JPS6197291A - ７−〔α−（２−アミノ−４−チアゾリル）−α−（低級アルコキシイミノ）アセトアミド〕−３−〔６−（２Ｈ−ピリド〔４，３−ｂ〕−１，４−オキサジニオ）メチル〕−Δ３−セフエム−４−カルボキシレ−トおよびその製造法 - Google Patents
７−〔α−（２−アミノ−４−チアゾリル）−α−（低級アルコキシイミノ）アセトアミド〕−３−〔６−（２Ｈ−ピリド〔４，３−ｂ〕−１，４−オキサジニオ）メチル〕−Δ３−セフエム−４−カルボキシレ−トおよびその製造法Info
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- JPS6197291A JPS6197291A JP59219177A JP21917784A JPS6197291A JP S6197291 A JPS6197291 A JP S6197291A JP 59219177 A JP59219177 A JP 59219177A JP 21917784 A JP21917784 A JP 21917784A JP S6197291 A JPS6197291 A JP S6197291A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、抗菌活性を有する医薬として有用なセファロ
スポリン系の化学物質またはその塩およびその製造法に
関する。
スポリン系の化学物質またはその塩およびその製造法に
関する。
（発明の解決手段）
本発明の化合物は９次式で示される７−［α−（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−α−（低級アルコキシイミノ
）アセトアミド］−３−［：６−（２Ｈ−ピリド［４，
３−ｂ］−１，４−オキサジニオ）メチル］−Δ３−セ
フェムー４−カルボキシレートまたはその塩類である。
ミノ−４−チアゾリル）−α−（低級アルコキシイミノ
）アセトアミド］−３−［：６−（２Ｈ−ピリド［４，
３−ｂ］−１，４−オキサジニオ）メチル］−Δ３−セ
フェムー４−カルボキシレートまたはその塩類である。
（式中、 Ｒ１は、水素原子、水酸基または低級アルコ
キシ基を、Ｒ１は、低級アルキル基を。
キシ基を、Ｒ１は、低級アルキル基を。
またＡは、カルボニル基またはメチレン基を意味する。
）
また２本発明の製造法は、一般式
で示される ７−アミノ−３−ハロゲノメチル−Δ１−
セフェムー４−カルボン酸に 一般式 （式中、Ｒｓは低級アルキル基を意味する。）で示され
るＮ、Ｏ−ビス（トリ低級アルキルシリル）トリフルオ
ロアセトアミドおよび 一般式 Ｒ１ （式中、Ａはカルボニル基またはメチレン基を、Ｒ１は
水素原子、水酸基または低級アルコキシ基を意味する。
セフェムー４−カルボン酸に 一般式 （式中、Ｒｓは低級アルキル基を意味する。）で示され
るＮ、Ｏ−ビス（トリ低級アルキルシリル）トリフルオ
ロアセトアミドおよび 一般式 Ｒ１ （式中、Ａはカルボニル基またはメチレン基を、Ｒ１は
水素原子、水酸基または低級アルコキシ基を意味する。
）
で示されるピリドオキサジン誘導体を反応させ。
反応生成物に
一般式
（式中、Ｒ４は、水素原子または、アミノ基の保護基を
、Ｒ２は、低級アルキル基を意味する。）で示される置
換オキシイミノチアゾリル酢酸またけその反応性誘導体
を反応させたのち、その反応生成物から必要により保護
基を除去することを特徴とする一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ’およびＡは、前記の意味を有する。
、Ｒ２は、低級アルキル基を意味する。）で示される置
換オキシイミノチアゾリル酢酸またけその反応性誘導体
を反応させたのち、その反応生成物から必要により保護
基を除去することを特徴とする一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ’およびＡは、前記の意味を有する。
）で示される新規なセファロスポリン誘導体またはその
塩の製造法である。
塩の製造法である。
（発明の詳細な説明）
上式の化合物において、Ｒｔ、Ｂｓが意味する低級アル
キル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ノプロピル基、ブチル基、ペンチル基などの炭素数１乃
至５個の直鎖状または分枝状のアルキル基である。
キル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ノプロピル基、ブチル基、ペンチル基などの炭素数１乃
至５個の直鎖状または分枝状のアルキル基である。
また、Ｒｔが意味する低級アルコキシ基としてはメトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、イングロポキシ基、
ブトキシ基などの炭素数１乃至５個の直鎖状または分枝
状のアルコキシ基である。
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、イングロポキシ基、
ブトキシ基などの炭素数１乃至５個の直鎖状または分枝
状のアルコキシ基である。
本発明によって提供される化合物（Ｉ）は、セファロス
ポリン核の７位の側鎖に α−（２−アミノ−４−チア
ゾリル）−α−（低級アルコキシイミノ）アセチル基を
有し、且つ３位の側鎖に２Ｈ−ピリド［４，３−ｂ］−
１，４−オキサジニオ基を有する点に化学構造上の特徴
を有する新しいセファロスポリ／誘導体である。
ポリン核の７位の側鎖に α−（２−アミノ−４−チア
ゾリル）−α−（低級アルコキシイミノ）アセチル基を
有し、且つ３位の側鎖に２Ｈ−ピリド［４，３−ｂ］−
１，４−オキサジニオ基を有する点に化学構造上の特徴
を有する新しいセファロスポリ／誘導体である。
（化合物の効果及び利用）
本発明の化合物は、下表１に示されるようにすぐれた抗
菌活性を示す。殊にダラム陽性菌および陰性菌に属する
幾つかの重要な病原菌に対してすぐれた効力が認められ
るので９本発明の化合物は、医薬品、殊に抗菌剤、飼料
の添加剤。
菌活性を示す。殊にダラム陽性菌および陰性菌に属する
幾つかの重要な病原菌に対してすぐれた効力が認められ
るので９本発明の化合物は、医薬品、殊に抗菌剤、飼料
の添加剤。
保存剤などとして有用である。
表１ （最少発育阻止濃度、γ／ｍｔ）本発明の化合物
は、そのままあるいはその塩として需要に供される。塩
としては、薬学的に許容される非毒性の酸または塩基と
の塩である。
は、そのままあるいはその塩として需要に供される。塩
としては、薬学的に許容される非毒性の酸または塩基と
の塩である。
酸との塩としては、たとえば一般式
