JPS62102969A - 磁気研摩装置 - Google Patents

磁気研摩装置

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JPS62102969A
JPS62102969A JP60241347A JP24134785A JPS62102969A JP S62102969 A JPS62102969 A JP S62102969A JP 60241347 A JP60241347 A JP 60241347A JP 24134785 A JP24134785 A JP 24134785A JP S62102969 A JPS62102969 A JP S62102969A
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polishing
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進村 武男
Eijiyuu Hatano
波田野 栄十
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、磁気を利用し磁性砥粒により加工物の表面
を研摩する磁気研摩方法に関する。
従来の技術 従来の磁気研摩方法は、閉磁気回路中のコイルに直流電
流を流して一対の磁極のうちの一方の磁極をN極に他方
の磁極をS極に固定した静磁界を利用したものである。
発明が解決しようとする問題点 従来は磁場が時間的に変動しない静磁界を利用した研摩
であり、磁界が時間的に変動する移動磁界の利用につい
ては究明されていない。磁界が時間的に変動する場合、
磁性砥粒は磁界の変動の強さに従う変動磁力を受けるた
め、静磁界の場合とはかなシ異った研摩挙動をするもの
と考案される。
従ってこの発明の目的は、回転磁界を利用した新規な磁
気研摩方法を提供することである。
問題点を解決するだめの手段 この発明は、等間隔に配置した少くとも3個以上の複数
のコイルにそれぞれ鉄心と磁極を設けかつリング−状ヨ
ークで複数の鉄心及び磁極を三和交。
流電源に接続すること、複数の磁極の先端面が形成する
空間内に磁極先端面にすきまを置いて加工物を回転可能
に配置すること、回転磁界形成回路に交流を流して前記
すきまに回転磁界を形成すること、前記すきまに磁性砥
粒を投入し加工物を回転して加工物の表面を研摩するこ
とを特徴とし、これにより回転磁界がもたらす磁性砥粒
の動的挙動効果がラッピングにおける遊離砥粒のころが
り切削的効果と同等のものを生じ、静磁界の場合に比べ
て大きな研摩量が得られるものである。
またこの発明は等間隔に配置した少くとも3個以上の複
数のコイルにそれぞれ鉄心と磁極を設けかつリング状ヨ
ークで複数の鉄心及び磁極を三相交流電源に接続するこ
と、複数の磁極の先端面が形成する空間内に磁極先端面
にすきまを置いて加工物を回転可能に配置すること、回
転磁界形成回路に竺相交流を流して前記すきまに回転磁
界を形成すること、前記すきまに磁性砥粒を投入し加工
物を回転して加工物の表面を研摩すること、次に直流励
磁回路に切換えて前記すきまに静磁界を形成すること、
そして静磁界を形成した前記すきまに磁性砥粒を投入し
加工物を回転して加工物の表面を仕上研摩することを特
徴とし、これにより回転磁界を形成した研摩によシ比較
的粗い前加工面粗さを短時間で所定の表面粗さとなし得
ることができ、次に静磁界を形成した研摩によりさらに
表面粗さを向上させ、かくて短時間に平滑な表面に仕上
げるものである。
以下この発明の詳細を図面に基いて説明する。
■、研摩装置の基本構成 回転磁界は、第1図に示すように、互いに向きを120
度ずらして配置した3個のコイル1.2及び3に三相交
流電流を流すことによって得られる。すなわち、下記の
式に示す各コイルがつくる4は変圧器である。
H,=:Hm  Sin Wt H2=Hm  5in(Wt−12Q°)H,=Hm 
Sin (Wt −240°)H= 1,5  Hm この回転磁界を研摩装置に応用するだめには、(1)研
摩用の磁極を設けること、(ii)加工域の磁界の強さ
