JPS6210034A - ジフエニルエ−テルの臭素化誘導体の調製方法 - Google Patents

ジフエニルエ−テルの臭素化誘導体の調製方法

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JPS6210034A
JPS6210034A JP61157143A JP15714386A JPS6210034A JP S6210034 A JPS6210034 A JP S6210034A JP 61157143 A JP61157143 A JP 61157143A JP 15714386 A JP15714386 A JP 15714386A JP S6210034 A JPS6210034 A JP S6210034A
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JP
Japan
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diphenyl ether
solvent
incompletely
ether
brominated
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JP61157143A
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ロベール デコーダン
ベルナール ギュルトゥネ
アンドレ ガニュール
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Arkema France SA
Original Assignee
Atochem SA
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    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C41/00Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
    • C07C41/01Preparation of ethers
    • C07C41/18Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds
    • C07C41/22Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds by introduction of halogens; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms

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  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明の目的はジフェニルエーテルの臭素化誘導体の調
製方法を提供することである。本発明は特に1分子当た
り8〜lO個の臭素原子を含む誘導体に関するものであ
り、より正確には、本発明は不完全臭素化生成物を得る
ことおよび該不完全臭素化生成物を過臭素化生成物に転
化することを目的とする。
本明細書においては、簡単にするために10個の臭素原
子を含むジフェニルエーテルを「過臭素化生成物」と呼
び、10個以下の臭素原子を含むジフェニルエーテルを
[不完全臭素化生成物」と呼ぶことにする。
ジフェニルエーテル、臭素化触媒、有機溶媒および臭素
化剤を使用する本発明による方法は、下記の工程を含む
ことを特徴としている。すなわち、a)ジフェニルエー
テル、臭素化触媒および有機溶媒を含む混合物に臭素化
剤を段階的に添加し、該臭素化剤を目的とする不完全臭
素化生成物の、臭素の化学量論量にほぼ匹敵する量で使
用し、b)一方で溶媒を含浸した不完全臭素化ジフェニ
ルエーテル(III)が、他方では不完全臭素化ジフェ
ニルエーテル(III)を含む粗製溶媒(II)が得ら
れるまで反応を進行せしめ、 C)前記粗製溶媒(II)に臭素化触媒を添加し、かつ
この混合物に不完全臭素化ジフェニルエーテル(III
)の過臭素化に必要な化学量論的量よりも過剰モル量で
臭素化剤の段階的な添加を行ない、d)前記有機溶媒の
還流温度まで工程上において得られた媒質の温度を上昇
せしめ、過臭素化反応が完了するまでこの温度に維持し
、 e)冷却後、一方でわずかの溶媒を含む過臭素化ジフェ
ニルエーテル(IV)および他方でこの溶媒を得て、 f)それぞれ工程上および工程ヱにおいて得られた不完
全臭素化ジフェニルエーテル(III)および過臭素化
ジフェニルエーテル(IV)を乾燥する。
明細書においては、用語「工程」または「段階」は区別
なく異なる操作a −fを表わすため使用する。
本発明では、出発物質としてジフェニルエーテル: を使用する。
本発明がそのような物質を含む混合物、特に不十分に臭
素化されたジフェニルエーテルすなわち、1分子当たり
8個以下の臭素原子を含むような生成物の混合物にまで
及ぶことは言うまでもない。
本明細書において、それぞれの物質に対する用語(触媒
、臭素化剤、溶媒)は、区別なく単一物質または同じ性
質のいくつかの物質の混合物を示す。臭素化剤は芳香環
の臭素化用の公知物質から選択することができる。臭素
化剤は臭素自体であることが有利である。
本方法においては、文献に記載されている種々の触媒を
使用することができる。これについては米国特許第4.
287.373号を参照することができる。
アルミニウムのような金属が使用できるが、ハロゲン化
アルミニウム特に塩化アルミニウムまたは臭化アルミニ
ウムを含む群から選ばれるハロゲン化物を選択すること
が有利である。触媒は粒子または塊状で、平均粒径は、
0.05〜15mmの範囲であり得るが、これらの値は
知見としてのみ提示されるものである。非金属触媒は非
晶質または結晶質構造を有することができる。
本方法においては、臭素化反応は有機溶媒中で行なわれ
る。一般にこの溶媒はハロゲン化炭化水素から選択でき
る。これらの中で、1個の炭素原子を含み臭素および/
または塩素で置換された炭化水素が推奨され、好ましく
は臭化メチレンが望ましい。
本発明による方法においては、上記種々の薬剤および試
薬は次のような比率で使用することが有利である。すな
わち、 臭素化触媒は、ジフェニルエーテル1モル当たり2〜2
0モル%の割合で使用し、 溶媒は、本方法における出発ジフェニルエーテル1モル
当たり1〜6モルの割合で使用し、臭素化剤に関しては
、工程Cにおける不完全臭素化ジフェニルエーテル(I
II)の過臭素化に必要とされる化学量論的量に対する
過剰モル量が10%以下、好ましくは3〜8%の範囲で
あり、これらの値は不完全臭素化ジフェニルエーテルの
過臭素化に必要とされる化学量論量に基いて計算され、
後述の追加のジフェニルエーテルをも考慮して計算され
る。
本発明の方法における工程旦、上、至およびヱは室温ま
たは少なくとも20〜50℃の範囲内で行なわれる。本
方法による工程上における温度は使用される溶媒に依存
する。かくして臭化メチレンを用いた特定の場合におい
て、大気圧で行なわれる反応に対しては温度は約95〜
99℃の範囲である。
本方法における工程」の乾燥温度については、該温度は
当然9、形成される生成物の性質、使用される溶媒およ
び乾燥自体の条件に依存する。一般にこの温度は50℃
以上かつ不完全臭素化化合物または過臭素化化合物の融
点以下である。
本発明による方法において、工程旦はジフェニルエーテ
ル、臭素化触媒および有機溶媒を含む混合物に臭素化剤
を段階的に添加することを含む。
まず第一に有機溶媒中にジフェニルエーテルおよび触媒
を攪拌しながら浸漬させることにより、前記混合物を調
製することが有利である。臭素化剤の供給は前記混合物
中に連続的にまたは断続的に注入することにより行なわ
れる。一般に、この注入操作の時間は1〜10時間の範
囲である。すなわちこれらの値は1桁程度と見なされる
。注入自体に続き、反応工程と呼ばれる反応を進行・完
了せしめる工程がある。この工程(本方法における工程
上)に要する時間は数時間以下、例えば4時間以下であ
る。
反応工程同様、実際の注入工程は好ましくは媒質を攪拌
しつつ行なう。
不完全臭素化ジフェニルエーテル(r)および粗製溶媒
(■)(本発明における工程b)は、媒質の精製および
液体/固体分離操作により得ることが有利である。これ
は本質的に次のような操作を含む。すなわち、例えば水
の添加、適切な場合には酸性化した水の添加による前記
触媒の失活、次いで場合によっては例えばナトリウムメ
タビサルファイトまたはヒドラジンの使用による残留臭
素化剤(特にBr2)の分解、前記触媒を含む上澄水相
のデカンテーションおよび除去、最終的な水での洗浄操
作次いで脱水を行なうことにより一方において溶媒を含
浸した不完全臭素化ジフェニルエーテル(III)を、
他方においては溶液中にわずかの不完全臭素化ジフェニ
ルエーテル(III)を含む粗製溶媒(■)を回収する
工程。
本発明における工程至およびその変法によれば、ジフェ
ニルエーテルは不完全臭素化ジフェニルエーテルに対し
100モル%以下の量で粗製溶媒(II)に添加する。
溶媒はまた前記比率の限度内にて添加することができる
工程1における溶媒の還流温度の維持は30分〜2時間
の範囲内である。
一方におけるわずかな溶媒を含む過臭素化ジフェニルエ
ーテル(IV)の回収および他方にふける本方法の工程
至による溶媒の回収は、上記精製および固体/液体分離
操作のすべてまたは一部を必要な変更を加えながら行う
ことが有利である。この工程eにおいて使用されている
冷却とは、媒質を周囲温度即ち通常の場合20〜50℃
の範囲の温度に戻すことを意味している。
本発明における方法は、上記一連の工程a −eのみを
含む。すなわち不完全臭素化ジフェニルエーテル(II
)の乾燥工程」は工程上の後任意の時点で行われる。
本発明による方法の特に有用な変法によれば、操作Aお
よび上は工程至およびそれに続く操作の前にn回(II
は例えば1〜5の範囲の数である)繰り返され、かつ前
記操作は工程上の粗製溶媒IIを「有機溶媒」として使
用し、更に粗製溶媒(II)に十分な量の新たな溶媒を
添加することにより工程旦において使用される量まで有
機溶媒の量を回復させることにより行なわれる。
不完全臭素化化合物の調製においては、一般に目的とす
る化合物の外にかなりの割合、例えば15〜20%また
は更に多量の不完全臭素化生成物を含む溶液が生成する
。この溶液を何度も再利用することにより、前記生成物
の損失を制限することばできるが、その性質特に色に関
してはその変化を制限できない。本発明による方法にお
いて、かくして溶液の形で存在する不完全臭素化生成物
を過臭素化生成物に転化することが可能であり、得られ
た過臭素化生成物はそれ自体特に不燃剤として貴重な生
成物である。
純粋な知見として本方法は高収率(90%以上または9
5%以上の、出発時に使用されたジフェニルエーテルに
対して回収される不完全臭素化生成物および過臭素化生
成物のモル収率)でジフェニルエーテルを臭素化するこ
とが可能である。
下記実施例にて本発明を説明する。
実施例1 a)435gの臭化メチレンを含む反応器に85gのジ
フェニルエーテル 10gの塩化アルミニウム を攪拌しながら添加する。
640gの臭素を室温(25℃)にて3時間かけて前記
混合物に注入する。その混合物を同一の温度(25℃)
で更に2時間維持した後、100gの水を添加すること
により触媒を失活させる。
ヒドラジン水溶液にて少量の残留臭素を分解した後、失
活した触媒を含む上澄水相のデカンテーションと除去を
行なう。次いで水洗、デカンテーション操作を3回行な
う。有機相を濾過し、乾燥を行なう。
下記の相が回収される。
・溶媒を含浸した不完全臭素化ジフェニルエーテルA1 ・溶解した不完全臭素化ジフェニルエーテルを含む溶媒
を含む相B1 b) 相A1を(減圧下、3時間、70℃で)乾燥し、
1分子当たり平均して8.2原子の臭素を有する不完全
ジフェニルエーテル287.3 gを得る。
39、6 g (D臭化メチレン、12.6gのジフェ
ニルエーテルベおよび5.4gの塩化アルミニウムを攪
拌しつつ、周囲温度下で、1分子当たり7.43個の臭
素原子を有する26゜9%の溶解生成物を含む相B1の
アリコートの一部(271g)に添加する。
167gの臭素を23℃でこの混合物に1時間かけて注
入する。
混合物全体を沸点まで上昇させ、1時間溶媒の還流温度
に維持する。
上記旦において述べた精製および分離操作の後、溶媒を
含浸した過臭素化ジフェニルエーテル相A2および溶媒
相B2(平均臭素化度9.5の5゜6%不完全臭素化ジ
フェニルエーテル溶液)が得られる。
相A2の乾燥の後、1.41.7gの過臭素化ジフェニ
ルエーテルが得られる。
実施例2 a )  1.092Kgの臭化メチレンを含む反応器
に、209Kgのジフェニルエーテルおよび25Kgの
塩化アルミニウム を添加する。
1、608Kgの臭素を周囲温度で5時間30分かけて
注入した後2時間この温度(25℃)に維持する。
実施例1と同様の精製/分離操作を行ない、相A。
(溶媒を含浸した不完全臭素化ジフェニルエーテル)お
よび相B + (溶解した不完全臭素化誘導体を含む溶
媒)を得る。
b ) 20.4重量%の溶解生成物(平均臭素化度7
.4)を含む溶液B1 に 110Kgの臭化メチレン 209Kgのジフェニルエーテルおよび25Kgの塩化
アルミニウム を添加する。
1.614Kgの臭素を25℃でこの混合物に5時間3
0分かけて注入した後、25℃で2時間維持する。
上記操作の後、相A2(溶媒を含浸した不完全臭素化ジ
フェニルエーテル)および相B2(溶解した臭素化誘導
体を含む溶媒)を得る。
C)溶液B 2 (平均臭素化度7.4の溶解生成物2
4.6重量%含む)に、 115Kgの臭化メチレン 210Kgのジフェニルエーテルおよび25Kgの塩化
アルミニウム を添加する。
1、623Kgの臭素をこの混合物に注入する(25℃
で5時間30分かけて行なう)。
適切な操作の後 相A3(溶媒を含浸した不完全臭素化ジフェニルエーテ
ル)及び 相B3(溶解臭素化誘導体を含む溶媒)を得る。
d)溶液B 3 (平均臭素化度7.4の溶解生成物2
4.5重量%含有)に、 40、1Kgのジフェニルエーテルおよび20Kgの塩
化アルミニウム を添加する。
580Kgの臭素をこの混合物に25℃で2時間かけて
注入する。
沸点まで加熱し、1時間この温度に維持しかつ冷却した
後、上記精製/分離操作を行ない、・溶媒を含浸した過
臭素化ジフェニルエーテルを含む相A4 、および ・溶媒相B4 (2,6重量%の溶解不完全臭素化シフ
、二ニルエーテル)を得る。
A+ SA2 、A3およびA4を乾燥した後、・・2
.460Kgの不完全臭素化ジフェニルエーテル(平均
臭素化度8.1)および ・578Kgの過臭素化ジフェニルエーテルを得る。
溶媒B、におけるジフェニルエーテルの損失は2%以下
であった。
実施例3 実施例2の手順をくり返し、下記比率の試薬を用い、4
種の不完全臭素化ジフェニルエーテル相および過臭素化
ジフェニルエーテル相を調製する。
(溶液Bhはその操作において使用される、前の相から
得られる溶液を表わす)。
相A+ 、A2 、A3 、A4およびA5を乾燥した
後3.640Kgの不完全臭素化ジフェニルエーテル(
平均臭素化度8.1)および 650Kgの過臭素化ジフェニルエーテルを得る。
最終溶液B5は5.75%の溶解不完全臭素化ジフェニ
ルエーテルを含む。
溶媒Bs におけるジフェニルエーテルの総損失量は2
%以下であった。
不完全臭素化および過臭素化生成物の収率(モル量で)
は、出発時に使用されたジフェニルエーテルに対して9
6%以上である。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ジフェニルエーテル、臭素化触媒、有機溶媒およ
    び臭素化剤を使用して不完全臭素化生成物を調製し、か
    つ前記不完全臭素化生成物を過臭素化生成物に転化する
    方法であって、 a)ジフェニルエーテル、臭素化触媒および有機溶媒を
    含む混合物に臭素化剤を段階的に添加し、かつ前記臭素
    化剤を、目的とする前記不完全臭素化生成物の臭素に対
    する化学量論量にほぼ匹敵する量にて使用し、 b)一方で溶媒を含浸した不完全臭素化ジフェニルエー
    テル( I )、および他方で不完全臭素化ジフェニルエ
    ーテル(III)を含む粗製溶媒(II)を得るまで反応を
    進行せしめ、 c)前記臭素化触媒を粗製溶媒(II)に添加し、かつ前
    記混合物に不完全臭素化ジフェニルエーテル(III)の
    過臭素化に必要な化学量論量よりも過剰モル量の臭素化
    剤を段階的に添加し、 d)上記工程¥c¥において得られた媒質の温度を前記
    有機溶媒の還流温度にまで上昇せしめ、かつ過臭素化反
    応が完了するまで該温度に維持し、 e)冷却後、一方においてわずかの溶媒を含む過臭素化
    ジフェニルエーテル(IV)および他方において溶媒を得
    て、 f)上記工程¥b¥および¥e¥それぞれにおいて得ら
    れた不完全臭素化ジフェニルエーテル( I )および過
    臭素化ジフェニルエーテル(IV)を乾燥する、工程を含
    むことを特徴とする上記方法。
  2. (2)前記工程¥c¥およびそれに続く操作の前に工程
    ¥a¥および¥b¥をn回くり返すことを含み、nは1
    〜5の範囲の数であり、かつ前記操作を、工程¥b¥の
    粗製溶媒IIを「有機溶媒」として使用し、前記有機溶媒
    の量を粗製溶媒(II)に十分な量の新しい溶媒を添加す
    ることにより工程¥a¥において使用される量まで回復
    させることにより行なうことを特徴とする特許請求の範
    囲第1項に記載の方法。
  3. (3)前記工程¥c¥において、ジフェニルエーテルを
    不完全臭素化ジフェニルエーテル(III)に対して10
    0モル%の量で粗製溶媒(II)に添加することを特徴と
    する特許請求の範囲第1〜2項のいずれか1項に記載の
    方法。
  4. (4)前記臭素化剤が臭素であることを特徴とする特許
    請求の範囲第1〜3項のいずれか1項に記載の方法。
  5. (5)前記臭素化触媒が塩化アルミニウムおよび臭化ア
    ルミニウムを含む群より選ばれるハロゲン化アルミニウ
    ムであることを特徴とする特許請求の範囲第1〜4項の
    いずれか1項に記載の方法。
  6. (6)前記有機溶媒がハロゲン化炭化水素であることを
    特徴とする特許請求の範囲第1〜5項のいずれか1項に
    記載の方法。
  7. (7)前記溶媒が臭化メチレンであることを特徴とする
    特許請求の範囲第6項に記載の方法。
  8. (8)前記触媒の量がジフェニルエーテル1モル当たり
    2〜20モル%の範囲にあることを特徴とする特許請求
    の範囲第1〜7項のいずれか1項に記載の方法。
  9. (9)前記溶媒を、工程¥a¥において、出発時に使用
    されるジフェニルエーテルの1モル当たり1〜6モルの
    割合で使用することを特徴とする特許請求の範囲第1〜
    8項のいずれか1項に記載の方法。
  10. (10)前記工程¥c¥の不完全臭素化ジフェニルエー
    テル(III)の過臭素化に必要な化学量論的量に対する
    臭素化剤の過剰モル量が10%以下、好ましくは3〜8
    %の範囲にあり、かつこれらの値が特許請求の範囲第3
    項記載の添加ジフェニルエーテルのために場合によって
    は増大する不完全臭素化ジフェニルエーテルの過臭素化
    に必要な化学量論量に対して計算されることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1〜9項のいずれか1項に記載の方
    法。
  11. (11)前記不完全臭素化生成物としてのオクタブロモ
    ジフェニルエーテルおよび前記過臭素化生成物としての
    デカブロモジフェニルエーテルの調製に適用される特許
    請求の範囲第1〜10項のいずれか1項に記載の方法。
  12. (12)特許請求の範囲第1〜11項のいずれか1項に
    記載の方法により得られるオクタブロモジフェニルエー
    テルおよび/またはデカブロモジフェニルエーテル。
JP61157143A 1985-07-03 1986-07-03 ジフエニルエ−テルの臭素化誘導体の調製方法 Pending JPS6210034A (ja)

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