で示される２Ｈ−ピリド［４，３−ｂ］−１，４−オキ
サジニウム塩（ここにＹｏで示されるアニオンとしては
、たとえば、ハロゲンアニオン（ＣＩ。
サジニウム塩（ここにＹｏで示されるアニオンとしては
、たとえば、ハロゲンアニオン（ＣＩ。
■０等）、スルホン酸アニオン（Ｈ８０４ｅ、Ｓ０４゜
０等）等の無機アニオンおよびベンゼンスルホン酸アニ
オン（ｃｓＨ４ｓｏｓ。）、酢酸アニオン（ＣＨ，ＣＯ
Ｏｏ）、ツマＡｌ１７ ニオ７ （ＨＯＯＣ−ＣＨ：Ｃ
Ｈ−Ｃｏｏｅ）、 クエｙ酸酸アニオンを挙げることが
できる）が用いられる。また、塩基との塩としては一般
式 で示されるカルボキシル基における塩（たとえばナトリ
ウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩；アンモニウ
ム塩；またはジシクロヘキシルアミン塩、シクロヘキシ
ルアミン塩、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩
、エタノールアミン塩、オルニチン塩、リジン塩などの
有機塩基との塩を挙げることができる。）が用いられる
。
０等）等の無機アニオンおよびベンゼンスルホン酸アニ
オン（ｃｓＨ４ｓｏｓ。）、酢酸アニオン（ＣＨ，ＣＯ
Ｏｏ）、ツマＡｌ１７ ニオ７ （ＨＯＯＣ−ＣＨ：Ｃ
Ｈ−Ｃｏｏｅ）、 クエｙ酸酸アニオンを挙げることが
できる）が用いられる。また、塩基との塩としては一般
式 で示されるカルボキシル基における塩（たとえばナトリ
ウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩；アンモニウ
ム塩；またはジシクロヘキシルアミン塩、シクロヘキシ
ルアミン塩、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩
、エタノールアミン塩、オルニチン塩、リジン塩などの
有機塩基との塩を挙げることができる。）が用いられる
。
本発明の化合物またはその塩類は、抗菌剤として経口的
あるいは非経口的に投与される。投与量は、症状２体重
などに応じて異なるが、成人で１日２５０〜３０００［
Ｑｇであり、これを３〜４回に分けて投与する。
あるいは非経口的に投与される。投与量は、症状２体重
などに応じて異なるが、成人で１日２５０〜３０００［
Ｑｇであり、これを３〜４回に分けて投与する。
投与に適した剤形は、注射剤２錠剤、カプセル、シロッ
プなどである。これらの剤形の調製は、製剤学上用いら
れる賦形剤、保存剤、安定剤などを添加し２通常の方法
によって行いうる。
プなどである。これらの剤形の調製は、製剤学上用いら
れる賦形剤、保存剤、安定剤などを添加し２通常の方法
によって行いうる。
（製造方法の具体的説明）
本発明の化合物（Ｉ）は一般式
で示される ７−アミノ−３−ノ・ロゲノメチルーΔ３
−セフェム−４−カルボッ酸に一般式で示されるＮ、Ｏ
−ビス（トリ低級アルキルシリル）トリフルオロアセト
アミドおよび一般式で示される２Ｈ−ビリドロ４．３−
ｂコー１．４−オキサジンを反応させ９反応生成物に
一般式で示される置換オ午ジイミノチアゾリル酢酸（ｖ
）またはその反応性誘導体を反応させたのち２反応生成
物から必要により保護基を除去することによって製造す
ることができる。
−セフェム−４−カルボッ酸に一般式で示されるＮ、Ｏ
−ビス（トリ低級アルキルシリル）トリフルオロアセト
アミドおよび一般式で示される２Ｈ−ビリドロ４．３−
ｂコー１．４−オキサジンを反応させ９反応生成物に
一般式で示される置換オ午ジイミノチアゾリル酢酸（ｖ
）またはその反応性誘導体を反応させたのち２反応生成
物から必要により保護基を除去することによって製造す
ることができる。
この製造法を行うには、まず ７−アミノ−３−ハロケ
ノメチルーΔ３−セフェム−４−カルボン酸（ｎ）また
はその塩とＮ、Ｏ−ビス（トリ低級アルキル７リル）ト
リフルオロアセトアミド（Ｉ［［）および２Ｈ−ピリド
［４，３−ｂコー１．４−オキサジン（ＩＶ）とを、こ
の反応に不活性な有機溶媒中で反応させる。
ノメチルーΔ３−セフェム−４−カルボン酸（ｎ）また
はその塩とＮ、Ｏ−ビス（トリ低級アルキル７リル）ト
リフルオロアセトアミド（Ｉ［［）および２Ｈ−ピリド
［４，３−ｂコー１．４−オキサジン（ＩＶ）とを、こ
の反応に不活性な有機溶媒中で反応させる。
Ｎ、Ｏ−ビス（トリ低級アルキルシリル）トリフルオロ
アセトアミド（ｍ）および２Ｈ−ピリド［４，３−ｂコ
ー１．４−オキサジン（ｒＶ）は、同時に化合物（ｎ）
と反応させることもできるが９段階的に反応させる。こ
ともできる。
アセトアミド（ｍ）および２Ｈ−ピリド［４，３−ｂコ
ー１．４−オキサジン（ｒＶ）は、同時に化合物（ｎ）
と反応させることもできるが９段階的に反応させる。こ
ともできる。
この反応は室温で容易に進行する。段階的に反応させる
ときは、前者の反応を室温で行い。
ときは、前者の反応を室温で行い。
後者の反応を冷却下で行う等、夫々の反応で異なる条件
を採用することができる。
を採用することができる。
この反応に不活性な有機溶媒としては、ジク ゛ロルメ
タン、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン
等が用いられる。
タン、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン
等が用いられる。
こうして、シリル系の保護基を有する化合物（Ａ）が生
成する。
成する。
つぎに、化合物（Ａ）を含む反応溶液に、置換オキシイ
ミノチアゾリル酢酸（Ｖ）またはその反応性誘導体を反
応させ２式 で示される化合物を得、この生成物から保護基を脱離さ
せることによって、目的化合物（Ｉ）を得る。
ミノチアゾリル酢酸（Ｖ）またはその反応性誘導体を反
応させ２式 で示される化合物を得、この生成物から保護基を脱離さ
せることによって、目的化合物（Ｉ）を得る。
ここに、化合物（Ｖ）におけるアミノ基の保護基Ｒ４と
しては、たとえばトリメチルシリル基などのトリ低級ア
ルキルシリル基、ホルミル基。
しては、たとえばトリメチルシリル基などのトリ低級ア
ルキルシリル基、ホルミル基。
アセチル基、グロピオニル基、 ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル基、メトキシアセチル基、メトキシグロビオニ
ル基、ベンジルオキシカルボニル基。
ルボニル基、メトキシアセチル基、メトキシグロビオニ
ル基、ベンジルオキシカルボニル基。
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基などのアシル基
