JPS62106922A - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
エポキシ樹脂組成物Info
- Publication number
- JPS62106922A JPS62106922A JP24718485A JP24718485A JPS62106922A JP S62106922 A JPS62106922 A JP S62106922A JP 24718485 A JP24718485 A JP 24718485A JP 24718485 A JP24718485 A JP 24718485A JP S62106922 A JPS62106922 A JP S62106922A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- epoxy
- molecule
- groups
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 23
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 14
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 7
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 8
- 239000010680 novolac-type phenolic resin Substances 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 abstract description 11
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 abstract description 8
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 abstract description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 7
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 abstract description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 5
- -1 especially Substances 0.000 abstract description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 3
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical class FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFVPEIKDMMISQO-UHFFFAOYSA-N 4-[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC=C(O)C=C1 NFVPEIKDMMISQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OCC2OC2)C=1C(=O)OCC1CO1 JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- MIHINWMALJZIBX-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-2,4-dien-1-ol Chemical class OC1CC=CC=C1 MIHINWMALJZIBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical class NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- IGALFTFNPPBUDN-UHFFFAOYSA-N phenyl-[2,3,4,5-tetrakis(oxiran-2-ylmethyl)phenyl]methanediamine Chemical compound C=1C(CC2OC2)=C(CC2OC2)C(CC2OC2)=C(CC2OC2)C=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 IGALFTFNPPBUDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、密着性、耐湿性のよシ優れたエポキシ樹脂に
関するものであシ、さらに詳しくは電子材料、特に半導
体の分野において、接着、被覆材として非常に信頼性に
優れたエポキシ樹脂組成物に関するものである。
