JPS60252485A - ７−〔α−（２−アミノ−４−チアゾリル）−α−（低級アルコキシイミノ）アセトアミド〕−３−置換ピリジニオメチル−Δ３−セフエム−４−カルボキシレ−トおよびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （発明の技術分野） 本発明は、抗菌活性を有する医薬として有用なセファ０
スポリン系の化学物質またはその塩およびその製造方法
に関する。

（発明の解決手段） 本発明の化合物は２次式で示される　７−［α−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−α−（低級アルコキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−置換ピリジニオメチルーΔ３
−セフェム−４−カルボキシレートまたはその塩類であ
る。

（上記式中　Ｂｌは低級アルキル基を、また。

Ｒ２は置換または未置換の低級アルキルオキシ基もしく
は置換または未置換′の低級アルキルチオ基を意味する
。以下同じ。） また２本発明の製造方法は、一般式 （式中、Ｘは）・ロゲン原子を意味する。以下同じ。） で示される　７−アミノ−３−ノ＼ロゲノメチルーΔ３
−セフェム−４−カルボン酸に一般式（式中　Ｒ３は低
級アルキル 下同じ。） で示されるＮ，Ｏ−ビス（トリ低級アルキルシ＋フル）
トリフルオロアセトアミドおよび式 （式中，Ｒ２は置換または未置換の低級アルキルオキシ
基もしくは置換またをま未置換の低級アルキルチオ基を
，また、Ｒ４（ま水素原子まで示されるジ置換ピリジン
を反応させ，反応生成物に一般式 で示される置換オキシイミノチアソ°リル酢酸またはそ
の反応性誘導体を反応させたのち，その反応生成物から
必要により保護基を除去することを特徴とする一般式 で示される　７−［α−（２−アミノ−４−チアゾリル
）−α−（低級アルコキシイミノ）アセトアミド］−・
３−置換ビリジニオメチルーΔ３ーセフエム−４−カル
ボキシレートまたレマその塩類の製造方法である。

（発明の詳細な説明） 上式の化合物において，Ｒ１力；意味する低級アルキル
基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イング
ロビル基、ブチル基、ペノチル基などの炭素数１乃至５
個の直鎖状または分枝状のアルギル基である。

また　Ｈ２が意味する未置換の低級アルキルオキシ（ま
たはチオ基）としてはメチルオキシ（またはチオ）基、
エチルオキシ（またはチオ）基。

クロヒルオキシ（またはチオ）基、イングロビルオキシ
（またはチオ）基２ブチルオキシ（マたはチオ）基など
の炭素数１乃至５個の直鎖状または分枝状のアルキルオ
キシ（またはチオ）基である。

置換の低級アルキルオキシ（またはチオ）基における置
換基としては、水酸基またはアミン基である。これらの
置換基は１個または２個置換することができる。

また、ピリジニオ基に置換する２つの基（アミノ基およ
びＲ２基）は、ピリジ／環のし・ずれの位置に置換され
ていてもよい。

本発明によって提供される化合物（Ｉ）は、セファ０ス
ポリン核の７位の側鎖に　α−（２−アミノ−４−チア
ゾリル）−α−（低級アルコキシイミノ）アセチル基を
有し、且つ３位の側鎖にジ置換ピリジニオ基を有する点
に化学構造上の特徴を有する新しいセファロスボリン誘
導体である。

（化合物の効果及び利用） 本発明の化合物は、下表１に示されるようにすぐれた抗
菌活性を示す。殊にダラム陽性菌および陰性菌に属する
幾つかの重要な病原菌に対してすぐれた効力が認められ
るので１本発明の化合物は、医薬品、殊に抗菌剤、飼料
の添加剤。

保存剤などとして有用である。

また２本発明の化合物（Ｉ）は、水溶性にすぐれている
ので、高濃度の水溶液を調製することができる。

本発明の化合物は、そのままあるいはその塩として需要
に供される。塩としては、薬学的に許容される非毒性の
酸または塩基との塩である。

酸との塩としては、たとえば一般式 で示されるピリジニウム塩（ここにｙｏｉ：示されるア
ニオンとしては、たとえば、ハロゲンアニオ７　（Ｃ１
°、■ｅ等）、スルホン酸ア＝オノ（Ｈｓｏｐ。