、ベンジル基、ベンズヒドリル基（ジフェニルメチル基
）、トリチル基（トリフェニルメチル基）などのアラル
キル基などが用いられる。
、ベンジル基、ベンズヒドリル基（ジフェニルメチル基
）、トリチル基（トリフェニルメチル基）などのアラル
キル基などが用いられる。
化合物（Ａ）と化合物（Ｖ）との反応は２通常溶媒中冷
却下乃至室温下で行なわれる。溶媒は反応に関与しない
ものであれば特に制限はない。
却下乃至室温下で行なわれる。溶媒は反応に関与しない
ものであれば特に制限はない。
前段の反応で使用された溶媒を用いることができるほか
９通常使用されるものとしては、ジオキサン、エーテル
、エチルメチルケトン、クロロホルム、ジクロルエタン
、酢酸エチル、キ酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド等の有機溶媒が挙げられる。これら
の溶媒は適宜混合して用いることもできる。
９通常使用されるものとしては、ジオキサン、エーテル
、エチルメチルケトン、クロロホルム、ジクロルエタン
、酢酸エチル、キ酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド等の有機溶媒が挙げられる。これら
の溶媒は適宜混合して用いることもできる。
化合物（Ｖ）は遊離カルボン酸の状態で使用されるほか
、カルボン酸の反応性誘導体として反応に供される。カ
ルボン酸の反応性誘導体としては活性エステル、混合酸
無水物、酸ハロゲン化物、活性アミド、酸無水物、酸ア
ジド等が用いられる。化合物（Ｖ）を遊離のカルボン酸
の状態で使用するときは、Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシル
カルボジイミド、Ｎ、Ｎ’−ジエチルカルボジイミド等
の縮合剤を使用するのが好ましい。
、カルボン酸の反応性誘導体として反応に供される。カ
ルボン酸の反応性誘導体としては活性エステル、混合酸
無水物、酸ハロゲン化物、活性アミド、酸無水物、酸ア
ジド等が用いられる。化合物（Ｖ）を遊離のカルボン酸
の状態で使用するときは、Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシル
カルボジイミド、Ｎ、Ｎ’−ジエチルカルボジイミド等
の縮合剤を使用するのが好ましい。
また用いられるカルボン酸の反応性誘導体の種類によっ
ては、塩基の存在下に反応させるのが２反応を円滑に進
行させる上で好ましい場合もある。かかる塩基としては
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の無機塩基、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、ジメチルアニリン、ピリジン等の有機
塩基が挙げられる。
ては、塩基の存在下に反応させるのが２反応を円滑に進
行させる上で好ましい場合もある。かかる塩基としては
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の無機塩基、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、ジメチルアニリン、ピリジン等の有機
塩基が挙げられる。
こうして得られた生成物からの保護基の脱離は、保護基
がトリ低級アルキルシリル基であるときは、水で処理す
ることにより容易に行うことができる。また、トリチル
基の如きアラルキル基や各種のアシル基を用いる場合に
は酸による加水分解によって容易に行うことができる。
がトリ低級アルキルシリル基であるときは、水で処理す
ることにより容易に行うことができる。また、トリチル
基の如きアラルキル基や各種のアシル基を用いる場合に
は酸による加水分解によって容易に行うことができる。
この際用いられる酸としてはギ酸、トリフルオロ酢酸、
塩酸等が好ましい。
塩酸等が好ましい。
一般式（Ｉ）で示される本発明化合物の塩は。
たとえば上記製法において予じめ原料化合物の塩を用い
て製造することにより、あるいは上記製法によシ製造さ
れた遊離の化合物に当分野で慣用されている造塩反応を
適用することにより製造することができる。
て製造することにより、あるいは上記製法によシ製造さ
れた遊離の化合物に当分野で慣用されている造塩反応を
適用することにより製造することができる。
本発明化合物（Ｉ）及びその塩の単離精製は常法に従っ
て行なわれ、有機溶媒による抽出、結晶化、カラムクロ
マトグラフィー等による分離精製が用いられる。
て行なわれ、有機溶媒による抽出、結晶化、カラムクロ
マトグラフィー等による分離精製が用いられる。
（実施例）
つぎに、実施例を挙げて本発明の目的化合物およびその
製造法を説明する。なお、実施例で使用する原料化合物
の製造法を参考例として示す。
製造法を説明する。なお、実施例で使用する原料化合物
の製造法を参考例として示す。
参考例１（実施例４の原料）
４−クロロ−３−二トロピリジン１８．３９ｇ及びエチ
ルグリコレート１８ｇを２００ ｍｌのテトラヒドロフ
ランに溶解させる。この溶液に、６０％油性水素化ナト
リウム６．４ｇを、液塩１５℃以下を保ちながら加える
。同温度で１５分攪拌後、減圧下に溶媒を留去する。得
られた残渣に水及びエーテルを加えて分液し、エーテル
層を２Ｎ−塩液５０ｍＡで三回抽出する。この塩酸抽出
液に炭酸カリウムを加えてアルカリ性とし、エーテルで
三回抽出する。ニーチル層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を留去すると、淡黄色結晶の４−エトキシカ
ルボニルメトキシ−３−ニトロピリジン１９．４４ ｇ
を得る。
ルグリコレート１８ｇを２００ ｍｌのテトラヒドロフ
ランに溶解させる。この溶液に、６０％油性水素化ナト
リウム６．４ｇを、液塩１５℃以下を保ちながら加える
。同温度で１５分攪拌後、減圧下に溶媒を留去する。得
られた残渣に水及びエーテルを加えて分液し、エーテル
層を２Ｎ−塩液５０ｍＡで三回抽出する。この塩酸抽出
液に炭酸カリウムを加えてアルカリ性とし、エーテルで
三回抽出する。ニーチル層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を留去すると、淡黄色結晶の４−エトキシカ
ルボニルメトキシ−３−ニトロピリジン１９．４４ ｇ
を得る。
ＥＩＭＳ；（Ｍ＋Ｈ）”２２７
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）
１．２５． ３Ｈ，ｔ、 −ＣＯＣＨ，ＣＨ。
４．２５ 、 ２Ｈ，ｑ 、 −Ｃｏ（ｊ房■。
０゜
４、８２．２ Ｈ、ｓ 、０ＣＨｔＣ−４−エトキシカ
ルボニルメトキシ−３−ニトロピリジン２．７ｇを３０
ｍ１のメタノールに溶解し、ラネーニッケル約１．５
ｍｌを加えて室温、常圧で水素を通じる。水素の吸収が
終ったら、メタノール１００ｒｎｔを加えて解媒を濾過
し、Ｐ液を減圧下に濃縮して白色粉末１．８７ ｇを得
る。これは４−ヒドロキシ−３−オキソ−３，４−ジヒ
ドロ−２Ｈ−ピリド〔４゜３−ｂ）−１，４−オキサジ
ンと３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（４
，３−ｂ ）−１，４−オキサジンの混合物であり、そ
の比は８５：１５（核磁気共鳴スペクトルの積分値より
）であった。この混合物１．８７ｇを１５０ｍ１の乾燥
テトラヒドロフランに溶解し、水素化リチウムアルミニ
ウム０．９３ｇを加えて２時間加熱還流する。反応液を
冷却後、飽和硫酸ナトリウム水溶液及び酢酸エチルを加
えて不溶物を濾過する。Ｆ液を無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去すると、淡黄色油状の３．
４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ ）−１゜４
−オキサジン１．２８ｇを得る。
ルボニルメトキシ−３−ニトロピリジン２．７ｇを３０
ｍ１のメタノールに溶解し、ラネーニッケル約１．５
ｍｌを加えて室温、常圧で水素を通じる。水素の吸収が
終ったら、メタノール１００ｒｎｔを加えて解媒を濾過
し、Ｐ液を減圧下に濃縮して白色粉末１．８７ ｇを得
る。これは４−ヒドロキシ−３−オキソ−３，４−ジヒ
ドロ−２Ｈ−ピリド〔４゜３−ｂ）−１，４−オキサジ
ンと３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（４
，３−ｂ ）−１，４−オキサジンの混合物であり、そ
の比は８５：１５（核磁気共鳴スペクトルの積分値より
）であった。この混合物１．８７ｇを１５０ｍ１の乾燥
テトラヒドロフランに溶解し、水素化リチウムアルミニ
ウム０．９３ｇを加えて２時間加熱還流する。反応液を
冷却後、飽和硫酸ナトリウム水溶液及び酢酸エチルを加
えて不溶物を濾過する。Ｆ液を無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去すると、淡黄色油状の３．
４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ ）−１゜４
−オキサジン１．２８ｇを得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ；δｐｐｍ ）
３．８４ 、 Ｉ Ｈ，ｂｒｏａｄ
参考例２（実施例２および３の原料）
４−エトキシカルボニルメトキシ−３−ニトロピリジン
を参考例１（ｂ）と同様にして水素添加して得られる白
色粉末を水より再結晶すると白色結晶の４−ヒドロキシ
−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２に一ピリド（４，
３−ｂ ”ｌ−１，４−オキサジンが得られる。
を参考例１（ｂ）と同様にして水素添加して得られる白
色粉末を水より再結晶すると白色結晶の４−ヒドロキシ
−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２に一ピリド（４，
３−ｂ ”ｌ−１，４−オキサジンが得られる。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ’、 ａｐｐｍ ）さらに母液よ
り３−オキノー３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（４，
３−ｂ ）−１，４−オキサジンが得られる。
り３−オキノー３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（４，
３−ｂ ）−１，４−オキサジンが得られる。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ’、δｐｐｍ ）参考例３（実施
例１の原料） − ４−ヒドロキシ−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ
−ピリド（４，３−ｂ ）−１，４−オキサジン８１０
■を、ＩＮ−水酸化ナトＩＪウム水溶液４．９ ｍｌ及
びアセトン５ｏＩｔの混液に溶解し、さらにヨウ化メチ
ル０．３０５ ｍｌを加えて、室温で１時間攪拌する。
例１の原料） − ４−ヒドロキシ−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ
−ピリド（４，３−ｂ ）−１，４−オキサジン８１０
■を、ＩＮ−水酸化ナトＩＪウム水溶液４．９ ｍｌ及
びアセトン５ｏＩｔの混液に溶解し、さらにヨウ化メチ
ル０．３０５ ｍｌを加えて、室温で１時間攪拌する。
攪拌後アセトンを減圧下に留去し、残留液に飽和食塩水
及び酢酸エチルを加えて分液な行なう。有機層をとり、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去す
ると淡黄色粉末の４−メトキシ−３−オキソ−３，４−
ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ）−１，４−オキ
サジン４１０１１１ｇを得る。
及び酢酸エチルを加えて分液な行なう。有機層をとり、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去す
ると淡黄色粉末の４−メトキシ−３−オキソ−３，４−
ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ）−１，４−オキ
サジン４１０１１１ｇを得る。
融点；１１５〜１１９℃
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、 ； Ｊｐｐｍ ）４．０２． ３
Ｈ，・、Ｙｏ 、Ｎ−０ミ 実施例 １ １）７−アミノ−３−ヨードメチル−Δ３−セフェムー
４−カルボン酸６８０１Ｑｇをジクロロメタン２０ｍ１
Ｋ懸濁させ、 Ｎ、Ｏ−ビス（トリメチルシリル）トリ
フルオロアセトアミド１．１２ｍＡを加え室温で１０分
攪拌し、溶液を得る。 この溶液に４−メトキシ−３−
オキソ−３，４−ジヒドロー２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ
）−１，４−オキサジン３６０■を加え、室温で５時
間攪拌し、トリメチルシリル７−ドリメチルシリルアミ
ノー３−（（６−（４−メトキシ−３−オキソ−３，４
−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ ）−１，４−
オキサジニオ）〕〕メチル〕−Δ３−セフェムー４−カ
ルボキシレートヨージを含む溶液を得る。
Ｈ，・、Ｙｏ 、Ｎ−０ミ 実施例 １ １）７−アミノ−３−ヨードメチル−Δ３−セフェムー
４−カルボン酸６８０１Ｑｇをジクロロメタン２０ｍ１
Ｋ懸濁させ、 Ｎ、Ｏ−ビス（トリメチルシリル）トリ
フルオロアセトアミド１．１２ｍＡを加え室温で１０分
攪拌し、溶液を得る。 この溶液に４−メトキシ−３−
オキソ−３，４−ジヒドロー２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ
）−１，４−オキサジン３６０■を加え、室温で５時
間攪拌し、トリメチルシリル７−ドリメチルシリルアミ
ノー３−（（６−（４−メトキシ−３−オキソ−３，４
−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ ）−１，４−
オキサジニオ）〕〕メチル〕−Δ３−セフェムー４−カ
ルボキシレートヨージを含む溶液を得る。
１１）（２））−α−（２−トリチルアミノ−４−チア
ゾリル）−α−メトキシイミノ酢酸８８６１！Ｉｇをジ
クロロメタン１０ｍ１に懸濁させ、３°〜４℃に冷却し
。
ゾリル）−α−メトキシイミノ酢酸８８６１！Ｉｇをジ
クロロメタン１０ｍ１に懸濁させ、３°〜４℃に冷却し
。
五塩化リン４１６曙を加え、３°〜４℃で１５分拌攪す
る（Ａ液と呼ぶ）。一方１）で得たトリメチルシリル７
−ドリメチルシリルアミノー３−（’（６−（４−メト
キシ−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（
４，３−ｂ ）−１，４−オキサジニオ）〕〕メチル〕
−Δ３−セフェムー４−カルボキシレートヨーシトを含
Ｕ溶液を、−４０’Ｃに冷却したのち、ピリジン０．８
ｍｌを加え、 これを上記Ａ液を滴下後、１５分かけ
て一１５℃まで昇温させる。
る（Ａ液と呼ぶ）。一方１）で得たトリメチルシリル７
−ドリメチルシリルアミノー３−（’（６−（４−メト
キシ−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（
４，３−ｂ ）−１，４−オキサジニオ）〕〕メチル〕
−Δ３−セフェムー４−カルボキシレートヨーシトを含
Ｕ溶液を、−４０’Ｃに冷却したのち、ピリジン０．８
ｍｌを加え、 これを上記Ａ液を滴下後、１５分かけ
て一１５℃まで昇温させる。
この反応液に、テトラヒドロフラン５ｍ４．ＩＮ−塩酸
４ ｍ４を加え水冷下で１０分攪拌する。攪拌後２反応
液から、ジクロロメタン及びテトラヒドロフランを減圧
留去する。残渣に水１００ ｍｌを加え、析出物を戸数
する。この湿った。保護基のついた粗製物に水冷下でト
リフルオロ酢酸２０ｍ４を加え室温で１５分攪拌した後
、不溶物を戸去する。ろ液に氷冷下、水６ ｍｌを加え
室温で１時間攪拌する。この反応液を減圧下に濃縮し。
４ ｍ４を加え水冷下で１０分攪拌する。攪拌後２反応
液から、ジクロロメタン及びテトラヒドロフランを減圧
留去する。残渣に水１００ ｍｌを加え、析出物を戸数
する。この湿った。保護基のついた粗製物に水冷下でト
リフルオロ酢酸２０ｍ４を加え室温で１５分攪拌した後
、不溶物を戸去する。ろ液に氷冷下、水６ ｍｌを加え
室温で１時間攪拌する。この反応液を減圧下に濃縮し。
残渣にエーテルを加えて粉末化して、濾過し。
粗製物１．３３ ｇを得る。これに水５０ｍ１．ＩＮ−
塩酸５ ｍｌを加えて溶解し、ダイヤイオンＨＰ−２０
（三菱化成製）のカラムクロマトグラフィーに付し、最
初水ついで水−メタノールの混合比を（水：メタノール
＝９５：５から８０：２０まで）順次かえながら溶出し
、目的物を含むフラクションを濃縮し、凍結乾燥して（
Ｚ） −７−（α−（２−アミノ−４−チアゾリル）−
α−メトキシイミノアセトアミド）−３−（（６−（４
−メトキシ−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピ
リド（４，３−ｂ ）−１，４−オキサジニオ）〕〕メ
チル〕−Δ３−セフェムー４−カルボキシレート１５５
ｆｆ１ｇを得る。
塩酸５ ｍｌを加えて溶解し、ダイヤイオンＨＰ−２０
（三菱化成製）のカラムクロマトグラフィーに付し、最
初水ついで水−メタノールの混合比を（水：メタノール
＝９５：５から８０：２０まで）順次かえながら溶出し
、目的物を含むフラクションを濃縮し、凍結乾燥して（
Ｚ） −７−（α−（２−アミノ−４−チアゾリル）−
α−メトキシイミノアセトアミド）−３−（（６−（４
−メトキシ−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピ
リド（４，３−ｂ ）−１，４−オキサジニオ）〕〕メ
チル〕−Δ３−セフェムー４−カルボキシレート１５５
ｆｆ１ｇを得る。
ＦＡＢＭＳ ； （Ｍ＋）（）＋５７６ＩＲ（ＫＢｒ
ｄｉｓｋ ； ａｍ−’ ） ： １０３５．１３３
５．１３８０．１５２５゜１６１０．１６６５，１７１
５，１７７０゜３５Ｏ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ’ ； ａｐｐｍ）２．９０〜３
．６２． ２Ｈ，ｑ 、 、）シロ°６６ ・ １
Ｈ・ °・ １′；′ＬＨ７，１６、ｂｒｏａｄ、
ｓ 実施例２ ｉ） ７−アミノ−３−ヨードメチル−Δ３−セフェ
ムー４−カルボン酸６８０ＩＸＩｇヲシクロロメタン２
０ｍ１ニ懸濁すせＮ、Ｏ−ビス（トリメチルシリル）ト
リフルオロアセトアミド１．６８ ｒｎｌを加え室温で
１０分攪拌し、溶液を得る。この溶液に３−オキソ−３
，４−ジヒドロー２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ）−１，４
−オキサジン３００１１１１ｇを加え室温で４時間攪拌
し、トリメチルシリル ７−ドリメチルシリルアミノー
３−（（６−（３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−
ピリド（４，３−ｂ ）−１，４−オキサジニオ）〕メ
チル〕−Δ３−セフェム−４−カルポキシレート ヨー
シトを含む溶液を得る。この溶液を−４５℃に冷却した
後、ピリジン０．８ ｍｌを加え。
ｄｉｓｋ ； ａｍ−’ ） ： １０３５．１３３
５．１３８０．１５２５゜１６１０．１６６５，１７１
５，１７７０゜３５Ｏ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ’ ； ａｐｐｍ）２．９０〜３
．６２． ２Ｈ，ｑ 、 、）シロ°６６ ・ １
Ｈ・ °・ １′；′ＬＨ７，１６、ｂｒｏａｄ、
ｓ 実施例２ ｉ） ７−アミノ−３−ヨードメチル−Δ３−セフェ
ムー４−カルボン酸６８０ＩＸＩｇヲシクロロメタン２
０ｍ１ニ懸濁すせＮ、Ｏ−ビス（トリメチルシリル）ト
リフルオロアセトアミド１．６８ ｒｎｌを加え室温で
１０分攪拌し、溶液を得る。この溶液に３−オキソ−３
，４−ジヒドロー２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ）−１，４
−オキサジン３００１１１１ｇを加え室温で４時間攪拌
し、トリメチルシリル ７−ドリメチルシリルアミノー
３−（（６−（３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−
ピリド（４，３−ｂ ）−１，４−オキサジニオ）〕メ
チル〕−Δ３−セフェム−４−カルポキシレート ヨー
シトを含む溶液を得る。この溶液を−４５℃に冷却した
後、ピリジン０．８ ｍｌを加え。
これに実施例１１１）で得られるＡ液を滴下後、１５分
かけて一１５℃まで昇温させる。この反応液にテトラヒ
ドロフラン５ｍｌ、ＩＮ−塩酸５ ｍｌを加え水冷下で
１０分攪拌する。攪拌後反応液からジクロロメタン及び
テトラヒドロフランを減圧留去する。残渣に水１００ｍ
１を加え、析出物を戸数する。この湿った。保護基のつ
いた粗製物に水冷下でトリフルオロ酢酸２０ｍ７を加え
室温で１５分攪拌した後、不溶物を戸去する。戸液に水
冷下、水６ ｍｌを加え室温で１時間攪拌する。この反
応液を減圧下に濃縮し、残渣にエーテルを加えて粉末化
して濾過し粗製物ｉ、ｏｓ ｇを得る。
かけて一１５℃まで昇温させる。この反応液にテトラヒ
ドロフラン５ｍｌ、ＩＮ−塩酸５ ｍｌを加え水冷下で
１０分攪拌する。攪拌後反応液からジクロロメタン及び
テトラヒドロフランを減圧留去する。残渣に水１００ｍ
１を加え、析出物を戸数する。この湿った。保護基のつ
いた粗製物に水冷下でトリフルオロ酢酸２０ｍ７を加え
室温で１５分攪拌した後、不溶物を戸去する。戸液に水
冷下、水６ ｍｌを加え室温で１時間攪拌する。この反
応液を減圧下に濃縮し、残渣にエーテルを加えて粉末化
して濾過し粗製物ｉ、ｏｓ ｇを得る。
これに水５０ ｍｔ、 Ｉ Ｎ−塩酸５ｍｌを加えて溶
解し。
解し。
ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化成製）のカラムクロマ
トグラフィーに付し最初水つ（・で水−メタノールの混
合比を（水：メタノール＝９５：５から８０ ： ２０
まで）順次かえながら溶出し、目的物を含むフラクショ
ンを濃縮し、凍結乾燥して（Ｚ） −７−Ｃα−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−α−メトキシイミノアセト
アミド）−３−（Ｃ６−（３−オキソ−３，４−ジヒド
ロ−２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ ）−１，４−オキサジ
ニオ）〕〕メチル〕−Δ３−セフェムー４−カルボキシ
レート２３５ｍｇを得る。
トグラフィーに付し最初水つ（・で水−メタノールの混
合比を（水：メタノール＝９５：５から８０ ： ２０
まで）順次かえながら溶出し、目的物を含むフラクショ
ンを濃縮し、凍結乾燥して（Ｚ） −７−Ｃα−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−α−メトキシイミノアセト
アミド）−３−（Ｃ６−（３−オキソ−３，４−ジヒド
ロ−２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ ）−１，４−オキサジ
ニオ）〕〕メチル〕−Δ３−セフェムー４−カルボキシ
レート２３５ｍｇを得る。
ＦＡＢＭＳ ； （Ｍ＋Ｈ）” ５４６ＩＲ（ＫＢｒ
ｄｉｓｋ；ａｍ−’）： １０３０．１３５０．１５３
０．１６０５゜１７００、１７７０．３３５Ｏ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ’；δｐｐｍ ）２．９２〜３．
５８． ２Ｈ，ｑ、 び）４．８８〜５．５６．２Ｈ
，ｑ、 ユ３−Ｎ６・６６ ・ ＩＨ・ °・ １
ブ８７．１４ 、 ｂｒｏａｄ 、 ｓ実
施例 ３ ７−アミノ−３−ヨードメチル−Δ３−セフニム＝４−
カルボン酸６８０ ｆｆ１ｇをジクロロメタン２０ ｍ
ｌに懸濁させ、 Ｎ、Ｏ−ビス（トリメチルシリル）
トリフルオロアセトアミド１．６８ ｍｌを加え室温で
１０分攪拌し溶液を得る。この溶液に４−ヒドロキシ−
３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド〔４゜３
−ｂ）−１，４−オキサシフ ３３２１ｔ１ｇを加え室
温で４時間攪拌し、トリメチルシリル ７−ドリメチル
シリルアミノー３−（（６−（４−ヒドロキシ−３−オ
キソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ）
−１，４−オキサジニオ）〕〕メチル〕−Δ３−セフェ
ムー４−カルボキシレートヨーシトを含む溶液を得る。
ｄｉｓｋ；ａｍ−’）： １０３０．１３５０．１５３
０．１６０５゜１７００、１７７０．３３５Ｏ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ’；δｐｐｍ ）２．９２〜３．
５８． ２Ｈ，ｑ、 び）４．８８〜５．５６．２Ｈ
，ｑ、 ユ３−Ｎ６・６６ ・ ＩＨ・ °・ １
ブ８７．１４ 、 ｂｒｏａｄ 、 ｓ実
施例 ３ ７−アミノ−３−ヨードメチル−Δ３−セフニム＝４−
カルボン酸６８０ ｆｆ１ｇをジクロロメタン２０ ｍ
ｌに懸濁させ、 Ｎ、Ｏ−ビス（トリメチルシリル）
トリフルオロアセトアミド１．６８ ｍｌを加え室温で
１０分攪拌し溶液を得る。この溶液に４−ヒドロキシ−
３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド〔４゜３
−ｂ）−１，４−オキサシフ ３３２１ｔ１ｇを加え室
温で４時間攪拌し、トリメチルシリル ７−ドリメチル
シリルアミノー３−（（６−（４−ヒドロキシ−３−オ
キソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ）
−１，４−オキサジニオ）〕〕メチル〕−Δ３−セフェ
ムー４−カルボキシレートヨーシトを含む溶液を得る。
この溶液を一５０℃に冷却した後、ピリジン０．８ｍｌ
を加え、これに実施例１１１）で得られるＡ液を滴下後
、１５分かけて一１５℃まで昇温させる。この反応液に
テトラヒドロフラン５ｍＺ、ＩＮ−塩酸５ ｍｌを加え
、水冷下で１０分攪拌する。攪拌後。
を加え、これに実施例１１１）で得られるＡ液を滴下後
、１５分かけて一１５℃まで昇温させる。この反応液に
テトラヒドロフラン５ｍＺ、ＩＮ−塩酸５ ｍｌを加え
、水冷下で１０分攪拌する。攪拌後。
反応液からジクロロメタン及びテトラヒドロフランを減
圧留去する。残渣に水１００ｍ１を加え、析出物を戸数
する。この湿った。保護基のついた粗製物に氷冷下でト
リフルオロ酢酸２０Ｉｎｌを加え室温で１５分攪拌した
後、不溶物を戸去する。Ｐ液に冷却下、水６ ｍｌを加
え室温で１時間攪拌する。この反応液を減圧下に濃縮し
、残渣にエーテルを加えて粉末化して濾過し、粗製物１
．１ｇを得る。これに水５０ｍ７．ＩＮ−塩酸５ ｍｌ
を加えて溶解し、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化成製
）カラムクロマトグラフイーに付し、最初水ついで水−
メタノールの混合比を（水：メタノール＝９５：５から
７５ ： ２５まで）順次かえながら溶出し、目的物を
含むフラクションを濃縮し、凍結乾燥して（Ｚ）−７−
［：α−（２−アミノ−４−チアゾリル）−α−メトキ
シイミノアセトアミド：）−３−（（６−（４−ヒドロ
キシ−３−オキノー３．４−ジヒドロー２Ｈ−ピリド（
４，３−ｂ〕−１，４−オキサジニオ）〕〕メチル〕−
Δ３−セフェムー４−カルボキシレート３５５１１１ｇ
を得る。
圧留去する。残渣に水１００ｍ１を加え、析出物を戸数
する。この湿った。保護基のついた粗製物に氷冷下でト
リフルオロ酢酸２０Ｉｎｌを加え室温で１５分攪拌した
後、不溶物を戸去する。Ｐ液に冷却下、水６ ｍｌを加
え室温で１時間攪拌する。この反応液を減圧下に濃縮し
、残渣にエーテルを加えて粉末化して濾過し、粗製物１
．１ｇを得る。これに水５０ｍ７．ＩＮ−塩酸５ ｍｌ
を加えて溶解し、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化成製
）カラムクロマトグラフイーに付し、最初水ついで水−
メタノールの混合比を（水：メタノール＝９５：５から
７５ ： ２５まで）順次かえながら溶出し、目的物を
含むフラクションを濃縮し、凍結乾燥して（Ｚ）−７−
［：α−（２−アミノ−４−チアゾリル）−α−メトキ
シイミノアセトアミド：）−３−（（６−（４−ヒドロ
キシ−３−オキノー３．４−ジヒドロー２Ｈ−ピリド（
４，３−ｂ〕−１，４−オキサジニオ）〕〕メチル〕−
Δ３−セフェムー４−カルボキシレート３５５１１１ｇ
を得る。
ＦＡＢＭＳ；（Ｍ十Ｈ） ５６２
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ’ ；ａｐｐｍ ）２．８８〜３
．６０． ２Ｈ、＞’ ｑ 。
．６０． ２Ｈ、＞’ ｑ 。
４゛８８〜５・５６・ ２Ｈ・ｑ・ よ。、、−８乃
５．０６． ＩＨ，ｄ、 頁
５．２０ 、 ２Ｈ，ｓ 、 工
Ｊｉ′
。二
５．６６ 、 １１（、ｄｄ 。
６．７２ 、ＩＨ，ｓ 、５占
７．２０ 、 ｂｒｏａｄ ｓ実施例４
７−アミノ−３−ヨードメチル−Δ３−セフェムー４−
カルボン酸６８０ ｆｆ１ｇをジクロロメタン２０ ｒ
ｎｌに懸濁させ、Ｎ、０−ビス（トリメチルシリル）ト
リフルオロアセトアミド１．６８ ｍｌを加え室温で１
ｏ分攪拌し、溶液を得る。この溶液に３，４−ジヒドロ
−２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ：ｌ−１，４−オキサジン
２７２■を加え室温で３時間３０分攪拌し、トリメチル
シリル ７−ドリメチルシリルアミノー３−［：（６−
（３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ ］−
１゜４−オキサジニオ）〕〕メチルーΔ３−セフェムー
４−カルボキシレートヨーシトを含む溶液を得る。この
溶液を一４５℃に冷却した後、ピリジン０．８ ｒａｔ
を加え、これに実施例１１１）で得られるＡ液を滴下後
、１５分かけて一１５℃まで昇温させる。この反応液に
テトラヒドロフラン５ｍｔ、ＩＮ−塩酸５Ｉ！ｌｔを加
え水冷下で１０分攪拌する。攪拌後反応液からジクロロ
メタン及びテトラヒドロフランを減圧留去する。残渣に
水１００ ｔｎｔを加え析出物を戸数する。この湿った
。保護基のついた粗製物に水冷下でトリフルオロ酢酸２
０ ｍｌを加え室温で１５分攪拌した後、不溶物を戸去
する。炉液に水冷下、水６ ｍｌを加え室温で１時間攪
拌する。この反応液を減圧下に濃縮し残渣にエーテルを
加えて粉末化して濾過し、粗製物１．１５ｇを得る。
カルボン酸６８０ ｆｆ１ｇをジクロロメタン２０ ｒ
ｎｌに懸濁させ、Ｎ、０−ビス（トリメチルシリル）ト
リフルオロアセトアミド１．６８ ｍｌを加え室温で１
ｏ分攪拌し、溶液を得る。この溶液に３，４−ジヒドロ
−２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ：ｌ−１，４−オキサジン
２７２■を加え室温で３時間３０分攪拌し、トリメチル
シリル ７−ドリメチルシリルアミノー３−［：（６−
（３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド（４，３−ｂ ］−
１゜４−オキサジニオ）〕〕メチルーΔ３−セフェムー
４−カルボキシレートヨーシトを含む溶液を得る。この
溶液を一４５℃に冷却した後、ピリジン０．８ ｒａｔ
を加え、これに実施例１１１）で得られるＡ液を滴下後
、１５分かけて一１５℃まで昇温させる。この反応液に
テトラヒドロフラン５ｍｔ、ＩＮ−塩酸５Ｉ！ｌｔを加
え水冷下で１０分攪拌する。攪拌後反応液からジクロロ
メタン及びテトラヒドロフランを減圧留去する。残渣に
水１００ ｔｎｔを加え析出物を戸数する。この湿った
。保護基のついた粗製物に水冷下でトリフルオロ酢酸２
０ ｍｌを加え室温で１５分攪拌した後、不溶物を戸去
する。炉液に水冷下、水６ ｍｌを加え室温で１時間攪
拌する。この反応液を減圧下に濃縮し残渣にエーテルを
加えて粉末化して濾過し、粗製物１．１５ｇを得る。
これ忙水５０ｍ１．ＩＮ−塩酸５ ｍｌを加えて溶解し
。
。
ダイ゛ヤイオンＨＰ−２０（三菱化成製）のカラムクロ
マトグラフィーに付し、最初水ついで水−メタノールの
混合比を（水：メタノール＝ ９５ ： ５から７５＝
２５まで）順次かえながら溶出し、目的物を含むフラク
ションを濃縮し、凍結乾燥して （Ｚ） −７−〔α−
（２−アミノ−４−チアゾリル）−α−メトキシイミノ
アセトアミド）−３−（１：６−（３゜４−ジヒドロ−
２Ｈ−ピリドＩ： ４．３−ｂ）−１，４−オキサジニ
オ）〕〕メチル〕−Δ３−セフェムー４−カルボキシレ
ート２６７を得る。
マトグラフィーに付し、最初水ついで水−メタノールの
混合比を（水：メタノール＝ ９５ ： ５から７５＝
２５まで）順次かえながら溶出し、目的物を含むフラク
ションを濃縮し、凍結乾燥して （Ｚ） −７−〔α−
（２−アミノ−４−チアゾリル）−α−メトキシイミノ
アセトアミド）−３−（１：６−（３゜４−ジヒドロ−
２Ｈ−ピリドＩ： ４．３−ｂ）−１，４−オキサジニ
オ）〕〕メチル〕−Δ３−セフェムー４−カルボキシレ
ート２６７を得る。
ＦＡＢＭＳ （Ｍ＋Ｈ）” ｓ ３２
Ｉ Ｒ（ＫＢｒ ｄｉｓｋ ； ａｍ一つ： １０２５
，１３４０．１５２５，１６１０゜１７６０、３３０Ｏ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ’； ａｐｐｍ ）３ｇ” ２．８４〜３．５６． ２Ｈ，ｑ。
，１３４０．１５２５，１６１０゜１７６０、３３０Ｏ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ’； ａｐｐｍ ）３ｇ” ２．８４〜３．５６． ２Ｈ，ｑ。
３．４０ 、 ２Ｈ，ｂｒｏａｄ 、 ”ｂＨ
ｔ
ｔ
Claims (3)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１は、水素原子、水酸基または低級アルコ
キシ基を、Ｒ＾２は、低級アルキル基を、またＡはカル
ボニル基またはメチレン基を意味する。） で示される新規なセファロスポリン誘導体又はその塩類 - （２）Ａがメチレン基であり、Ｒ＾１が水素原子であり
かつ、Ｒ＾２がメチル基である特許請求の範囲第（１）
項記載の化合物 - （３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（式中、Ｘはハロゲ
ン原子を意味する。）で示される７−アミノ−３−ハロ
ゲノメチル−Δ＾３−セフェム−４−カルボン酸に 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾３は低級アルキル基を意味する。）で示さ
れるＮ，Ｏ−ビス（トリ低級アルキルシリル）トリフル
オロアセトアミドおよび 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ａはカルボニル基またはメチレン基を、Ｒ＾１
は水素原子、水酸基または低級アルコキシ基を意味する
。） で示されるピリドオキサジン誘導体を反応させ、反応生
成物に 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾４は、水素原子またはアミノ基の保護基を
、Ｒ＾２は、低級アルキル基を意味する。）で示される
置換オキシイミノチアゾリル酢酸またはその反応性誘導
体を反応させたのち、その反応生成物から必要により保
護基を除去することを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＡは、前記の意味を有す
る。）で示される新規なセファロスポリン誘導体または
その塩の製造法
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59219177A JPS6197291A (ja) | 1984-10-17 | 1984-10-17 | ７−〔α−（２−アミノ−４−チアゾリル）−α−（低級アルコキシイミノ）アセトアミド〕−３−〔６−（２Ｈ−ピリド〔４，３−ｂ〕−１，４−オキサジニオ）メチル〕−Δ３−セフエム−４−カルボキシレ−トおよびその製造法 |
| EP85302985A EP0160546A3 (en) | 1984-04-26 | 1985-04-26 | Cephalosporin compounds, and their production, and medicaments containing them |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59219177A JPS6197291A (ja) | 1984-10-17 | 1984-10-17 | ７−〔α−（２−アミノ−４−チアゾリル）−α−（低級アルコキシイミノ）アセトアミド〕−３−〔６−（２Ｈ−ピリド〔４，３−ｂ〕−１，４−オキサジニオ）メチル〕−Δ３−セフエム−４−カルボキシレ−トおよびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6197291A true JPS6197291A (ja) | 1986-05-15 |
Family
ID=16731405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59219177A Pending JPS6197291A (ja) | 1984-04-26 | 1984-10-17 | ７−〔α−（２−アミノ−４−チアゾリル）−α−（低級アルコキシイミノ）アセトアミド〕−３−〔６−（２Ｈ−ピリド〔４，３−ｂ〕−１，４−オキサジニオ）メチル〕−Δ３−セフエム−４−カルボキシレ−トおよびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6197291A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020521007A (ja) * | 2017-05-25 | 2020-07-16 | ジェイダブリュー・ファーマシューティカル・コーポレイションＪｗ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 複素環誘導体化合物の製造方法、その化合物を含む組成物及びその化合物の水和物 |
-
1984
- 1984-10-17 JP JP59219177A patent/JPS6197291A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020521007A (ja) * | 2017-05-25 | 2020-07-16 | ジェイダブリュー・ファーマシューティカル・コーポレイションＪｗ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 複素環誘導体化合物の製造方法、その化合物を含む組成物及びその化合物の水和物 |
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