を高めるため磁気回路の磁気抵抗を小さくすること、す
なわち、鉄心及びヨークを設けることが必要となる。第
2図に示すように、第1図に示す各コイル1.2.3を
それぞれ2分割してコイル11.1’、  コ−f /
l/ 2’、  2”、 :r イ/L/ 3’、31
1X′1トシこれら中心0に対して対称に配置し、各コ
イルを鉄心5の周りに巻付け、鉄心5の内方端部に磁極
6を一体に設け、鉄心5の外方端部に共通のリング状ヨ
ーク7を設けて複数の鉄心5及び磁極6を三相交流電源
R,SXTに変圧器4を介して接続する。円筒形加工物
8を加工対称とし、複数の磁極の先端面6aが形成する
空間内に磁極先端面にすきま9を置いて加工物8を回転
可能に配置する。
第1図に示す回転磁界の原理図から考えて第2図に示す
基本構成のうちコイルを3個としこれに従い磁極を3個
とすることも考えられる。
2、実施装置 第3図(イ)及び(ロ)に立てフライス盤(牧野フライ
ス製)テーブル上に設置できるように設計製作した研摩
装置の組立図を示す。フライス盤テーブル11上に磁気
絶縁材のアルミニウム台12を設置したのち、基板13
の上に、さらに磁気絶縁材のアルミニウム台14をおき
、それに5s41材のリング状ヨーク7と鉄心5及び6
個のコイル10と磁極6とから成る研摩装置を設置した
。鉄心5、磁極6、ヨーク7及びコイル10の配置は第
2図に示すものと同様である。加工物8はフライス盤の
主軸15にねじに螺着したナツト16により固定される
。コイルには線径1mmのネオマール線を1000巻し
た。磁極の先端面形状を、図示のように、鉄心断面積よ
り小さくして加工域の磁束密度が犬きくなるように工夫
した。なおコイルの巻数と鉄心及びヨークの断面寸法は
、磁気回路のパーミアンス計算を行い、加工域の設計磁
束密度1.2T、鉄心、ヨークの兆気飽和がない条件(
二より決定した。
3励磁回路の選定 研摩装置に回転磁界を与えるには、第1図に示す三相交
流を電圧降下させてコイルに供給する方法が考えられる
。第4図(イ)にこの励磁回路■を示す。第4図(ロ)
に示す波形は一つの磁極について、テスラメータとシン
クロスコープによって観測した加工域の磁場波形である
。第4図(ロ)において1000 Hzの搬送波に重畳
する包絡線で示される磁場強度波形は電源と同じ周波数
で正弦波形状に変動していることがわかる。第4図(イ
)に示す励磁回路■において、磁極、鉄心及びヨーク中
に流れる磁束の方向は1サイクルごとにN−8が変化す
る。
従って後述するように、普通の軟鋼材料を用いた場合に
は鉄損が生ずる。鉄損による電力消費と温度上昇を低く
するには、コイルに一方向の電流を流す必要があり、第
5図(イ)に示すように、コイルの前に直列にダイオー
ド17を挿入する励磁回路■を考案した。この励磁回路
Hにおける加工域の磁場強度(勾は、図示のように、直
流成分(Ao)に交流成分(BoSin wt )が重
畳された波形のものが得られた。コイルに一方向の電流
が流れる第5図(イ)に示す励磁回路Hについても磁場
の変動成分は太きいといえる(後述するように、この変
動成分が回転磁界を与えている)。
第5図(イ)に示す励磁回路Hに、さらに、コイルに並
列にダイオード18を挿入し、コイルの逆起電力を利用
して、変動磁場成分を小さくしたのが第6図(イ)に示
す励磁回路■である。第6図(ロ)に示す磁場波形が示
すように、変動成分の少ない回路となった。
変動磁場成分を含まない全波整流を流す直流励磁電源回
路■を第7図(イ)に示す。この励磁回路■にAC電圧
を全波整流して供給すると、コイルの直流抵抗とインダ
クタンスとで平滑回路を形成し、その結果、第7図(ロ
)に示すような完全な静磁場が得られる。
第4ないし7図に示す励磁回路■ないし■は、以下に示
す実験では、第2図に示す基本構成にすべて装着して各
種の接点を設けておき、適時接点を切ったり接続したり
して構成した。場合によっては第2図に示す基本構成に
それぞれの回路を設けてもよい。
まず、各励磁回路の回転磁界成分の有無を実験的に確認
した。すなわち、コイルに流れる励磁電流と回転トルク
の関係を第8図に示す。この回転トルクは、軸受支持し
て自由回転できるようにしたアルミニウム丸棒20(φ
50X20mm)を加工域に挿入し、回転磁界によって
発生するアルミニウム丸棒の回転力を測定することによ
って得た。
これは、加工域に磁性砥粒を充填しないときの実験であ
る。励磁回路■とHについて回転トルクの発生が見られ
る。これは、第4図(ロ)及び第5図(ロ)に示すよう
に、加工域の磁場強度Bの波形がB=A0+ 1%Si
n Wtで表わされるとしたときの変動成分BbSin
Wtがアルミニウム丸棒表面近傍にうず電流を発生させ
、アラボの円板の原理により回転トルクを発生したもの
と考える。励磁回路IIIと■は磁場の変動成分が極め
て小さく、回転トルクも発生しない。静的成分へは回転
トルクには関係しなく、変動成分が回転磁界成分になっ
ていることがわかる。
磁界の変動成分は、前述のように、磁極、鉄心及びヨー
クに鉄損(ヒステレシス損とうす電流積の和)を生じ、
電力消費量が犬きく、これが熱に変 変換される。この事象を確認するだめに行った美貌結果
を第9図に示す。すなわち、第3図に示す装置の磁極先
端から5fiの位置に、直径1龍、深さ7龍の穴を明け
、線径0.1雪鳳の銅・コンスタン熱電対を埋込んで、
磁極の温度上昇と励磁時間の関係を求めた。加工をして
いないときの値である。
励磁回路■と■の温度上昇が特に大きく、これに対応し
てワットメータで測定した消費電力も大きいことがわか
る。回転磁界(変動磁界)成分が大きい励磁回路は、電
力消費と装置の温度上昇に関する考慮が必要であり、極
く短時間の加工に利用されなければならないことを示し
ている。励磁回路■と■は温度上昇も小さく、電力の消
費も少ない。
作  用 加工条件は次の通シである。
加工物材質:軟鋼(8841)、焼入鋼(SK3、HR
C63) 加工物寸法:外径5Q1117N内径36艷の円筒体で
長さ20加のもの 加工物回転周速度:88m/。
加工物の上下方向送り量” ” rn7fnin (ス
ト。−り10龍) 加工物回転方向二回転磁界の方向と同方向及び逆方向 励磁回路:第4ないし第7図に示す励磁回路1fx・・
し■ 加工域の磁束密度二0.2〜1.2 T (励磁電流0
.3〜2A) 加工間隙(すきま)(加工物表面と磁極先端面間の間隙
) : III菖 研摩時間二0.5〜10分 加工液:不水溶性研削液(4%Wt、)磁性砥粒:平均
粒径5μmのl’2Q、と鉄を混合し、高温高圧下で真
空焼結後、粉砕、 整粒した平均粒径150μ切粒子 磁性砥粒供給iニア0g(その都度) 第3図において、加工物8をフライス盤の主軸15にそ
の加工面を磁極6の先端面6aに対応させて取付け、回
転磁界形成用の励磁回路■に交流を流して加工間隙9に
回転磁界を形成し、回転磁界を形成した加工間隙9に磁
性砥粒を投入し、加工物8を回転して加工物表面を研摩
する。
1、研摩結果 各励磁回路における加工挙動は、研摩量および加工物の
表面粗さを調べることによって明らかにできる。第10
図に、研磨量と研摩時間の関係を示す。加工物を磁界の
回転方向と同方向(図示の白印)と逆方向(図示の黒印
)に回転させたときの結果である。本加工の場合、加工
物回転方向の差異はほとんど見られない。研摩量は研摩
時間に対してほぼ直線的に増大する。また、研摩量は励
磁 磁回IIにおいて最も太きくm>m>■の順となってい
る。
次に、励磁電流を変化させて、第10図と同じような加
工を行い、研摩時間2分後の研摩量と加工域の磁束密度
の関係を求めると第11図を得た。
磁束密度が同じ値でも、励磁回路■が示すように、回転
磁界成分の大きい回路の研摩量は、回転磁界成分を含ま
ない回路に比べて著しく大きい。回転磁界成分は研摩量
を増大させる効果をもっといえる。
この加工機構を調べるために、第12図に示すように、
第8図のアルミニウム丸棒の代わりに同寸法の強磁性体
ローラ21(8841材)を用ぺさらに、加工域に磁性
砥粒22を充填して、コイルに励磁電流を流したときの
強磁性体ローラ22の摩擦トルクを測定した。その結果
、図示のように励磁回路IV>III>II〉Iの順に
摩擦トルクが小さくなることがわかった。