３０！９ｅ等）等の無機アニオンおよびベンゼンスルホ
ン酸アニオン（Ｃ６Ｈ５５Ｏｐ　）、酢酸アニオン（Ｃ
Ｈ３ＣＯＯ”　）、　７　マル１７　＝、ｔ　７　（Ｈ
ＯＯＣ−ＣＨ：できる）が用（・られる。また、塩基と
の塩としては一般式 で示されるカルボキシル基における塩（たとえばナトリ
ウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩；アンモニウ
ム塩；またはジシクロヘキシルアミン塩、シクロヘキシ
ルアミン塩、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩
、エタノールアミン塩、オルニチン塩、リジン塩などの
有機塩基との塩を挙げることができる。）が用いられる
。

本発明の化合物またはその塩類は、抗菌剤として経口的
あるいは非経口的に投与される。投与量は、症状２体重
などに応じて異なるが、成人で１日２５０〜３０００　
ｍｇであり、これを３〜４回に分けて投与する。

投与に適した剤形は、注射剤１錠剤、カプセル、シロッ
プなどである。化合物（Ｉ）は水溶性にすぐれているの
で、殊に高濃度の注射剤の調製が容易である。これらの
剤形の調製は、製剤宇土用いられる賦形剤、保存剤、安
定剤などを添加し１通常の方法によって行いうる。

（製造方法の具体的説明） 本発明の化合物（Ｉ）は一般式 で示される　７−アミン−３−ハロゲノメチル−Δ３−
セフェムー４−カルボン酸に一般式で示されるＮ、Ｏ−
ビス（トリ低級アルキルシリル）トリフルオロアセトア
ミドおよび式で示される置換ピリジンを反応させ２反応
生成＼ＯＲ＋ で示される置換オキシイミノチアゾリル酢酸（Ｖ）また
はその反応性誘導体を反応させたのち１反応生成物から
必要により保護基を除去することＣ（よって製造するこ
とができる。

この製造法を行うには、まず　７−アミノ−３−ハロゲ
ノメチル−Δ３−セフェムー４−カルボン酸（ＩＩ）ま
たはその塩とＮ、０−ビス（トリ低級アルキルシリル）
トリフルオロアセトアミド（ＩＩ［）およびジ置換ピリ
ジン■とを、この反応に不活性な有機溶媒中で反応させ
る。ここに使用されるジ置換ピリジン（ＩＶ）における
アミン基の保護基は、ペプチド化合物の合成に通常用い
られるものであれば制限がない。それらの具体的内容は
、後述する化合物（Ｖ）におけるアミン基の保護基Ｒ４
と同じである。

Ｎ、Ｏ−ビス（トリ低級アルキルシリル）トリフルオロ
アセトアミド（ＩＩＩ）およびジ置換ピリジ７　ＱＶ）
は、同時に化合物（ＩＩ）と反応させることもできるが
１段階的に反応させることもできる。

この反応は室温で容易に進行する。段階的に反応させる
ときは、前者の反応を室温で行し・。

後者の反応を冷却下で行う等、夫々の反応で異なる条件
を採用することができる。

この反応に不活性な有機溶媒としては、ジクロルメタン
、アセトノ、アセトニトリル、テトラヒドロフラノ等が
用いられる。

こうして、シリル系の保護基を有する化合物（Ａ）が生
成する。

つぎに、化合物（Ａ）を含む反応溶液に、置換オキソイ
ミノチアゾリル酢酸（Ｖ）またはその反応性誘導体を反
応させ９式 で示される化合物を得、この生成物力・ら保護基を脱離
させることによって、目的化合物（Ｉ）を得る。

ここに、化合物（Ｖ）におけるアミン基の保護基Ｒ４と
しては、たとえばトリメチルシリル基などのトリ低級ア
ルキルシリル基、ホルミル基。

アセチル基、プロピオニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル基、メトキシアセチル基、メトキシグロピオニル
基、ベンジルオキシカルボニル基。

ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基ナトのアシル基
、ベンジル基、ベンズヒドリル基（ジフェニルメチル基
）、トリチル基（）　ＩＪフェニルメチル基）などのア
ラルキル基などが用いられる。

化合物（Ａ）と化合物（Ｖ）との反応は２通常溶媒中冷
却下乃至室温下で行なわれる。溶媒は反応に関与しない
ものであれば特に制限はない。

前段の反応で使用された溶媒を用−・ることかできるほ
か２通常使用されるものとしては、ジオキザン、エーテ
ル、エチルメチルケトン、クロロホルム、ジクロルエタ
ン、酢酸エチル、キ酸エチル、ジメチルホルムアミ・ド
、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒が挙げられる。こ
れらの溶媒は適宜混合して用（・ることもできる。

