
すように、基準板５と原板６とを密接したとさ、このＯ
リング２０によって第３真空室２１を形成づるようにな
っており、この第３真空室２１を真空にするための排気
管２２も左側本体８に具備している。

次に、この露光装置７を用いて、前記基準板５のパター
ンを前記原板６に転写し、情報用溝を右するり板の製造
方法を下記に述べる。

先ず、第１図に示すように、１ｊ準板５のり【コムパタ
ーンを右向きにし、この基準板５の貫通孔５１に、基準
板５を保持し、原板６との位置決めをする、第３図に示
す基準板用治具２３を挿入し、この基準板用治具２３と
共にす単板５を、基準板ホルダー１０に真空吸着する。

なお、この基準板用治具２３は、円柱状部２３１と円板
状部２３２とからなる新面凸状であり、この治具２３の
基準板５の貫通孔５１に挿入される円柱状部２３１は、
直径が５．９６．で、高さが７ｒＩｔＲであり、前記原
板用治具１９のリング１９３内に仲人される部分である
円板状部２３２は、直径１１．９８．、高さ１．０Ｍで
ある。また、この円板状部２３２の基準根側表面２３３
には、０リングを挿入するためのリング状溝２３４が設
けられている。

したがって、基準板ホルダー１０に設けられたＯリング
２４と、前記基準板用治具２３のリング状溝２３４に挿
入されたＯリング２５によって第１真空室１１が密封さ
れるために、基準板５及び基準板用治具２３は、充分に
真空吸着される。

次に、レジスト膜を基準板５側に向け、原板６の貫通孔
６１に、原板用治具１９のリング１９３を挿入し、その
上面１９２に原板６を当接するとともに、原板ホルダー
１５に当接し、原板６を真空吸着する。

このとぎも、前述したと同様に、原板ホルダー１５のＯ
リング２６と、原板用治具１９のリング状溝１９４に挿
入されたＯリング２７によって、第２真空室１６が密封
されるので、原板６は、充分に真空吸着される。

次に、第２図に示ずように、基準板５と原板６とを当接
し、（このとき、原板用治具１９のリング１９３内に基
準板用治具２３の円板状部２３２がわずかイｇ隙間を有
して挿入される。）第３真空室２１を形成し、排気管２
２によって排気し、真空にする。次に、第１及び第２真
空室１１．１６を大気圧に戻す。

すると、基準板５と原板６とが互いに密着し、この状態
で紫外線２８を照）ｊすることにより、基準板５のクロ
ムパターンが原板６のレジスト膜に転写される。

次に、前記露光までの手順を逆にして、原板６を、この
露光装置７から取り外し、原板６を通常の現像、リンス
、乾燥を行い、引き続きクリーンオーブン中で、１１０
℃、３０分間、ポストベークをして、レジストパターン
付原板を作成する。

次に、前記レジストパターン付原板を容量型ドライエツ
チング装置に収容し、この装置内にＣＦ４ガスを導入し
、前記レジストパターンをマスクとして、原板の主表面
に被覆された５ｉ０２ＩｌＵをドライエッヂングし、中
１μｍの同心円状の深さ８００人の情報用溝（本例では
、プレグルーブに相当する。）を２μｍ間隔で作成した
。なお、このときは、前記装置内の全圧を０．　ＩＴｏ
ｒｒとして、高周波電力密度を０．２Ｗ／ｃｄ及びＣＦ
４ガスの流量を５０スタンダード　キュービック　セン
チメータ　バーミニツツ（ＳＣＣ旧とした。次に、この
ドライエツチング後において、前記装置内に０２ガスを
導入し、レジストパターンをプラズマアッシングして除
去し、情報用溝を設けた基板を作成した。なお、このプ
ラズマアッシングの条件は、全圧０．５Ｔｏｒｒ。

高周波電力密度０．３Ｗ／ｃｒｉ及び流量５０ＳＣＣＨ
である。

次に、前記情報用溝を設けた基板を２枚用意し、それぞ
れの情報用溝トに、Ｔｅからなる記録層（厚さ：３００
人）を被覆し、この記録層を対向させ、前記基板の外周
及び貫通孔近傍にそれぞれスペーサを設け、その内部に
空隙部を有したサンドイッチ状の媒体を作成した。

以上のとおり、本例における情報用溝を設けた基板は、
ガラスからなる原板、トにＳｉ　Ｏ２膜を被覆し、その
Ｓｉ　０２膜をエツチングして情報用溝を設けた基板で
ある。また、本例においては、情報用溝としてプレグル
ーブの形成方法について述べたが、プレピットについて
も同様に形成することができる。また、本例において、
基準板用治具２３は、着脱可能であることから、基準板
５の貫通孔５１の形状、大きさに適したものを選択する
ことができ、さらに、本例における原板用治具１９を基
準板用治具とし、一方基単板用治具２３を原板用治具と
してもよい。なお、このとき、各治具の形状は、基準板
及び原板のそれぞれの貫通孔の大きさに適合したものに
する。

〔実施例２〕本例を第５図及び第６図に基づいて説明Ｊる。

なお、これら図の（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ平面図
及び正面図であり、第６図（Ｃ）は、同図（ａ）のＸ　
　−Ｘ６線断面図である。

先ず、前記実施例１と異なるのは、幇単板用治具と、原
板用治具である。本例における基準板用治具２８は、第
５図に示すように、円柱状部２８１と円板状部２８２と
円錐台部２８３と、前記実施例１と同様のリング状溝２
８４とからなり、断面凸状である。一方、原板用治具２
９は、円柱状の治具支持部２９１ａと原板６を当接する
円板状部２９１ｂとからなる断面Ｔ字状の主部２９１と
、その上面２９２上に設Ｃノたリング２９３とからなり
、さらに、前記リング２９３の内側に、前記円錐台部２
８３と同一形状をなす凹部２９４を設け、さらに、前記
実施例１と同様にＯリングを挿入するだめのリング状溝
２９５を設けている。また、前記実施例１と異なるのは
、原板が石英ガラスからなり、その主表面に直接フォト
レジスト膜を被覆し、この原板に直接情報用溝を設ける
ことである。露光装置７のその他の構成及び情報用溝の
形成方法等は前記実施例と同様である。

本例によれば、原板に直接、情報用溝を形成することが
できる。また、本例の一１２４２板用治具２８と原板用
治具２９にそれぞれ、円錐台部２８３と円錐台状の凹部
２９４を設けているため、前記実施例よりも、基準板用
治具２８と原板用治具２９とは容易に嵌合することがで
き、位置決めの精痕も向上する。

なお、本例においても、前記実施例１と同様に原板用治
具を基準板用治具とし、基準板用治具を原板用治具とし
てもよい。

（実施例３）本例を第７図及び第８図に基づいて詳細に説明する。な
お、第７図は縦断面図であり、第８図（ａ）は平面図、
同図（ｂ）は正面図である。

本例を使用する位置合わせ用の治具３０は、第８図に示
すように、前記実施例１の基準板用治具と原板用治具と
を一体にして、ｊＪ　ｔｉＬ板用治具と原板用治具との
機能を右したものである。そして、この治具３０は、円
柱状の治具支持部３０１と、原板６を当接する第１円板
状部３０２と、原板６の貫通孔６１に挿入し、かつ基準
板５を当接する第２円板状部３０３と、阜単板５を挿入
する円柱状部３０４とからなり、かつ、治具支持部３０
１、第１円板状部３０２、第２円板状部３０３及び円柱
状部３０４を、中心を同一にして、順次設けたものであ
る。また、第１円板状部３０２と第２円板状部３０３の
それぞれの上面３０５　、３０６には、前記実施例１と
同様にそれぞれ、０リングを挿入するための第１リング
状溝３０７、第２リング状満３０８を設けている。この
治具３０も前記実施例１．２の原板用治具と同様に第２
真空室１６の底壁１８に固着している。

次に、この治具を用いて、露光りる方法を下記に述べる
。

なお、基準板５と原板６は、前記実施例１と同一であり
、原板６上には、前記実施例１ど同様に５ｉｎ２膜、Ｉ
Ｉ　ＨＤ　Ｓ及びレジスト膜を被覆している。

また、露光装置７のその他の構成も実施例１と同様であ
る。

先ず、原板６を治具３０の第２円板状部３０３に挿入し
、第２真空室１６を真空にして真空吸着し、次に、基準
板５を円柱状部３０４に挿入して、原板６と基準板５と
を当接し、次に、原板ホルダー１５を基準板５に接する
ように移動し、第１真空室１１及び第３真空室２１を真
空にする。その後、前記実施例１と同様に第１．第２真
空室１１．１６を大気圧に戻し、基準板５と原板６を密
着させる。次に、紫外ｌ９２８を照射することにより、
基準板５のクロムパターンが原板６のレジスト膜に転写
される。次に、第３真空室２１を大気圧に戻し、第２真
空室１６を真空にし、基準板ホルダー１０を離間する。

このとき、基準板５は原板６に密着しており、基準板５
と原板６とは分離しない。次に、第２真空室１６を大気
圧に戻し、基準板５と原板６を露光装置７外に取り出し
、人の手によって、基準板５と原板６とを分離する。そ
の後前記実施例１と同様にして基板及び媒体を作成する
。

本例によれば、治具３０が基準板用治具と原板用治具と
の機能を有し、かつ基準板５を挿入する円柱状部３０４
と原板６を挿入づる第２円板状部３０３とが中心を同一
にて製作されていることから、ざらに原板と基準板との
位置決めが完全となる。

以−Ｆ、前記実施例１〜３では、基準板としては、円板
状のものを用いたが、これに限らず、角状であってもよ
い。すなわち、情報用溝を所望する領域に転写できる面
積を有したものであればよい。

また、基準板の貫通孔も断面が円状でなくてｂよい。

また、前記実施例１及び３では、情報用溝を形成づる薄
膜として、５ｉ０２膜を用いたが、これに限らず、Ｓｉ
３Ｎ４等のシリコン窒化物、シリコン酸化物、アルミニ
ウム等の酸化物又は窒化物、周期律表の■族、ＩＶ族、
Ｖ族の元素からなる酸化物又は窒化物、またＳｅ、　Ｔ
ｅ等のカルコゲン元素やこれらの化合物のエツチング可
能な物質の単層又は複層からなる薄膜であればよい。さ
らに、前記薄膜は、必ずしも化学１１論的組成である必
要はなく、情報用溝が形成できるものであればよい。

また、実施例２においても、直接情報用溝が設【プられ
るガラスとしては、ドライエツチングやウェットエツチ
ングが可能なガラスであればよい。

また、前記実施例１，３において、レジスト膜と３１０
２膜との付着力を高めるために、１１　Ｍ　ＯＳを用い
たが、これに限らず、Ｃｒ膜、Ｃｒ酸化物膜又はＡｆＬ
２０３等の金属酸化物膜を例えば２０人〜２００人の薄
膜として用いてもよい。

また、前記実施例１〜３における基準板と原板との配置
を逆にし、露光光を、前記実施例１〜３ど逆の側から照
射してもよく、また、基準板ホルダー１０と原板ホルダ
ー１５とを上下に配置してもよい。また、Ｏリングも断
面円状のものに限らず、扁平のものや矩形のものであっ
てもよい。また、前記実施例１〜３は紫外線を用いて露
光したが、伯の波長のものであってもよい。

また、前記実施例１〜３においては、原板用治具１９．
２９及び治具３０は、露光装置７の底壁１８に固着して
いたが、例えば、底壁１８に棒状の凸部を設け、一方、
前記治具１９．２９及び３ｏの治具支持部１９１ａ、　
　２９１ａ及び３０１の軸方向に、凹部を設けて、嵌合
させてもよい。このようにすれば、原板６の貫通孔Ｇ１
に合わせて、適宜原板用治具を選択することができる。

また、前記実施例１〜３では、露光方法として、密着露
光方法を述べたが、何も密着させなくてしよく、正確に
基準板のパターンが転写される方法であればよい。

さらに、被覆される記録層としては、Ｔｅ膜に限らず、
５ｅ１ＧｅＴｃ、　ＩｎＴｃ１ＴｅＣ、Ｔｃ−０、Ｔｅ
−Ｇｃ”−０、Ｔｅ−Ａｓ−０等のカルコゲン元素、カ
ルコゲン化合物、周期＜４’表の■族、ＩＶ族、Ｖ族の
元素及びその化合物並びにその酸化物、窒化物、さらに
光吸収剤を添加した有機物等でもよく、また、ＧｄＦｅ
。

ＴｂＦｃ、　ＧｄＴｂＦｃ等の光磁気記録材質であって
もよい。

〔発明の効果〕

本発明は、前記のような方法であるから、所望づる位置
に情報用溝を正確に設りた基板を製造することができ、
それにより良好な媒体を製造することができる。また、
本発明は、位置合わば用の治具を用いているので、例え
ばプレグルーブのときの基板との同心性を良好に保つこ
とができ、例えば偏心間を１００μｍ以下にすることが
できる。

さらに、本発明によれば、情報用溝を形成するための露
光時間が、例えば、前記実施例では、１０〜２０分程度
でよく、従来の方法より２０〜４０分も短縮することが
でき、生産性も向Ｉ　した。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本発明の一実施例を示す縦断面図で
あり、第３図及び第４図は、それぞれ一実施例の基準板
用治具と原板用治具を示ず図であり、第３図（ａ）及び
第４図（ａ）は平面図、第３図（ｂ）及び第４図（ｂ）
は正面図である。第５図及び第６図は、それぞれ他の実
施例の基準板用治具と原板用治具を示す図であり、第５
図（ａ）、　（ｂ）は、それぞれ平面図、正面図であり
、第６図（ａ）、（ｂ）　。（Ｃ）は、それぞれ平面図、正面図及び同図（ａ）の×
６へ×６線断面図である。第７図及び第８図は、さらに
他の実施例を示す図であり、第７図は縦断面図、第８図
（ａ）、（ｂ）は、それぞれ治具の平面図、正面図を示
す図である。第９図は、情報用溝を段けた基板の模式斜
視図である。３・・・プレグルーブ、４・・・ブレピッｈ、５・・・
ｇ［ｉ％を板、６・・・原板、７・・・露光装置、１９
．２９・・・原板用治具、２３．２８・・・基準板用治
具、３０・・・基準板用治具と原板用治具の機能を有す
る治具、５１・・・基準板のｉ７ｊ通孔、６１・・・原
板のｎ通孔。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）情報用溝を有する光情報記録媒体用基板の製造方
法において、前記情報用溝を形成するためのパターンを
有し、中央に貫通孔を設けた基準板と、中央に貫通孔を
設け、主表面に感光性材料を被覆した、前記基板を作成
する原板とを用い、前記基準板及び前記原板のそれぞれ
の貫通孔に、前記基準板と前記原板の位置を決めるため
の治具を挿入し、前記基準板のパターンを前記原板に転
写し、前記情報用溝を形成することを特徴とする光情報
記録媒体用基板の製造方法。
（２）基準板及び原板の何れか一方に挿入される治具が
断面凸状をなし、もう一方に挿入される治具が断面凹部
を有してなり、かつ前記断面凸状治具を前記凹部に挿入
して位置決めをすることを特徴とする特許請求の範囲第
（１）項記載の光情報記録媒体用基板の製造方法。
（３）基準板に挿入される治具と原板に挿入される治具
とが、一体となつていることを特徴とする特許請求の範
囲第（１）項記載の光情報記録媒体用基板の製造方法。
（４）基板に情報用溝を設けた光情報記録媒体の製造方
法において、前記情報用溝を形成するためのパターンを
有し、中央に貫通孔を設けた基準板と、中央に貫通孔を
設け、主表面に感光性材料を被覆した、前記基板を作成
する原板とを用い、前記基準板及び前記原板のぞれぞれ
の貫通孔に、前記基準板と前記原板の位置を決めるため
の治具を挿入し、前記基準板のパターンを前記原板に転
写し、前記情報用溝を形成し、前記情報用溝上に記録層
を被覆したことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法
。
（５）基準板及び原板の何れか一方に挿入される治具が
断面凸状をなし、もう一方に挿入される治具が断面凹部
を有してなり、かつ前記断面凸状治具を前記凹部に挿入
して位置決めをすることを特徴とする特許請求の範囲第
（４）項記載の光情報記録媒体の製造方法。（６）基準
板に挿入される治具と原板に挿入される治具とが、一体
となつていることを特徴とする特許請求の範囲第（４）
項記載の光情報記録媒体の製造方法。