関するものであシ、さらに詳しくは電子材料、特に半導
体の分野において、接着、被覆材として非常に信頼性に
優れたエポキシ樹脂組成物に関するものである。
従来エポキシ樹脂は、その接着性、電気特性、耐湿性な
どのバランスの取れた特性を持っていることから、電子
材料関連、特に半導体の分野において対人材、ベレット
の接着剤、基板用の積層板などの基本樹脂として使用さ
れて来た。
どのバランスの取れた特性を持っていることから、電子
材料関連、特に半導体の分野において対人材、ベレット
の接着剤、基板用の積層板などの基本樹脂として使用さ
れて来た。
しかしながら、半導体技術の高集積化の進歩に伴う厳し
い信頼性の要求には必ずしも充分でなく、よシ良い特性
のエポキシ樹脂の要求が強かった。
い信頼性の要求には必ずしも充分でなく、よシ良い特性
のエポキシ樹脂の要求が強かった。
本発明は、従来不充分であったエポキシ樹脂特性、特に
密着性、耐湿性を改良し、電子材料特に半導体の分野に
おいて接着、被覆材としての信頼性を向上させようとし
て研究した結果硬化剤であるノボラック型フェノール系
樹脂にフッ素置換に5を導入することによって密着性、
耐湿性が著しく改良されるとの知見を得、更にこの知見
に基づき種々研究を進めて本発明を完成するに至ったも
のである。
密着性、耐湿性を改良し、電子材料特に半導体の分野に
おいて接着、被覆材としての信頼性を向上させようとし
て研究した結果硬化剤であるノボラック型フェノール系
樹脂にフッ素置換に5を導入することによって密着性、
耐湿性が著しく改良されるとの知見を得、更にこの知見
に基づき種々研究を進めて本発明を完成するに至ったも
のである。
〔発明の構成り
本発明は1分子中に少なくとも2個のエポキシ基をもつ
エポキシ樹脂と1分子中に少なくとも2個のフェノール
性水酸基をもち平均して式(1)で示される構造のフッ
素置換基1個に対してフェノール性水酸基4個以上をも
つノボラック型フェノール・系樹脂を必須成分とするこ
とを特徴とするエフ1ソキシ樹脂組成物である。
エポキシ樹脂と1分子中に少なくとも2個のフェノール
性水酸基をもち平均して式(1)で示される構造のフッ
素置換基1個に対してフェノール性水酸基4個以上をも
つノボラック型フェノール・系樹脂を必須成分とするこ
とを特徴とするエフ1ソキシ樹脂組成物である。
本発明において用いられるエポキシ樹脂は1分子中に少
くとも2個のエポキシ基を持つもので、硬化促進剤の存
在または存在なしで、フェノール系ノボラックの水酸基
と反応し硬化するものであれば特に制限はない。このよ
うなものとしては、たとえば多価フェノールのグリシジ
ルエーテル即チ、ビスフェノールA系エポキシ樹脂、エ
ポキシフェノールノボランク、エポキシクレゾールノボ
ラック、およびそれらのブロム化物、ビスフェノールF
系エポキシ樹脂などのグリシジルアミン即、即ち、フタ
ル酸ジグリシジルエステル、トリメリット酸トリグリシ
ジルエステルなど、さうK。
くとも2個のエポキシ基を持つもので、硬化促進剤の存
在または存在なしで、フェノール系ノボラックの水酸基
と反応し硬化するものであれば特に制限はない。このよ
うなものとしては、たとえば多価フェノールのグリシジ
ルエーテル即チ、ビスフェノールA系エポキシ樹脂、エ
ポキシフェノールノボランク、エポキシクレゾールノボ
ラック、およびそれらのブロム化物、ビスフェノールF
系エポキシ樹脂などのグリシジルアミン即、即ち、フタ
ル酸ジグリシジルエステル、トリメリット酸トリグリシ
ジルエステルなど、さうK。
グリシジルアミン即ち、テトラグリシジルジアミノジフ
ェニルメタン、ジグリシジルアニリ7などをあげること
ができる。
ェニルメタン、ジグリシジルアニリ7などをあげること
ができる。
尚本発明において電子材料、特に半導体の分野に用いる
場合には、エポキシ樹脂は遊離塩素を含む加水分解性塩
素が500 ppm以下であることが望ましい。
場合には、エポキシ樹脂は遊離塩素を含む加水分解性塩
素が500 ppm以下であることが望ましい。
本発明において用いられるフッ素置換基を有するノボ7
ツク型フエノール系樹脂は、たとえばノボラック型フェ
ノール系重合物とへキサフルオロプロにン三核体との反
応によって容易に得ることができる0 (石川、丸田、
有機合成化学、39.52.1981)該ノボラック型
フェノール系樹脂は1分子中に少なくとも2個のフェノ
ール性水酸基をもち、かつ平均してフッ素置換7:1個
に対してフェノール性水酸基4個以上もつものである。
ツク型フエノール系樹脂は、たとえばノボラック型フェ
ノール系重合物とへキサフルオロプロにン三核体との反
応によって容易に得ることができる0 (石川、丸田、
有機合成化学、39.52.1981)該ノボラック型
フェノール系樹脂は1分子中に少なくとも2個のフェノ
ール性水酸基をもち、かつ平均してフッ素置換7:1個
に対してフェノール性水酸基4個以上もつものである。
これよりフッ素置換基の曾が多く々れば、相対的にエポ
キシ基と反応して硬化をするフェノール性水酸基の31