化合物（Ｖ）は遊離カルボン酸の状態で使用されるほか
、カルボン酸の反応性誘導体とし゛Ｃ反応に供される。

カルボン酸の反応性誘導体としては活性エステル、混合
酸無水物、酸ハロゲ／化物、活性アミド、酸無水物、酸
アジド等が用いられる。化合物０りを遊離のカルボッ酸
の状態で使用するときは、Ｎ、Ｎ’−ジシクロヘキシル
カルボジイミド、Ｎ、Ｎ’−ジエチルカルボジイミド等
の縮合剤を使用するのが好ましい。

また用いられるカルボン酸の反応性誘導体の種類によっ
ては、塩基の存在下に反応させるのが２反応を円滑に進
行させる土で好まＬ　ｌ、・場合もある。かかる塩基と
しては炭酸水素プトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、トリメチルアミ
ン。

トリエチルアミン、ジメチルアニリン、ピリジン等の有
機塩基が挙げられる。

こうして得られた生成物からの保護基の脱離は、保護基
がトす低級アルキルシリル基であるときは、水で処理す
ることにより容易に行うことができる。また、トリチル
基の如きアラルキル基や各種のアシル基を用いる場合に
は酸による加水分解によって容易に行うことができる。

この際用いられる酸としてはギ酸、トリフ／ｌ／オロ酢
酸、塩酸等が好ましく・。

一般式（Ｉ）で示される本発明化合物の塩は。

たとえば上記製法において予じめ原料化合物の塩を用い
て製造することにより、あるし・は上記製法により製造
された遊離の化金物に当分野で慣用されている造塩反応
を適用することにより製造することができる。

本発明化合物（Ｉ）及びその塩の単離精製は常法に従っ
て行なわれ、有機溶媒による抽出、結晶化、カラムクロ
マトグラフィー等による分離精製が用いられる。

実施例１゜ ０ＣＨ３ １ １）７−アミノ−３−ヨードメチル−Ｉ−セフェム−４
−カルボン酸６８０ｍｇヲシクロロメタン２０ｍ１に懸
濁させ、　Ｎ、　０−ビス（トリメチルシリル）トリフ
ルオロアセトアミド１．１５　ｍｌを加え室温で１０分
攪拌し、溶液を得る。この容液に、３−アミノ−４−メ
トキシピリジン２６１１Ｔｔｇを加え、室温で４時間３
０分攪拌し、トリメチルシリル　７．−）　！Ｊレート
　ヨーシトを含む溶液を得る。

ｉｉ）　（Ｚ）−α−（２−トリチルアミノ−４−チア
ゾリル）−α−メトギシイミノ酢酸８８６ｍｇをジクロ
ロメタン１０ｍ１に懸濁させ、３°−４℃に冷却Ｉ−２
五塩化リン４１６■を加え、３°〜４℃で１５分攪拌す
る。（Ａ液と呼ぶ）。一方　１）で得たトリメチルシリ
ル　７−１−　ＩＪメチルシリルアミン−（３−アミノ
−４−メトキシビリジニメメチル）−Δ３ーセフェムー
４ーカルボキシレートヨージドを含む溶液を，−４０℃
に冷却したのち，ピリジン０．８ｒｎｌを加え，これに
上記Ａ液を滴下後，１５分かけて一１５℃まで昇温させ
る。この反応液に。

水２　ｍｌ，テトラヒドロフラン５ｍ／．，１Ｎ−塩酸
４ｍ乙を加え水冷下で１０分攪拌する。攪拌後，反応液
から，ジクロロメタン及びテトラヒドロフランを減圧留
去する。残渣に水１００ｍｌを加え，析出物を沢過する
。この析出物を水洗後乾燥し。

保護基のついた粗製物１．７　４　ｇを得る。これに水
冷下でトリフルオル酢酸２０ｍｔを加え室温で１５分攪
拌した後，不溶物を渥去する。Ｆ液に，水冷下，水１　
０ｍｌを加え室温で１時間攪拌する。この反応液な減圧
下に濃縮し，残渣にエーテルを加えて粉末化して，濾過
し粗製物１．１５ｇを得る。

