JPS6197957A - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置Info
- Publication number
- JPS6197957A JPS6197957A JP59218460A JP21846084A JPS6197957A JP S6197957 A JPS6197957 A JP S6197957A JP 59218460 A JP59218460 A JP 59218460A JP 21846084 A JP21846084 A JP 21846084A JP S6197957 A JPS6197957 A JP S6197957A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor integrated
- integrated circuit
- circuit device
- external terminals
- external terminal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 27
- 239000000523 sample Substances 0.000 abstract description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 230000006386 memory function Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0207—Geometrical layout of the components, e.g. computer aided design; custom LSI, semi-custom LSI, standard cell technique
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05554—Shape in top view being square
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
本発明は、半導体集積回路装置に係り、特に、半導体集
積回路装置の電気的特性検査時間を短縮するのに有効な
技術に関するものである。
積回路装置の電気的特性検査時間を短縮するのに有効な
技術に関するものである。
[背景技術]
半導体集積回路装置は、種々の機能を挿出するため4:
、RAM、ROM、EPROM等ツメモリ装置とロジッ
ク装置とを内蔵させる傾向にある。
、RAM、ROM、EPROM等ツメモリ装置とロジッ
ク装置とを内蔵させる傾向にある。
このため、この種の半導体集積回路装置は、外部機器と
接続する外部端子(ポンディングパッド)数が多くなり
、方形状の周辺部の殆んどを使用してその配置がなされ
ている。
接続する外部端子(ポンディングパッド)数が多くなり
、方形状の周辺部の殆んどを使用してその配置がなされ
ている。
そして、メモリ装置又はロジック装置に接続される前記
外部端子は、回路の配置レイアウト、配線レイアウト等
のレイアウトに制約されるために。
外部端子は、回路の配置レイアウト、配線レイアウト等
のレイアウトに制約されるために。
方形状の周辺部にランダムに配置されている。
しかしながら、かかる技術における検討の結果、本発明
者は、外部端子がランダムに配置されているために、以
下に述べるような問題点が生じることを見い出した。す
なわち、ウェーハ検査工程でメモリ装置又はロジック装
置の電気的特性を検出するプローブを4方向から配設さ
せる必要があり、一度に1つの半導体集積回路装置しか
検査できないので、ウェーハ単位の検査時間が長くなる
。
者は、外部端子がランダムに配置されているために、以
下に述べるような問題点が生じることを見い出した。す
なわち、ウェーハ検査工程でメモリ装置又はロジック装
置の電気的特性を検出するプローブを4方向から配設さ
せる必要があり、一度に1つの半導体集積回路装置しか
検査できないので、ウェーハ単位の検査時間が長くなる
。
なお、ウエーハプローバ技術を詳しく述べである例とし
ては、工業調査会発行、電子材料1981年11月号別
冊、昭和56年11月10日発行、p221〜p225
がある。
ては、工業調査会発行、電子材料1981年11月号別
冊、昭和56年11月10日発行、p221〜p225
がある。
[発明のg的]
本発明の目的は、一度に複数の半導体集積回路装置の電
気的特性を検査し、ウェーハ検査工程における検査時間
を短縮することが可能な技術を提供することにある。
気的特性を検査し、ウェーハ検査工程における検査時間
を短縮することが可能な技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
[発明の概要]
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、メモリ装置又はロジック装置と接続される外
部端子を、方形状の1辺に、方形状の対向する2辺に、
又は方形状の少なくとも1つの角部に配置することによ
り、一度に複数の半導体集積回路装置の電気的特性を検
査することができるので、ウェーハ検査工程におけるウ
ェーハ単位の検査時間を短縮することができる。
部端子を、方形状の1辺に、方形状の対向する2辺に、
又は方形状の少なくとも1つの角部に配置することによ
り、一度に複数の半導体集積回路装置の電気的特性を検
査することができるので、ウェーハ検査工程におけるウ