kが減少し、硬化不充分となり特性の低下の原因となる
。反応に用いられるノボラック型フェノール系重合物は
、フェノール類を酸触媒存在下にホルムアルデヒドと反
応させて得られるものであり、反応後の水酸基の数が硬
化を進めるため1分子中に少くとも2個以上になるよう
な桟敷を有するもので、望ましくは平均重合度が3〜7
のものが望ましい。7よシ犬きくなると粘度が高くなシ
すぎ取扱いがむずかしくなる。フェノール類としては、
フェノール、クレゾールなどの一価フエノール、レゾル
シノールなどの多価フェノールで混合して使用すること
もできる。又該ノボラック型フェノール系圀脂は2核体
、3核体やそれ以上の多核体の混合物であっても良く、
平均してフッ素置換基1個に対してフェノール性水酸基
が4個以上となるような混合系であれば良い。
キシ基と反応して硬化をするフェノール性水酸基の31
kが減少し、硬化不充分となり特性の低下の原因となる
。反応に用いられるノボラック型フェノール系重合物は
、フェノール類を酸触媒存在下にホルムアルデヒドと反
応させて得られるものであり、反応後の水酸基の数が硬
化を進めるため1分子中に少くとも2個以上になるよう
な桟敷を有するもので、望ましくは平均重合度が3〜7
のものが望ましい。7よシ犬きくなると粘度が高くなシ
すぎ取扱いがむずかしくなる。フェノール類としては、
フェノール、クレゾールなどの一価フエノール、レゾル
シノールなどの多価フェノールで混合して使用すること
もできる。又該ノボラック型フェノール系圀脂は2核体
、3核体やそれ以上の多核体の混合物であっても良く、
平均してフッ素置換基1個に対してフェノール性水酸基
が4個以上となるような混合系であれば良い。
本発明の組成物の硬化に当っては、硬化促進剤を用いる
こともできる。
こともできる。
硬化促進剤としては、ノボラック型フェノール系樹脂を
硬化剤とするエポキシ樹脂組成物で用いられる通常のも
のが用いられる。このようなものとしてたとえば、2(
ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4.6 )リ
ス(ジメチルアミノメチルラフエノールなどの三級アミ
ン、2メチルイミダゾール、2エチル4メチルイミダゾ
ール、2フエニルイミダゾールなどのイミダゾール類と
そのインシアヌル塩、1,8ジアザビシクロ(5,4,
0)ウンデセン7などがあげられる。
硬化剤とするエポキシ樹脂組成物で用いられる通常のも
のが用いられる。このようなものとしてたとえば、2(
ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4.6 )リ
ス(ジメチルアミノメチルラフエノールなどの三級アミ
ン、2メチルイミダゾール、2エチル4メチルイミダゾ
ール、2フエニルイミダゾールなどのイミダゾール類と
そのインシアヌル塩、1,8ジアザビシクロ(5,4,
0)ウンデセン7などがあげられる。
本発明の組成物のエポキシ基とフェノール性水酸基との
比は通常用いられる範囲のものであるが、特に、エポキ
シ基に対しフェノール往水eR基のモル比は08〜1.
2が望ましく、この範囲外では硬化性、ガラス転位点(
Tg)などの特性に悪影響を与える。
比は通常用いられる範囲のものであるが、特に、エポキ
シ基に対しフェノール往水eR基のモル比は08〜1.
2が望ましく、この範囲外では硬化性、ガラス転位点(
Tg)などの特性に悪影響を与える。
〔発明の効果〕
本発明に従うと、表面張力が小さくなりぬれ性が改良さ
れ、従って密着性が向上すると共に吸水率も改良され、
両者の特性が相俟って、電子材料関連、特に半導体の分
野において接着、被覆材として使用された場合、その信
頼性を大巾に向上することが可能となった。
れ、従って密着性が向上すると共に吸水率も改良され、
両者の特性が相俟って、電子材料関連、特に半導体の分
野において接着、被覆材として使用された場合、その信
頼性を大巾に向上することが可能となった。
以下実施例に従って説明する。
実施例1
第1表に示す配合で含有フッ素量の異なるノボラック型
フェノール系樹脂を合成した。
フェノール系樹脂を合成した。
反応はジメチルホルムアミド溶媒中でトリエチルアミン
を触媒として反応させ、水へ投入して粘着性のある樹脂
を沈澱させる。次いでメチルイソブチルケトンに溶解し
純水で充分に洗浄(3〜5回)シ、脱溶媒を行いノボラ
ック型フェノール系樹脂を得た。
を触媒として反応させ、水へ投入して粘着性のある樹脂
を沈澱させる。次いでメチルイソブチルケトンに溶解し
純水で充分に洗浄(3〜5回)シ、脱溶媒を行いノボラ
ック型フェノール系樹脂を得た。
これらの樹脂を用い第2表に示す配合でエダキシ樹脂組
成物を調整した。
成物を調整した。
この組成物をスライドガラスに塗り、戟燥硬化後表面接
触角を測定した結果を第3表に示す。
触角を測定した結果を第3表に示す。
第3表
フッ素基の導入によシ、表面張力が小さくなることがわ
かる。これは組成物を液状で使用した場合「ぬれ」を良