これに水５０ｍｔ，　ＩＮ−塩酸５ｍｌを加えて溶解し
。

ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化成製）のカラムクロマ
トグラフィーに付し，、最初水つ（・で水−メタノール
の混合比を（水：メタノール−９５：５から７５：２５
まで）順次かえながら溶出し、目的物を含むフラクショ
ンを濃縮し、凍結乾燥して（Ｚ）−７−＋［α−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−α−メトキシイミノアセト
アミド］？−３−（３−アミノ−４−メトキシピリジニ
オメチル）−Δ３−セフェムー４−カルボキシレート２
７９■を得る。

Ｑ　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）　δｐｐｍ３．８０　３
Ｈ＋　ｓ　、　Ｎ−ユニ。

６．２２　、　ｓ、’　ｂｒｏａｄ ６．７２　１Ｈ，ｓ　、　、Ｌ７゜ ７．２０　、　ｓ、ｂｒｏａｄ ｏ　ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ”−’ ２９００〜３６００ ７６５ ６１０ ５３０ ０　ＦＡＢＭＳ　（Ｍ＋Ｈ）　５２０ ０水に対する溶解度 ２３％以上 実施例２゜ 、ＯＣＨ３ １ １）７−アミノ−３−ヨードメチル−Δ３−セフェムー
４−カルボン酸６８０１１１ｇをジクロロメタン２゜ｍ
ｌに懸濁させ、Ｎ、０−ビス（トリメチルシリル）トリ
フルオロアセトアミド１．１５　ｍｌを加えて室温で１
０分攪拌し溶液を得る。この溶液に　３−アミノ−４−
ｃ　Ｃ２，２−ジメチル−１，３−ジオキシラン−４−
イル）メトキシ〕ピリジン５３８ＩＱｇを加え。

室温で３時間４５分攪拌し、トリメチルシリル７−ドリ
メチルシリルアミノー３−〔３−アミノ−４−（２，２
−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキ
シピリジニオメチルツー４−カルボキフレート　ヨーシ
トを含む溶液を得る。この溶液を一３０℃に冷却した後
、ピリジン０．８ｍｌを加え、これに実施例１．ＩＤで
得られるＡ液を滴下後、１５分かけて一１５℃まで昇温
させる。この反応液に水２ｍ７．　テトラヒドロフラン
５ｍｔ。

ＩＮ−塩酸４ｍｌを加え、水冷下で１０分間攪拌する。

攪拌後２反応液からジクロロメタン及びテトラヒドロフ
ランを減圧留去する。残渣に水１００ｍＺを加え析出物
を濾過する。この析出物を水洗後乾燥し、保護基のつい
た粗製物１．７８　ｇを得る。

これに水冷下でトリフルオロ酢酸２０ｍＺを加え室温で
１５分攪拌した後、不溶物を瀘去する。Ｆ液に氷冷下水
１０＋ｎ！を加え室温で１時間攪拌する。この反応液を
減圧下に濃縮し、残渣にエーテルを加えて粉末化して涙
過し粗製物１．２ｇを得る。これトゲラフイーに付し最
初水、ついで水−メタノールの混合比を（水：メタノー
ル−９５＝５から８０　：　２０まで）順次かえながら
溶出し、目的物。

を含むフラクションを濃縮し、凍結乾燥して（Ｚ）−７
−〔α−（２−アミノ−４−チアゾリル）−α−メトキ
シイミノア卆トドアミド−３−［：３−アミノ−４−（
２，３−ジヒドロキシプロビルオキシ）ピリジニオメチ
ル〕−Δ３−セフェム−４−カルボキシレート２８９ｑ
ｊを得る。

ＯＮＭＲ（ＤＭＳ　Ｏ−ｄ’）　δｐｐｍ３．８０　３
Ｈ，ｓツ　Ｎ−０ＣＨ。

５．０４　ｔＨ，ａ、　ｏｑ ６．２６　２Ｈ，ｓ、ｂｒｏａｄ ６．７２　１　Ｈ，ａ、ＸＴ。

７．２０　、　ｓ、ｂｒｏａｄ ｏ　ＩＲ（ＫＢｒ）ａｍ−’ １７６０．１６００，１５２０゜ ｏ　ＦＡＢＭＳ　（Ｍ＋Ｈ）　５８０ 実施例３゜ 、ＯＣＲ。

１）７−アミノ−３−ヨードメチル−Δ３−セフェムー
４−カルボン酸６５０■をジクロロメタン２０１１１ｔ
に懸濁させ、Ｎ、０−ビス（トリメチルシリル）トリフ
ルオロアセトアミド１１ｍ＆を加え室温で１０分攪拌し
溶液を得る。この溶液にビス（トリメチルシリル）トリ
フルオロアセトアミド１ｍｌ、３−アミノ−４−［（２
−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ　エチル）オキシ〕ピ
リジン４９６１ｍ１ｇを加え室温で５時間攪拌し、トリ
メチルシリル　７−ドリメチルシリルアミノー３−〔３
−アミノカルボキシレートヨージドを含む溶液を得る。

ｉｉ）　（Ｚ）−α−（２−トリチルアミフケ−４−チ
アゾリル）−α−メトキシイミノ酢酸８４７１１’ｔｇ
をジクロロメタン１０ｒｎｌに懸濁させ、３°−４°Ｃ
に冷却し、五塩化リン３９８１１１ｇを加え、３°−４
℃で１５分攪拌する。（Ａ液と呼ぶ）。一方　１）で得
たトリメチルシリル　７−ドリメチルシリルアミノー３
−［３−アミノ−４−（（２−ｔ−ブトキを含む溶液を
、−４０℃に冷却した後、ピリジン０．７７ｍ１を加え
、これに上記Ａ液を滴下後、１５分かけて一１５℃まで
昇温させる。この反応液に水２ｍｌ、テトラヒドロフラ
ン５ｍｔ、ＩＮ−塩酸４　ｍｌを加え水冷下で１０分間
攪拌する。攪拌後２反応液からジクロロメタン及びテト
ラヒドロフランを減圧留去する。残渣に水１００ｍ１を
加え、析出物をテ遇する。この析出物を水洗後乾燥し、
保護基のついた粗製物１．７４　ｇを得る。これに水冷
下でトリフルオロ酢酸２０ｍ１を加え室温で４０分攪拌
した後、不溶物を戸去する。ν液に水冷下。

水１０ｍ１を加え室温で４５分攪拌する。この反応液を
減圧下に濃縮し、残渣にエーテルを加えて粉末化して濾
過し、粗製物１．１３　ｇを得る。これに水５０ＩｏＺ
ＩＮ−塩酸１０ｍ７を加えて溶解し、ダイヤイオンｕｐ
−ｚｏ（三菱化成製）のカラムクロマトグラフィーに付
し、最初水、ついで水−メタノールの混合比を（水：メ
タノール＝　９５　：　５から８０　：　２０まで）順
次かえながら溶出し、目的物を含むフジクションを濃縮
し、凍結乾燥して（Ｚ）　−７−（α−（２−アミノ−
４−チアゾリル）−α−メトキシイミノアセトアミド〕
−３＝〔３−アミノ−４−（２−アミノエトキシ）ピリ
ジニオメチル〕−Δ３−セフェム−４−カルボキシレー
ト１０３．４■を得る。

ＯＮＭＲ（ｄ’−ＤＭＳ　Ｏ）　δｐｐｍ６．７２　１
　Ｈ，ａ　、、＜ａ。

？ ７．２０　２Ｈ，ｓ　、　ｂｒｏａｄ ９．２５　１Ｈ，ｄ、　−ＣＯＮＨ− ｏ　ＩＲ（ＫＢｒ）ａｍ−’ １７６０．１６２０゜ ＣＩ　ＦＡＢＭＳ　（Ｍ−Ｈ（）＋５４９　（遊離型）
実施例４゜ １０ＣＨ３ １ １）７−アミノ−３−ヨードメチル−Δ３−セフェムー
４−カルボン酸６８０■をジクロロメタン２０ｍ１に懸
濁させ、Ｎ、０−ビス（トリメチルシリ／ｌ／）トリフ
ルオロアセトアミド１．１２ｍｌを加え室温で１０分攪
拌し、溶液を得る。この溶液に、３−アミノ−４−メチ
ルチオピリジン２９４ｒｒ＠を加え室温で４時間攪拌し
、トリメチルシリル　７−ドリメチートヨージドを含む
溶液を得る。

ｉＤ　（Ｚ）−α−（２−トリチルアミノ−４−チアゾ
リル）−α−メトキシイミメ酢酸８８６■をジクロロメ
タン１０ｎ＋Ｚに懸濁させ、３°−４℃に冷却し。

五塩化リン４１．６１１１ｇを加え、３°−４℃で１５
分攪拌する。（Ａ液と呼ぶ）。一方　１）で得たトリメ
チルシリル　７−ドリメチルシリルアミノー３−（３−
アミノ−４−メチルチオピリジニオメチル）−Δ３−セ
フェムー４−カルボキシレートヨージドを含む溶液を、
−４０℃に冷却したのち。

ピリジン０．８ｍｌを加え、これに上記Ａ液を滴下後１
５分かけて一１５℃まで昇温させる。この反応液に水２
ｍＺ、テトラヒドロフラン５■、１Ｎ−塩酸４ｍｌを加
え水冷下で１０分間攪拌する。攪拌後２反応液からジク
ロロメタン及びテトラヒドロフランを減圧留去する。残
渣に水１００ｍ１４を加え、析出物を沖過する。この析
出物を水洗後乾燥し。

保護基のついた粗製物１．６２　ｇを得る。これに水冷
下で、トリフルオロ酢酸２０ｍ１を加え、室温で１５分
攪拌した後不溶物を炉去する。ろ液に水冷下、水１０ｍ
１を加え、室温で５０分攪拌する。この反応液を減圧下
に濃縮し、残渣にエーテルを加えて粉末化して涙過し、
粗製物０．９３　ｇを得る。

これに水５０ｍｔ、　ＩＮ−塩酸５ｍｔを加えて溶解し
。

ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化成製）のカラムクロマ
トグラフィーに付し、最初水、ついで水−メタノールの
混合液を（水：メタノール−９５＝５から７０　：　３
０まで）順次かえながら溶出し、目的物を含むフラクシ
ョンを濃縮し、凍結乾燥して（Ｚ）−７−（α−（２−
アミノ−４−チアシリ／ｌ／）−α−メトキシイミノア
セトアミド〕−３−（３−アミノ−４−メチルチオピリ
ジニオメチル）−Δ３−セフェムー４−カルボキシレー
ト２５３■を得る。

ＯＮＭＲ（ｄ”ＤＭｓｏ）　δｐｐｍ ２．６５　３Ｈ，ｓ　、　−８ＣＨ３ ６．３６　２　Ｈ％ｒｏａｄ＝ｅ ６．７０　１Ｈ，ｓ、号Ｌ ７．１８　２　Ｈ％ｒｏａｄＰ＆ ｏ　ＩＲ（ＫＢｒ）ａｍ　’　− １７６５，１６００，１５２５゜ ｏ　ＦＡＢＭＳ　（Ｍ＋Ｈ）　５３６

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 （式中　Ｒ１は低級アルキル基、Ｒ２は置換または未置
   換の低級アルキルオキシ基もしくは置換または未置換の
   低級アルキルチオ基を意味する。） で示される　７−［α−（２−アミノ−４−チアゾリル
   ）−α−（低級アルコキシイミノ）アセトアミド１−３
   −置換ビリジニオメチルーΔ３−セフェム−４−カルボ
   キシレートまたはその塩類。
2. （２）一般式 （式中、Ｘはハロゲン原子を意味する。）で示される　
   ７−アミノ−３−ハロゲンメチル−Δ３−セフェムー４
   −カルボン酸に一般式％式％（）
3. （３） （式中　Ｒ３は低級アルキル基を意味する。）（式中　
   Ｂ２は置換または未置換の低級アルキルオキシ基もしく
   は置換または未置換の低級アルキルチオ基を、また　Ｈ
   ４は水素原子またはアミン基の保護基を意味する。） で示されるジ置換ピリジンを反応させ１反応生成物知一
   般式 （式中、Ｒ１は低級アルキル基を、また　Ｒ４は水素原
   子またはアミノ基の保護基を意味する。） で示される置換オキシイミノチアゾリル酢酸またはその
   反応性誘導体を反応させたのち、その反応生成物から必
   要圧より保護基を除去することを特徴とする一般式 （式中　ＨｌおよびＲ２は前記の意味を有する。 で示される　７−［α−（２−アミノ−４−チアゾリル
   ）−α−（低級アルコキシイミノ）アセトアミド］−３
   −置換ビリジニオメチルーΔ３−セフェム−４−カルボ
   キシレートまたはその塩類の製造法。