第12図の励磁電流を磁束密度に換算して、第11図と
第12図により、それぞれの励磁回路について研摩量と
摩擦トルクの関係を求めると第13図を得た。第13図
において、例えば、励磁回路■を用いれば、他の回路に
比べて小さな摩擦トルクでしかも大きな研摩量を得るこ
とができることがわかる。
この加工機構は次のように考えられる。すなわち、励磁
回路■の摩擦トルクが小さい事象は、静磁界(回路■の
場合)によシ生ずる磁性砥粒の大きな研摩圧力に基づく
摩擦力に比べて、回転磁界による磁性砥粒の圧力は小さ
く、その挙動は磁界の変動に従って動的な様相を呈し磁
性砥粒の攪拌作用や振動運動が助長された結果生じたも
のと考える。つまり励磁回路■の場合、研摩材は加工物
のまわりに介在し、ころがりながら、かつ、磁場により
押しつけられて、研摩していると考えられる。また励磁
回路■の場合、乾式ラッピングのように、ラップ内に磁
粒がうめこまれたような状態で、研摩材が存在し、磁場
によ)押しつけられて研摩していると考えられる。この
回転磁界がもたらす磁性砥粒の動的挙動効果が、ラッピ
ングにおける遊離砥粒のころがシ切削的効果を生じ、従
って、摩擦力が小さく、シかも大きな研摩量が得られた
ものと考える。この場合の表面粗さは、静磁界の場合に
比べて粗目となり、梨地面を呈する。
第14図に表面粗さの測定結果を示す。加工前の粗さ2
 urn Rmax、加工後の粗さOe5 μm Rm
a4最後の粗さQ、 l 5 um Rmax  の状
況を図示しである。○印と串印(白印は加工物回転方向
が回転磁界の方向と同方向、魚卵は逆方向)が示す励磁
回路■の表面粗さについては、加工前の2μm Rma
xの研削面が30秒の加工時間でQ、5 am Rma
xに向上し、以後、加工を続けても向上しない。一方、
例えば、静磁界を与える励磁回路■では、到達でききる
最終の表面粗さは0,15μm Rmax  にまで向
上できるが、反面、加工時間は約3分間を要する。
以上のように、回転磁界成分の大きい励磁回路例えば回
路fによる加工は、到達し得る表面粗さに限界はあるが
、研摩量が犬きく加工能率を向上させることがわかった 2、高能率磁気研摩法の開発 前節で述べたように、回転4a界成分の大きい励磁回路
は加工能率を向上させる。そこで、加工当初の狙い前加
工面除去過程では励磁回路■を用いることにより、短時
間で所定の表面粗ざが得られる。その後、励磁回路をI
Vに切換えて加工間隙に静磁界を形成し、この静磁界を
形bi・した間隙に磁この方法によれば、励磁回路■の
大きな電力消費と温度上昇の欠点は研摩時間の短縮によ
って補償できる。
第15図に焼入れ鋼加工物(SK4、HRC63)を用
いて、この能率的加工法を実験確認した結果を示す。○
印が示すように、静磁界を与える励磁回路■を用いると
0.2μm Rmax  の表面粗さを得ることはでき
るが10分の長い加工時間を要する。
う 一方、・印が示すよiに、回転磁界を与える励磁回路■
では、約3分の短い加工時間で0.5μmRRmax程
度の表面粗さに向上できる。しかし、それ以上の粗さに
向上することはできない、そこでl寥 点線で示すように、加工当初の】分I−’)b励磁回路
■を用いて 2am Rmax  の前加工面粗さを0
.8μm Rmax  としだ後(■印−が示すt1時
間)、励磁回路■に切換えて、図示のち時間(−4分)
加工したところ、t、 + t2= 5分で0,2 u
m Rmax  (7)表面粗さを得ることができだ。
このときの加工物の表面は平滑な表面に仕上がっている
。これを当初より、励磁回路1■を用いて加工した場合
に比べると、加工時間が半減でき、温度上昇も低い値に
おさえられることがわかった。
この明細書の第1発明で規定する回転磁界形成回路とは
回転磁界成分をよむ回路例えば励磁回路r又はIIを指
し、この明細書の第2発明で規定する回転磁界形成回路
とは回転磁界成分の大きい回路例えば励磁回路■を指す
。またこの明細書の第2発明で規定する直流励磁回路と
は全波整流を流して静磁界を形成する回路■を指す。
実施例 第3図に示す実施装置では加工物の長さか207n+!
+程度であるだめ加工物の上下方向の送りを10III
II+程度のストロータで加工物の全長を研摩している
が、よシ長尺の加工物の全長を研摩する場合は、加工物
をその軸線に沼って移動させるか或はコイル、ヨークを
きむ磁極全体を固定した加工物の軸線に溢って移動させ
るとよい。
発明の効果 この発明は、少くとも3個以上の複数の磁極間に回転磁
界を形成し、該回転磁界内に磁性砥粒を保持して研摩す
るので、磁性砥粒は磁界の変動に従って動的な様相を呈
し、磁性砥粒の攪拌や振動が助長され、この回転磁界が
もたらす磁性砥粒の動的挙動効果がラッピングにおける
遊離砥粒のころがり切削的効果をもたらし、従って大き
な研摩量が得られ加工能率を向上するという効果が得ら
れる。
まだこの発明は、少くとも3個以上の複数の磁極間に回
転磁界を形成して該回転磁界内に磁性砥粒を保持して研
摩した後、励磁回路を切換えて磁極間に回転磁界の代シ
に静磁界を形成し、該静磁界内に磁性砥粒を保持して研
摩するという全く新規な磁気研摩方法を提供し、回転磁
界による磁性砥粒の動的挙動効果により短時間で所定の
表面粗さを得た後、静磁界によシさらに表面粗さを向上
させ、これにより短時間で平滑な加工面に仕上がるとい
う効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は三相交流によって生ずる回転磁界の原理を示す
概要図、第2図は研摩装置の基本構成を示す概要図、第
3図(イ)は実施装置を一部断面で示す立面図、第3図
(ロ)は第3図(イ)のA−A線に沿ってとられた概略
平面図、第4図(イ)は励磁回路■を示す概略図、第4
図(ロ)は励磁回路■の磁場波形図、第5図(イ)は励
磁回路■を示す概要図、第5図(ロ)は励磁回路■の磁
場波形図、第6図(イ)は励磁回路■を示す概要図、第
6図(ロ)は励磁回路■の磁場波形図、第7図(イ)は
励磁回路■を示す概要図、第7図(ロ)は励磁回路■の
磁場波形図、第8図はアルミニウム丸棒の回転トルクと
励磁電流の関係を示すグラフ図、第9図は磁極の温度上
昇と消費電力の関係を示すグラフ図、第10図は研摩量
と研摩時間の関係を示すグラフ「、第11図は研摩量と
磁束密度の関係を示すグラフ図、第12図は摩擦トルク
と励磁電流の関係を示すグラフ図、第13図は研摩量と
摩擦トルクの関係を示すグラフ図、第14図は表面粗さ
と研摩時間の関係を示すグラフ図、第15図は高能率磁
気研摩法による表面粗さと研摩時間の関係を示すグラフ
図である。 1!、  1lX21. 21X3!、31−・・・・
・・・・コイル、5・・・・・・・・・鉄心、    
6・・・・・・・・・磁極、7・・・・・・・・・ヨー
ク、   8・・・・・・・・・加工物、R,S、T・
・・・・・・・・三相交流電源、9・・・・・・・・・
すきま、 LII・・・・・・・・・回転磁界形成回路、IV・・
・・・・・・・直流励磁回路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、等間隔に配置した少くとも3個以上の複数のコイル
    にそれぞれ鉄心と磁極を設けかつリング状ヨークで複数
    の鉄心及び磁極を三相交流電源に接続すること、複数の
    磁極の先端面が形成する空間内に磁極先端面にすきまを
    置いて加工物を回転可能に配置すること、回転磁界形成
    回路に交流を流して前記すきまに回転磁界を形成するこ
    と、前記すきまに磁性砥粒を投入し加工物を回転して加
    工物の表面を研摩することを特徴とする磁気研摩方法。 2、加工物をその軸線に沿つて移動させるか或はコイル
    、ヨークを含む磁極全体を加工物の軸線に沿つて移動さ
    せることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の磁
    気研摩方法。 3、等間隔に配置した少くとも3個以上の複数のコイル
    にそれぞれ鉄心と磁極を設けかつリング状ヨークで複数
    の鉄心及び磁極を三相交流電源に接続すること、複数の
    磁極の先端面が形成する空間内に磁極先端面にすきまを
    置いて加工物を回転可能に配置すること、回転磁界形成
    回路に交流を流して前記すきまに回転磁界を形成するこ
    と、前記すきまに磁性砥流を投入し加工物を回転して加
    工物の表面を研摩すること、次に直流励磁回路に切換え
    て前記すきまに静磁界を形成すること、そして静磁界を
    形成した前記すきまに磁性砥粒を投入し加工物を回転し
    て加工物の表面を仕上研摩することを特徴とする磁気研
    摩方法。 4、加工物をその軸線に沿つて移動させるか或はコイル
    、ヨークを含む磁極全体を加工物の軸線に沿つて移動さ
    せることを特徴とする特許請求の範囲第3項に記載の磁
    気研摩方法。
JP60241347A 1985-10-30 1985-10-30 磁気研摩装置 Granted JPS62102969A (ja)

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04210367A (ja) * 1990-12-08 1992-07-31 Kyoei Denko Kk 磁気研磨装置用磁性工具
JPH04210368A (ja) * 1990-12-08 1992-07-31 Kyoei Denko Kk 磁気研磨装置
JPH04256569A (ja) * 1990-12-07 1992-09-11 Kyoei Denko Kk 磁気研磨装置
JP2010012572A (ja) * 2008-07-04 2010-01-21 Chubu Plant Service Co Ltd 非磁性管内面研磨装置
CN108127485A (zh) * 2017-11-29 2018-06-08 辽宁科技大学 一种用于内孔膛线槽光整去毛刺的设备及工艺
CN108145538A (zh) * 2017-11-29 2018-06-12 辽宁科技大学 用于波纹筒筛孔毛刺去除的设备及工艺
CN108687573A (zh) * 2018-05-23 2018-10-23 山东理工大学 一种自动化磁场辅助光整加工装置及方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS532518A (en) * 1976-06-29 1978-01-11 Kamaya Kagaku Kogyo Co Ltd Method of applying matte coating on glass
JPS6034264A (ja) * 1983-08-06 1985-02-21 Toubu M X Kk 磁気研摩仕上装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS532518A (en) * 1976-06-29 1978-01-11 Kamaya Kagaku Kogyo Co Ltd Method of applying matte coating on glass
JPS6034264A (ja) * 1983-08-06 1985-02-21 Toubu M X Kk 磁気研摩仕上装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04256569A (ja) * 1990-12-07 1992-09-11 Kyoei Denko Kk 磁気研磨装置
JPH04210367A (ja) * 1990-12-08 1992-07-31 Kyoei Denko Kk 磁気研磨装置用磁性工具
JPH04210368A (ja) * 1990-12-08 1992-07-31 Kyoei Denko Kk 磁気研磨装置
JP2010012572A (ja) * 2008-07-04 2010-01-21 Chubu Plant Service Co Ltd 非磁性管内面研磨装置
CN108127485A (zh) * 2017-11-29 2018-06-08 辽宁科技大学 一种用于内孔膛线槽光整去毛刺的设备及工艺
CN108145538A (zh) * 2017-11-29 2018-06-12 辽宁科技大学 用于波纹筒筛孔毛刺去除的设备及工艺
CN108687573A (zh) * 2018-05-23 2018-10-23 山东理工大学 一种自动化磁场辅助光整加工装置及方法
CN108687573B (zh) * 2018-05-23 2020-04-24 山东理工大学 一种自动化磁场辅助光整加工装置及方法

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Publication number Publication date
JPH0248391B2 (ja) 1990-10-24

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