くし、密着性が向上することを示すものである。
かる。これは組成物を液状で使用した場合「ぬれ」を良
くし、密着性が向上することを示すものである。
又第2表で配合した組成物をセラミック基板に塗布し乾
燥硬化させた。
燥硬化させた。
このものを赤インク中に浸しプレッシャークツカー中で
125℃、1.5kf/cJcの条件で加圧しインクの
浸透を観察することによって塗膜の密着性を検討した結
果を第4表に示す。
125℃、1.5kf/cJcの条件で加圧しインクの
浸透を観察することによって塗膜の密着性を検討した結
果を第4表に示す。
実施例2
実施例1で得たノボラック型フェノール系樹脂を用いて
第5表に示す配合でエポキシ樹脂組成物を調整し2枚の
板ガラスの間に注型し成形品を得た。(150℃、30
分硬化、175℃、8時間エージング)この成形品より
試験片を切り出し特性を測定した結果を第5表に示す。
第5表に示す配合でエポキシ樹脂組成物を調整し2枚の
板ガラスの間に注型し成形品を得た。(150℃、30
分硬化、175℃、8時間エージング)この成形品より
試験片を切り出し特性を測定した結果を第5表に示す。
1)油化シェルエポキシ■製 Ep−8282) 1.
8ジアザビシクロ(5,4,0〕ウンデセン73)α、
ニガラス転位点以下、α2ニガラス転位点以上4)85
℃、85」四恒温恒湿槽中800 hrs後フッ素含有
量が多くなるに従い、吸水率は減少するが、フッ素含有
量が多くなったEN−4では、ガラス転位点が低下し、
線膨張係数も大きくなり電子材料用樹脂としては適当で
はなくなる。
8ジアザビシクロ(5,4,0〕ウンデセン73)α、
ニガラス転位点以下、α2ニガラス転位点以上4)85
℃、85」四恒温恒湿槽中800 hrs後フッ素含有
量が多くなるに従い、吸水率は減少するが、フッ素含有
量が多くなったEN−4では、ガラス転位点が低下し、
線膨張係数も大きくなり電子材料用樹脂としては適当で
はなくなる。
実施例3
実施例1の第1表で得られたノボラック型フェノール系
樹脂を用い第2表のニブキシ樹脂の油化シェルエポキシ
■製Ep−828にかえて加水分解性塩素を2 o o
ppmとしたエポキシ当量(エポキシ当量はEp−8
28と同等)を用いて組成物を調整し、これを櫛型ノミ
ターン(セラミック基板、線間0.1閣線巾0.2 W
!nAg −pd線材)を該組成物中に浸漬し80℃、
60分で溶媒除去し予備硬化させ、さらに150℃8時
間硬化させた。このものを10個85℃、85%RHの
恒温恒湿槽中にて処理し線間リーク電流を測定し、リー
ク電流が1O−6A以上のものを不良とし、その個数を
調べた結果を第6表に示す。
樹脂を用い第2表のニブキシ樹脂の油化シェルエポキシ
■製Ep−828にかえて加水分解性塩素を2 o o
ppmとしたエポキシ当量(エポキシ当量はEp−8
28と同等)を用いて組成物を調整し、これを櫛型ノミ
ターン(セラミック基板、線間0.1閣線巾0.2 W
!nAg −pd線材)を該組成物中に浸漬し80℃、
60分で溶媒除去し予備硬化させ、さらに150℃8時
間硬化させた。このものを10個85℃、85%RHの
恒温恒湿槽中にて処理し線間リーク電流を測定し、リー
ク電流が1O−6A以上のものを不良とし、その個数を
調べた結果を第6表に示す。
フッ素基を導入することでリーク電流による不良発生個
数は少くなるがフッ素基量が多すぎるEN−9はガラス
転位点低下及び線膨張係数の増大に原因する不良発生が
みられる。
数は少くなるがフッ素基量が多すぎるEN−9はガラス
転位点低下及び線膨張係数の増大に原因する不良発生が
みられる。
実施例4
実施例1の第1表で得られたノボラック型フェノール系
樹脂を用い第7表の組成物を調整し、この組成物を用い
て実施例3と同様の評価を行った結果を第7表に示す。
樹脂を用い第7表の組成物を調整し、この組成物を用い
て実施例3と同様の評価を行った結果を第7表に示す。
第 7 表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (i)1分子中に少なくとも2個のエポキシ基をもつエ
ポキシ樹脂と1分子中に少なくとも2個のフェノール性
水酸基をもち、平均して式(1)で示される構造のフッ
素置換基1個に対してフェノール性水酸基4個以上をも
つノボラック型フェノール系樹脂を必須成分とすること
を特徴とするエポキシ樹脂組成物 ▲数式、化学式、表等があります▼…………(1) (ii)エポキシ樹脂が遊離塩素を含む加水分解性塩素
が500ppm以下である特許請求の範囲第1項記載の
エポキシ樹脂組成物
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24718485A JPS62106922A (ja) | 1985-11-06 | 1985-11-06 | エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24718485A JPS62106922A (ja) | 1985-11-06 | 1985-11-06 | エポキシ樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62106922A true JPS62106922A (ja) | 1987-05-18 |
