JPS6199392A - Mis型発光ダイオ−ド - Google Patents

Mis型発光ダイオ−ド

Info

Publication number
JPS6199392A
JPS6199392A JP59220806A JP22080684A JPS6199392A JP S6199392 A JPS6199392 A JP S6199392A JP 59220806 A JP59220806 A JP 59220806A JP 22080684 A JP22080684 A JP 22080684A JP S6199392 A JPS6199392 A JP S6199392A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
upper electrode
emitting diode
znse layer
concentration
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59220806A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuo Tabuchi
田渕 一夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP59220806A priority Critical patent/JPS6199392A/ja
Publication of JPS6199392A publication Critical patent/JPS6199392A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/26Materials of the light emitting region
    • H01L33/28Materials of the light emitting region containing only elements of Group II and Group VI of the Periodic Table
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/0004Devices characterised by their operation
    • H01L33/0037Devices characterised by their operation having a MIS barrier layer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 何) 産業上の利用分野 本発明はMIS型発光発光ダイオードする。
(ロ)従来の技術 半導体結晶の表面層;絶縁膜を介して一方の電極を設け
た。特C;青色発光を行なうMIS型発光発光ダイオー
ドに知られている(例えば、研究実用化報告第27巻第
3号(1978)第537頁〜第548頁)。
第3図は、従来のこの種発光ダイオードを示し、(1)
はG&Al基板、(2)は該基板上に結晶成長されたn
型Zn5e層、(3)は絶縁1!、/(4)は上部電極
(5)はznse層(2)の側面に設けられたオーミッ
ク性の側部電極である。
斯る従来のMIS構造:ユおいて、上部電極(4)C;
対するもう一方の側部を枠(5)は1本来は()!LA
li対してそれを妨げるとと(、GaAB基板(1)と
Z n 86Im(2)との界面に電気的障壁が形成さ
れる。
このため上記電極(5)は、znse側面より取出して
いる。このような構造においては、上部電極(4)の周
辺に電界が集中し1発光むらが生じるという欠点があっ
た。
(ハ)発明が解決しようとする問題点 本発明は、上記上部電極周辺での電界集中を緩和させ、
発光状態の改善を図るものである。
に)問題点を解決するだめの手段 本発明は、半導体結晶の表面に絶縁膜を介して上部電極
を設けると共に、上記半導体結晶の側面(=側部電極を
設けたMIIE型発光ダイオードにおいて、上記半導体
結晶表面の外周部分を高抵抗:;なしたことを特徴とす
る。
(ホ)作 用 本発明によれば、半導体結晶の外周部分が高抵抗である
ので、上部電極周辺での電界集中が少なくなる。
(へ)実施例 本発明実施例の発光ダイオードを、説明の都合上、その
製造工程Ill l二説明する。
第1図Aに示す第1工程において、GILAII基板(
101上へz n 8 e *(111上m晶成長f 
ル(:l−[シ、 82図に示す如く、成長表面(:な
るに従い、キャリア濃度を除々に減少させる。すなわち
n型ドーパント例えばGa1llを除々C二減少させ本
来の発光領域でのキャリア濃度5X 1Q ”(clm
”)から表面C:おいてはlX1Q   (clL )
程度マチ、約2μmにわたり、除々にキャリア濃度を減
少させ高抵抗領域(ila)を得る。
第1図Bに示す第2工程において、将来上部電極の直下
(:位置するznSe層(111の表面を約2μm深さ
までエツチングして、上記の如く、キャリア濃度を変化
させた部分を除去し、凹所σ2を形成する。
@2図01−示す最終工程において、ZnS@IIaυ
上に絶縁膜a3を形成し1次いで、凹所直上(−1部電
極α4を設け、最後にznse層aυの側面に側部電極
(Isを形成してMXB型発光発光ダイオード成される
。絶縁膜α3としては1例えば70A厚さの8102膜
が、父上部電極■としては例えば150大厚さのAll
膜が、更(こ側部電極(151としては例えばInが夫
々適当である。
上記実施例で1Ml8構造を構成する半導体結晶層とし
てzn8eが用いられたが、他の半導体材料も使用でき
る。
(ト)  発明の効果 本発明によれば、半導体結晶の外周部分が高抵抗である
ので、上部電極周辺での電界集中が少なくなり、発光分
布がより均一なものとなる。
尚、上記高抵抗領域として、実施例の如く、キャリア濃
度を結晶表面I:向けて除々に小さくすることにより、
電界集中の緩和をより効果的になすことができる。
【図面の簡単な説明】
@1重入力至Cは本発明を説明するだめの製造工程別[
’r面図、第2図は濃度分布曲線図、@3図は従来例を
示す断面図である。 (11)−znsel!lI、 (11& )・・・高
抵抗領域、 (13・・・絶縁膜、(141・・・上部
電極、(Lり・・・側部電極。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体結晶の表面に絶縁膜を介して上部電極を設
    けると共に、上記半導体結晶の側面に側部電極を設けた
    MIS型発光ダイオードにおいて、上記半導体結晶表面
    の外周部分を高抵抗になしたことを特徴とするMIS型
    発光ダイオード。
JP59220806A 1984-10-19 1984-10-19 Mis型発光ダイオ−ド Pending JPS6199392A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59220806A JPS6199392A (ja) 1984-10-19 1984-10-19 Mis型発光ダイオ−ド

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59220806A JPS6199392A (ja) 1984-10-19 1984-10-19 Mis型発光ダイオ−ド

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6199392A true JPS6199392A (ja) 1986-05-17

Family

ID=16756854

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59220806A Pending JPS6199392A (ja) 1984-10-19 1984-10-19 Mis型発光ダイオ−ド

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6199392A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0232570A (ja) * 1988-07-21 1990-02-02 Sharp Corp 化合物半導体発光素子

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0232570A (ja) * 1988-07-21 1990-02-02 Sharp Corp 化合物半導体発光素子

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6055996B2 (ja) 電場発光半導体装置
US5359209A (en) Efficient light emitting diodes with modified window layers
JPH0274088A (ja) 半導体レーザ装置
GB2252872A (en) Laser diode and method of manufacture
US4017881A (en) Light emitting semiconductor device and a method for making the same
JP3511213B2 (ja) 光半導体デバイス
US3998672A (en) Method of producing infrared luminescent diodes
JP5438052B2 (ja) 半導体発光素子
KR100289595B1 (ko) 3족질화물반도체발광소자
JPS6199392A (ja) Mis型発光ダイオ−ド
JPH0691280B2 (ja) 半導体発光ダイオード
KR20050035325A (ko) 질화물 반도체 발광소자 및 그 제조방법
JPS6212916B2 (ja)
JPH0864899A (ja) 半導体レーザ装置の製造方法,および半導体レーザ装置
JPH0245976A (ja) 炭化ケイ素の電極形成方法
JPS622719B2 (ja)
JPH0550858B2 (ja)
JPH02202085A (ja) 半導体レーザ装置の製造方法
JPS62101091A (ja) 青色発光素子
JPS61206263A (ja) ヘテロ・パイポ−ラ型半導体装置
JPS6244440B2 (ja)
CN117253900A (zh) 一种亮度自适应发光二极管及其制备方法
JPH01296687A (ja) 可視発光半導体レーザ装置
KR940000687B1 (ko) 발광다이오드 및 그 제조방법
JPS59172278A (ja) ZnSe多色発光素子