ェーハ単位の検査時間を短縮することができる。
以下、本発明の構成について、実施例とともに説明する
9 [実施例1] 第1図は1本発明の実施例Iを説明するための概略的な
半導体集積回路装置の平面図である。
9 [実施例1] 第1図は1本発明の実施例Iを説明するための概略的な
半導体集積回路装置の平面図である。
なお、実施例の全図において、同一機能を有するものは
同一符号を付け、そのくり返しの説明は省略する。
同一符号を付け、そのくり返しの説明は省略する。
第1図において、lは半導体集積回路装置であり、方形
状に形成されている。
状に形成されている。
2はロジック装置であり、半導体集積回路装置1の中央
部に設けられている。このロジック装置2は、論理機能
を挿出するためのものである。
部に設けられている。このロジック装置2は、論理機能
を挿出するためのものである。
3はメモリ装置であり、半導体集積回路装置1の中央部
のロジック装置2の両側部に設けられている。このメモ
リ装置3は、メモリ機能1例えば。
のロジック装置2の両側部に設けられている。このメモ
リ装置3は、メモリ機能1例えば。
RAM、ROM、EPROM等の機能を挿出するための
ものである。
ものである。
4a、5aは外部端子であり、半導体集積回路装置1の
方形状の周辺部に複数配置されている。
方形状の周辺部に複数配置されている。
この外部端子4a、5aは、半導体集積回路装置1のロ
ジック装置2又はメモリ装置3と外部機器との′電気的
な接続をするためのものである。
ジック装置2又はメモリ装置3と外部機器との′電気的
な接続をするためのものである。
外部端子4aは、メモリ装置3と接続されており、方形
状の対向する2辺に、略平行に外部端子列4として配置
されている。外部端子4aは、具体的には、電源、アク
セス信号、アドレス信号、データ信号が印加されるよう
になっている。
状の対向する2辺に、略平行に外部端子列4として配置
されている。外部端子4aは、具体的には、電源、アク
セス信号、アドレス信号、データ信号が印加されるよう
になっている。
外部端子5aは、ロジック装置2と接続されており、前
記外部端子列4が配置された2辺と異なる方形状の対向
する2辺に、略平行に外部端子列5として配置されてい
る。
記外部端子列4が配置された2辺と異なる方形状の対向
する2辺に、略平行に外部端子列5として配置されてい
る。
外部端子列4.5は、ウェーハ検査工程において、一度
に複数の半導体集積回路装置lの電気的特性を検査でき
るようになっている6 次に、ウェーハ検査工程における半導体集積回路装置の
電気的特性、特に、メモリ装置の電気的特性の検査方法
について、簡単に説明する。
に複数の半導体集積回路装置lの電気的特性を検査でき
るようになっている6 次に、ウェーハ検査工程における半導体集積回路装置の
電気的特性、特に、メモリ装置の電気的特性の検査方法
について、簡単に説明する。
第2@は1本発明の実施例Iの検査方法を説明するため
の複数の半導体集積回路装置が形成されるウェーハの概
略的な平面図である。
の複数の半導体集積回路装置が形成されるウェーハの概
略的な平面図である。
第2図において、半導体集積回路装置1は、ダイシング
工程前にシリコンウェーハ6に複数形成されている。こ
の状態で、外部端子4aのそれぞれに電気的に接続する
ように、2方向からプローブ(検査用針)7を配設し、
所定の電気的特性検査が施される。
工程前にシリコンウェーハ6に複数形成されている。こ
の状態で、外部端子4aのそれぞれに電気的に接続する
ように、2方向からプローブ(検査用針)7を配設し、
所定の電気的特性検査が施される。
第2図から明らかなようシこ、外部端子をランダムに配
置し、4方向からプローブを配設した場合には、一度に
1つの半導体集積回路装置のメモリ装置しか電気的特性
検査を施すことができないが。
置し、4方向からプローブを配設した場合には、一度に
1つの半導体集積回路装置のメモリ装置しか電気的特性
検査を施すことができないが。
外部端子4aを方形状の対向する2辺に外部端子列4と
して配置することにより、2方向からプローブを配設し
、一度に複数の半導体集積回路装置1のメモリ装置3の
電気的特性検査を施すことができる。
して配置することにより、2方向からプローブを配設し
、一度に複数の半導体集積回路装置1のメモリ装置3の
電気的特性検査を施すことができる。
ここでは、メモリ装置3の電気的特性検査について説明
したが、ロジック装置E2の電気的特性検査も同様にし
て施こされる。
したが、ロジック装置E2の電気的特性検査も同様にし
て施こされる。
次に、前記実施例の他の例について説明する。
第3図乃至第5図は、本発明の実施例■を説明するため
の概略的な半導体集積回路装置の平面図である。
の概略的な半導体集積回路装置の平面図である。
第3図は、メモリ装置3に接続される外部端子4aを、
方形状の1辺に外部端子列4として配置したものである
。
方形状の1辺に外部端子列4として配置したものである
。
第4図は、メモリ装置3に接続される外部端子4aを9
方形状の2つの角部に外部端子列4として配置したもの
である。
方形状の2つの角部に外部端子列4として配置したもの
である。
第5図は、メモリ装置3に接続される外部端子4aを、
方形状の1つの角部に外部端子列4として配置したもの
である。
方形状の1つの角部に外部端子列4として配置したもの
である。
第3図及び第5図に示す半導体集積回路装置lは、主と
して、ウェーハ検査工程におけるメモリ装置3の電気的