Family
ID=17159687
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24718485A Pending JPS62106922A (ja) | 1985-11-06 | 1985-11-06 | エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62106922A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63304021A (ja) * | 1987-06-03 | 1988-12-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
| JPH01121352A (ja) * | 1987-11-04 | 1989-05-15 | Hitachi Ltd | 積層板 |
-
1985
- 1985-11-06 JP JP24718485A patent/JPS62106922A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63304021A (ja) * | 1987-06-03 | 1988-12-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
| JPH01121352A (ja) * | 1987-11-04 | 1989-05-15 | Hitachi Ltd | 積層板 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1256396C (zh) | 高温环氧粘合剂膜 | |
| US2553718A (en) | Glycidyl ether compositions | |
| CN1798787A (zh) | 脲衍生物作为环氧树脂用促进剂的用途 | |
| JP4370447B2 (ja) | エポキシ樹脂硬化剤のための、水に影響されない促進剤としてのノボラック | |
| JPH03193753A (ja) | 新規なヒドラジド及びその化合物からなるエポキシ樹脂用潜在性硬化剤 | |
| DE3486406T2 (de) | Verfahren zum Überziehen von Substraten mit einem Überzugsfilm. | |
| JPS62106922A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
| US4525571A (en) | Epoxy resin/cycloaliphatic amine curing agent mixtures | |
| JP2772825B2 (ja) | エポキシ樹脂硬化剤 | |
| JPH02117913A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
| JPS63132918A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
| JPS60115622A (ja) | エポキシ樹脂系組成物 | |
| JPH039920A (ja) | 低粘度エポキシ樹脂組成物 | |
| JPH01110526A (ja) | プリプレグ用エポキシ樹脂組成物 | |
| JPH02206667A (ja) | 電気電子部品封止用粉体塗料組成物 | |
| JPH02258831A (ja) | 封止用樹脂組成物及びその製造方法 | |
| JPS60210685A (ja) | 耐熱接着剤用組成物 | |
| JP4463453B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JPS61168620A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 | |
| JPH0912995A (ja) | フィルム用接着剤 | |
| JPS5996178A (ja) | 被覆用組成物 | |
| JPS6011527A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
| JPS5817777B2 (ja) | 変性脂肪酸ピッチ組成物の製造法 | |
| JPH03237126A (ja) | 高耐熱性エポキシ樹脂組成物 | |
| JPH05301942A (ja) | エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |