JPS62112357A - 過入力保護装置 - Google Patents

過入力保護装置

Info

Publication number
JPS62112357A
JPS62112357A JP25224285A JP25224285A JPS62112357A JP S62112357 A JPS62112357 A JP S62112357A JP 25224285 A JP25224285 A JP 25224285A JP 25224285 A JP25224285 A JP 25224285A JP S62112357 A JPS62112357 A JP S62112357A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
gate
input voltage
input
drain
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP25224285A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0551183B2 (ja
Inventor
Shigeru Kawamura
茂 川村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Faurecia Clarion Electronics Co Ltd
Original Assignee
Clarion Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Clarion Co Ltd filed Critical Clarion Co Ltd
Priority to JP25224285A priority Critical patent/JPS62112357A/ja
Publication of JPS62112357A publication Critical patent/JPS62112357A/ja
Publication of JPH0551183B2 publication Critical patent/JPH0551183B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
    • H01L27/0251Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
    • H01L27/0266Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using field effect transistors as protective elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 A、産業上の利用分野 本発明は、特に集積回路のための過入力保護装置に関す
る。
B0発明の概要 バイポーラICにおいて寄生MOSトランジスタが過入
力保護用素子として利用される。上記寄生MOSトラン
ジスタのドレインがアース電位に保たれる。上記寄生M
O5)−ランジスタのトレインはアイソレーション拡散
層であり、トレインとゲート、ソースと基板はそれぞれ
同電位にある。
C6従来の技術 従来集積回路例えば増幅回路の入力において、サージ等
過電圧入力による破壊を防ぐため、第3図に示すように
、入力端子に直列に保護抵抗を付加している。第1図中
、1は入力端子、2は保護抵抗を表わす。
D0発明が解決しようとする問題点 しかしながら、この方式では保護効果を高めるためには
抵抗値を大きくしなければならず、そうすると入力トラ
ンジスタのベース電流による電圧降下が大きくなる、等
の不都合を生じるため抵抗値を大きくできず、十分な保
護効果が得られないという欠点があった。
本発明の目的は、保護抵抗の抵抗値を高くすることなく
、高い過入力保護効果を有する過入力保護装置を提供す
ることである。
E0問題点を解決するための手段 上記目的を達成するために、本発明による過入力保護装
置は、ソースとして動作する過入力電圧が印加される領
域、ゲートとして動作する電極およびドレインとして動
作する領域から成るMOSトランジスタあるいは寄生M
OSトランジスタと、上記ゲートとして動作する電極お
よびドレインとして動作する領域に接続された低電位手
段とを含むことを要旨とする。
本発明の有利な実施の態様においては、上記低電位手段
はアースて′あり、」二足ドレインとして動作する領域
はバイポーラトランジスタのアイソレーション領域、上
記ソースとして動作する領域は上記バイポーラトランジ
スタのベース領域である。
F1作用 本発明はバイポーラICにおける寄生MO5効果を利用
したものである。すなわち過入力電圧において寄生MO
Sトランジスタが導通状態となり。
強制的に過入力電流を引き込み、IC内素子の破壊を防
ぐ。
G、実施例 以下に、図面を参照しながら、実施例を用いて本発明を
一層詳細に説明するが、それらは例示に過ぎず、本発明
の枠を越えることなしにいろいろな変形や改良があり得
ることは勿論である。
第1図は、本発明による過入力保護装置の断面図で、図
中3はIC基板、4は埋込み層、5はエピタキシャル成
長層、6.6’はアイソレーション層、7はベース拡散
層、8はエミッタ拡散層。
9.10.1」 はA1電極、12は絶縁膜である。こ
こで、ベース拡散層7をソース、左側アイソレーション
層6をドレイン、端子Aに接続されたfl!極1極左0
−トとするMOSトランジスタが形成されている。
いま、第2図に示すように、端子Aをアニスに落し、端
子Bに入力電圧を加えるとする。入力電圧が高くなると
、N型エピタキシャル層5の電位も高くなるが、ゲート
電位はOvであるので。
N型エピタキシャル層5とゲート間の電位差は、N型エ
ピタキシャル成長層表面が反転し易くなる方向で増加す
る。入力電圧がある一定電圧を越えるとゲート電極と対
向しているN型エピタキシャル成長層の表面は反転し、
ソーχ苓ルイン間に電流通路ができる。すなわち、過入
力があった場合、このMOSトランジスタを通してアー
スへ電流が流れ落ちてしまう。したがって、IC内の素
子は保護される。通常のICでは、20〜40 VでN
型エピタキシャル成長層の表面は反転する。
H0発明の詳細 な説明した通り、本発明によれば、低抵抗を使いながら
、効果的な過入力保護ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による過入力保護装置の断面図、第2図
は本発明による過入力保護装置の回路図、第3図は従来
の過入力保護回路の回路図である63・・・・・・・・
・IC基板、4・・・・・・・・・埋込み層、5・・・
・・・・・エピタキシャル成長層、6,6′・・・・・
・・・・アイソレーション層、7・・・・・・・・・ベ
ース拡散層、8・・・・・・・・エミッタ拡散層′、9
・・・・・・・・・Al電極(入力)、10・・・・・
・・・・Al電極(ゲート)、11・・・・・・・・A
1電極(接地)、12・・・・・・・・・絶縁膜。 特許出願人 クラリオン株式会社 手続補正書 1 事件の表示 昭和60年特許康 第252242号 3、 補正をする者 事件との関係 特軒出−人 住所 名 称 (148)  クラリオン株式会社4代理人〒
105 住 所  東京都港区芝3丁目2番14号芝三丁目ビル
第1図及び第2図に別紙の通り補正する。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) (a)ソースとして動作する過入力電圧が印加される領
    域、ゲートとして動作する電極およびドレインとして動
    作する領域から成るMOSトランジスタあるいは寄生M
    OSトランジスタ、および (b)上記ゲートとして動作する電極およびドレインと
    して動作する領域に接続された低電位手段 を含むことを特徴とする過入力保護装置。
  2. (2)上記低電位手段がアースであることを特徴とする
    、特許請求の範囲第1項記載の過入力保護装置。
  3. (3)上記ドレインとして動作する領域がバイポーラト
    ランジスタのアイソレーション領域であることを特徴と
    する、特許請求の範囲第1項記載の過入力保護装置。
  4. (4)上記ソースとして動作する領域が上記バイポーラ
    トランジスタのベース領域であることを特徴とする、特
    許請求の範囲第3項記載の過入力保護装置。
JP25224285A 1985-11-11 1985-11-11 過入力保護装置 Granted JPS62112357A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25224285A JPS62112357A (ja) 1985-11-11 1985-11-11 過入力保護装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25224285A JPS62112357A (ja) 1985-11-11 1985-11-11 過入力保護装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62112357A true JPS62112357A (ja) 1987-05-23
JPH0551183B2 JPH0551183B2 (ja) 1993-07-30

Family

ID=17234488

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25224285A Granted JPS62112357A (ja) 1985-11-11 1985-11-11 過入力保護装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62112357A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE37593E1 (en) 1988-06-17 2002-03-19 Hitachi, Ltd. Large scale integrated circuit with sense amplifier circuits for low voltage operation
USRE40132E1 (en) 1988-06-17 2008-03-04 Elpida Memory, Inc. Large scale integrated circuit with sense amplifier circuits for low voltage operation

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE37593E1 (en) 1988-06-17 2002-03-19 Hitachi, Ltd. Large scale integrated circuit with sense amplifier circuits for low voltage operation
USRE40132E1 (en) 1988-06-17 2008-03-04 Elpida Memory, Inc. Large scale integrated circuit with sense amplifier circuits for low voltage operation

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0551183B2 (ja) 1993-07-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4876584A (en) Electrostatic discharge protection circuit
JPS62112357A (ja) 過入力保護装置
JPH07245348A (ja) Cmos技術の集積電子回路用の極性反転保護装置
US20210366896A1 (en) Electrostatic discharge protection circuit
JPH0239570A (ja) 入力保護回路
JPH02238668A (ja) 半導体装置
JP2982250B2 (ja) 半導体装置
JPS61263255A (ja) 半導体装置のサ−ジ保護回路
JPH07263633A (ja) 半導体装置の対静電気放電保護装置
JPS58161375A (ja) 絶縁ゲ−ト形電界効果半導体集積回路の入力保護回路
JPS58225664A (ja) C−mos集積回路
JPH0282570A (ja) 半導体装置
KR970055446A (ko) 입력 보호 회로 및 보호 소자
JPS6115593B2 (ja)
JPS60120569A (ja) 入力回路
JPS63146459A (ja) 半導体集積回路装置
JPH01185971A (ja) 絶縁ゲート型半導体装置
JPS6355871B2 (ja)
JPH04105357A (ja) 半導体集積回路
JP2830092B2 (ja) 半導体装置の静電保護素子
JPH0440868B2 (ja)
JPS59105369A (ja) 半導体装置
JPS59175164A (ja) 半導体装置
JPS62183158A (ja) 半導体集積回路装置
JPH02133965A (ja) ゲート保護装置