特性検査をするための配置である。
して、ウェーハ検査工程におけるメモリ装置3の電気的
特性検査をするための配置である。
第4図に示す半導体集積回路装置1は、ウェーハ検査工
程におけるメモリ装置3とロジック装置2との少なくと
もどちらかの電気的特性検査をできるようにするための
配置である。
程におけるメモリ装置3とロジック装置2との少なくと
もどちらかの電気的特性検査をできるようにするための
配置である。
[未施例■]
前記実施例Iは、半導体集積回路装置の周辺部に複数配
置された外部端子を、規則的に配置した例について説明
したが1本実施例■は、これらの外部端子と別に、メモ
リ装置又はロジック装置に接続される外部端子を設けた
例について説明する。
置された外部端子を、規則的に配置した例について説明
したが1本実施例■は、これらの外部端子と別に、メモ
リ装置又はロジック装置に接続される外部端子を設けた
例について説明する。
第6図は1本発明の実施例■を説明するための概略的な
半導体集積回路装置の平面図である。
半導体集積回路装置の平面図である。
第6図において、8a、9aは外部端子であり、半導体
集積回路装置1の方形状の周辺部に複数配置され、外部
機器と接続されるようになっている。
集積回路装置1の方形状の周辺部に複数配置され、外部
機器と接続されるようになっている。
外部端子8aは、ロジック装置2と接続されている。外
部端子9aは、メモリ装置3と接続されている。外部端
子8a、9aは、ロジック装置2又はメモリ装置3の配
置レイアウト等により、前記周辺部にランダムに配置す
ること(配置自由度の増加)ができるようになっている
。
部端子9aは、メモリ装置3と接続されている。外部端
子8a、9aは、ロジック装置2又はメモリ装置3の配
置レイアウト等により、前記周辺部にランダムに配置す
ること(配置自由度の増加)ができるようになっている
。
8bは外部端子であり、前記外部端子8a、9aとは別
に、半導体集積回路装置lの方形状の所定周辺部に複数
配置されている。外部端子8bは、メモリ装置3又は該
メモリ装置3に接続された外部端子8aに接続されてお
り、方形状の対向する2辺に、略平行に外部端子列8と
して配置されている。
に、半導体集積回路装置lの方形状の所定周辺部に複数
配置されている。外部端子8bは、メモリ装置3又は該
メモリ装置3に接続された外部端子8aに接続されてお
り、方形状の対向する2辺に、略平行に外部端子列8と
して配置されている。
そして、この外部端子8bは、ウェーハ検査工程におけ
るメモリ装置3の電気的特性検査専用に開用するもので
ある。すなわち、前記実施例■と同様に、外部端子8b
に所定の配置を施すことにより、一度に複数の半導体集
積回路装置1のメモリ装置3の電気的特性を検査するこ
とができる。
るメモリ装置3の電気的特性検査専用に開用するもので
ある。すなわち、前記実施例■と同様に、外部端子8b
に所定の配置を施すことにより、一度に複数の半導体集
積回路装置1のメモリ装置3の電気的特性を検査するこ
とができる。
さらに、外部端子8a、9aと外部端子8bは、別の列
に設けることにより、外部端子8a、9aの配置レイア
ウトはランダムでよい。なお、外部端子8bに替えて、
ロジック装置2又は該ロジック装置2に接続される外部
端子9aに接続され慝外部端子(9b)を設けてもよい
。
に設けることにより、外部端子8a、9aの配置レイア
ウトはランダムでよい。なお、外部端子8bに替えて、
ロジック装置2又は該ロジック装置2に接続される外部
端子9aに接続され慝外部端子(9b)を設けてもよい
。
なお、本実施例■は、前記実施例Iの第1図に示す外部
端子の配置に適用した例について説明したが、同様に、
前記実施例Iの第3図乃至第5図のそれぞれに示す外部
端子の配置に適用してもよい。
端子の配置に適用した例について説明したが、同様に、
前記実施例Iの第3図乃至第5図のそれぞれに示す外部
端子の配置に適用してもよい。
また1本実施例■は、外部端子を半導体集積回路装置の
周辺部に2列に配置した例について説明したが、外部端
子を3列又はそれ以上の列で半導体集積回路装置の周辺
部に配置してもよい。
周辺部に2列に配置した例について説明したが、外部端
子を3列又はそれ以上の列で半導体集積回路装置の周辺
部に配置してもよい。
[効果]
以上説明したように、本願において開示された新規な技
術によれば、以下に述べるような効果を得ることができ
る。
術によれば、以下に述べるような効果を得ることができ
る。
(1)メモリ装置又はロジック装置と接続される外部端
子を、方形状の1辺に、方形状の対向する2辺に、又は
方形状の少なくとも1つの角部に配置することにより、
プローブを1方向又は2方向で配設することができるの
で、ウェーハの検査工程で、一度に複数の半導体集積回
路装置の電気的特性を検査することができる。
子を、方形状の1辺に、方形状の対向する2辺に、又は
方形状の少なくとも1つの角部に配置することにより、
プローブを1方向又は2方向で配設することができるの
で、ウェーハの検査工程で、一度に複数の半導体集積回
路装置の電気的特性を検査することができる。
(2)前記(1)により、一度に複数の半導体集積回路
装置の電気的特性を検査することができるので、ウェー
ハ検査工程におけるウェーハ単位の検査時間を短縮する
ことができる。
装置の電気的特性を検査することができるので、ウェー
ハ検査工程におけるウェーハ単位の検査時間を短縮する
ことができる。
(3)メモリ装置又はロジック装置と接続される第1の
外部端子と、該第1の外部端子とは別の列に、ウェーハ
検査工程における電気的特性検査専用の第2の外部端子
を設ける二とにより、第1の外部端子の配置レイアウト
をランダムにすること(配置自由度の増加)ができる。
外部端子と、該第1の外部端子とは別の列に、ウェーハ
検査工程における電気的特性検査専用の第2の外部端子
を設ける二とにより、第1の外部端子の配置レイアウト
をランダムにすること(配置自由度の増加)ができる。
(4)前記(2)及び(3)により、ウェーハ検査工程
におけるウェーハ単位の検査時間を短縮することができ
、かつ、外部端子の配置レイアウトをランダムにするこ
とができる。
におけるウェーハ単位の検査時間を短縮することができ
、かつ、外部端子の配置レイアウトをランダムにするこ
とができる。
以上1本発明者によってなされた発明を、前記実施例に
もとすき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲に
おいて、種々変形し得ることは勿論である。
もとすき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲に
おいて、種々変形し得ることは勿論である。
第1図は、本発明の実施例■を説明するための概略的な
半導体集積回路装置の平面図、第2図は1本発明の実施
例■の検査方法を説明するための複数の半導体集積回路
装置が形成されるウェーハの概略的な平面図。 第3図乃至第5図は1本発明の実施例Iを説明するため
の概略的な半導体集積回路装置の平面図、第6図は1本
発明の実施例■を説明するための概略的な半導体集積回
路装置の平面図である。 図中、l・・・半導体集積回路装置、2・・・ロジック
装置、3・・・メモリ装置、4a、5a、8a、8b、
9a、9b・・・外部端子、4.5.8.9・・・外部
端子列、6・・・ウェーハ、7・・・プローブである。 第 1 図 第 2 図 第 3 図 第 6 図
半導体集積回路装置の平面図、第2図は1本発明の実施
例■の検査方法を説明するための複数の半導体集積回路
装置が形成されるウェーハの概略的な平面図。 第3図乃至第5図は1本発明の実施例Iを説明するため
の概略的な半導体集積回路装置の平面図、第6図は1本
発明の実施例■を説明するための概略的な半導体集積回
路装置の平面図である。 図中、l・・・半導体集積回路装置、2・・・ロジック
装置、3・・・メモリ装置、4a、5a、8a、8b、
9a、9b・・・外部端子、4.5.8.9・・・外部
端子列、6・・・ウェーハ、7・・・プローブである。 第 1 図 第 2 図 第 3 図 第 6 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、その方形状の周辺部に複数の外部端子を設け、該所
定の外部端子と接続されるメモリ装置とロジック装置と
を有する半導体集積回路装置であって、前記メモリ装置
又はロジック装置と接続される外部端子を、方形状の1
辺に、方形状の対向する2辺に、又は方形状の少なくと
も1つの角部に配置してなることを特徴とする半導体集
積回路装置。 2、前記外部端子は、ウェーハ検査工程において、一度
に複数の半導体集積回路装置のメモリ装置又はロジック
装置の電気的特性を検査できるように配置されてなるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の半導体集
積回路装置。 3、前記外部端子は、方形状の周辺部に複数配置された
外部端子と別の列で、方形状の1辺に、方形状の対向す
る2辺に、又は方形状の少なくとも1つの角部に配置し
てなることを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2
項に記載の半導体集積回路装置。 4、前記メモリ装置と接続される外部端子は、電源、ア
クセス信号、アドレス信号、データ信号が印加されるも
のであることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第
3項に記載のそれぞれの半導体集積回路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59218460A JPS6197957A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59218460A JPS6197957A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 半導体集積回路装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6197957A true JPS6197957A (ja) | 1986-05-16 |
Family
ID=16720246
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59218460A Pending JPS6197957A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6197957A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5103282A (en) * | 1987-05-27 | 1992-04-07 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device having a gate array with a ram and by-pass signal lines which interconnect a logic section and i/o unit circuit of the gate array |
US5243208A (en) * | 1987-05-27 | 1993-09-07 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device having a gate array with a ram and by-pass signal lines which interconnect a logic section and I/O unit circuit of the gate array |
-
1984
- 1984-10-19 JP JP59218460A patent/JPS6197957A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5103282A (en) * | 1987-05-27 | 1992-04-07 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device having a gate array with a ram and by-pass signal lines which interconnect a logic section and i/o unit circuit of the gate array |
US5243208A (en) * | 1987-05-27 | 1993-09-07 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device having a gate array with a ram and by-pass signal lines which interconnect a logic section and I/O unit circuit of the gate array |
US5477067A (en) * | 1987-05-27 | 1995-12-19 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor IC device having a RAM interposed between different logic sections and by-pass signal lines extending over the RAM for mutually connecting the logic sections |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3849872A (en) | Contacting integrated circuit chip terminal through the wafer kerf | |
US4486705A (en) | Method of testing networks on a wafer having grounding points on its periphery | |
JPH0454971B2 (ja) | ||
KR100723518B1 (ko) | 패드 체인을 구비하는 인터포우저 패턴 | |
JPH0773106B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
KR960007480B1 (ko) | 반도체 장치 | |
JP4539396B2 (ja) | 半導体装置の実装構造 | |
JPS6197957A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
US6885208B2 (en) | Semiconductor device and test device for same | |
US6025733A (en) | Semiconductor memory device | |
KR100798724B1 (ko) | 웨이퍼 테스트 방법 및 이를 위한 프로브 카드 | |
JP2001110858A (ja) | 半導体装置およびその製造方法、ならびにバーンイン装置 | |
JP3135135B2 (ja) | 半導体装置,その製造方法,その試験方法及びその試験装置 | |
JPH088312A (ja) | 多数個取りプローブカード | |
JP3763258B2 (ja) | プローブカード及びそれを用いたチップ領域ソート方法 | |
JPH05136243A (ja) | エージング等テスト用パターンを付加した半導体ウエハー | |
KR100448113B1 (ko) | 반도체 소자 | |
JPS62198132A (ja) | 半導体装置 | |
JPS61181139A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPH09283575A (ja) | プローブカード及び検査方法 | |
JPS61184840A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS63100741A (ja) | 半導体装置の試験方法 | |
JPS6342140A (ja) | 半導体集積回路装置の製造方法 | |
JPH03211843A (ja) | 半導体集積回路 | |
JPH04127449A (ja) | 半導体集積装置 |