JPS6191023A - 管状石英ガラスの製造方法 - Google Patents

管状石英ガラスの製造方法

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JPS6191023A
JPS6191023A JP20891784A JP20891784A JPS6191023A JP S6191023 A JPS6191023 A JP S6191023A JP 20891784 A JP20891784 A JP 20891784A JP 20891784 A JP20891784 A JP 20891784A JP S6191023 A JPS6191023 A JP S6191023A
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JP
Japan
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quartz glass
temperature
tubular quartz
sol
gel
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JP20891784A
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English (en)
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Haruo Nagafune
長船 晴夫
Sadao Kanbe
貞男 神戸
Teiichirou Mori
森 禎一郎
Masahisa Ikejiri
昌久 池尻
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication of JPS6191023A publication Critical patent/JPS6191023A/ja
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/12Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes

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  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、金属アルコキシドの加水分解液に、超微粉末
シリカを添加した溶液を原料とするゾル−ゲル法におい
て、該原料浴衣を円筒状容器に入れ回転させながらゲル
化させることにより、管状石英ガラスを製造する方法に
関する。
〔従来技術〕
石英ガラスは、高純度のものが製造できるようになった
ため、最近では半纏体の製造に使用するルツボ、ボード
あるいは拡散炉用の炉芯管に用いられるようになり、そ
の有用性が認められている。また、理化学用のビーカー
等のガラス器具や光学測定用のセルなどにも用いられ、
TIPT(薄膜トランジスタ)用の基板などへの応用も
注目されるようになり、今後ますます需要が拡大するも
のと期待されている。
このように、石英ガラスの利用分野は多岐にわたるが、
使用目的によりその製造法、品質、形状は異なる。最近
、大容量伝送を目的とした光通信における光伝送媒体と
して石英ガラスを主原料とした光ファイバーが用いられ
ている。この元7アイバー用の母材製造時に出発材料あ
るいは外径調整等のため管状の石英ガラスが必要である
。この時使用される管状石英ガラスは、寸法精度は勿論
品質的にも高度なものが要求される。そのため^・非常
に高価格で元ファイバーの低廉化への大きなネックとな
っている。
現在、市販されている管状石英ガラスは主に次の三種類
の方法で製造されている。
1) 天然水晶を洗浄し、これを浴融する方法。
2)高純度の5IC24あるいは5in4を原料として
Sin、を作る方法。
3) 天然珪砂を溶融する方法。
幻の方法によるものは純度的に光通信には使用できない
が、いずれにしても高温での処理が必要であり、これら
の製造方法の特徴として、心円度の高い管状石英ガラス
を製造するのは、非常に困難が伴う。
最近、ゾル−ゲル法を利用した光フアイバー用の管状石
英ガラスの製造が試みられている。ゾル−ゲル法の特長
としては、原料の金属アルコキシドの精製が容易なため
純度の高い石英ガラスが得られること、転移点以下で透
明石英ガラスが得られるため製造コストが安価であるこ
となどがあげられる。
ひとつの方法とし・て(日立特許 −)、シリコンアル
;キシド、水、アルコールおよび適当な触媒を含む原料
液を脱着可能な中心棒を有する円筒容器内に流し入れて
ゲル化させ、収縮が始まる前に中心棒を引き抜いて乾燥
、焼結して管状石英ガラスとする方法である。このよう
な方法では、大型のものを割れることなく製造すること
は困難であり、当然長尺のものは得られない。
またRavinovich  らによつて超微粉末シリ
カを原料とするゾル−ゲル法により管状石英ガラスを製
造する試みがなされている。これは超微粉末シリカを一
度ゲル化、焼結したものを粉砕し再分散させたヒドロシ
ル溶液を円筒容器に入れ、中心棒をさし込んでゲル化後
それを引き抜き管状ゲルとするもので、これを乾燥、焼
結することにより、1.7備内径×2.3傭外径×25
備長のものが得られている。この方法では前法に比べ、
ドライゲル作成工程および焼結工程での割れやクチツク
が発生しに<<、より大型の管状石英ガラスが作製でき
ると予想される。しかし、2回の分散1稈の手間や、不
純物混入の危ぐおよび光学的な均質性の点などにおいて
も不利な面が多いように思われる以上述べたように、こ
れまでに試みられたゾル−ゲル法による管状石英ガラス
の製造方法では、いずれも充分な大きさ、充分な品質を
有する石英ガラスは得られておらず、゛実用化には至っ
てぃない。
〔目的〕
本発明の目的は、ゾル−ゲル法に新しい手法を導入した
特願昭58−23−7577号の方法を応用し、大型で
高品質の管状石英ガラスを製造することにある。
本発明の製造方法は、まずシリコンアルコキシドに水お
よび塩酸あるいは必要に応じて溶媒を加えて加水分解し
、ゾルとする。次にこのゾル溶液に、超微粉末シリカ(
キャボシル、アエロジル(Aerosil、デグッサ社
製)、ディー・シー・シリカ(D、O,5ilie& 
、ダウ・コーニング社製)、アーク・シリカ(hra 
5ilica 、 P P G社製)等の商品名で市販
されているホワイトカーボン)を加え、よく攪拌する。
りにこのゾルをポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ
7ツ化エチレン(商品名テア0ン)、ガラス等のなるべ
く疎水性の材質の円筒答監に入れて回転装置を用いて@
転させながらゲル化させ、乾燥させてドライゲルとする
。次にこのドライゲルを室温からゆっくり加熱し、所定
の温度で所定の時間保持して無孔化させ管状石英ガラス
とするものである。
この方法によれば、超倣粉末シ11力を添加していない
ものに比べてゲルの乾燥時に割れにくく、さらにドライ
ゲルの構造か多孔性になるため、焼結時にも割れやクラ
ックが生じにくい。また、遠心力を利用して管状ゲルと
しているため、その内我面は自由表面で滑らかであり、
回転装置と円筒容器の精証さえよければ、非常に容易に
心円度が高く、シかも大域の管状石英ガラスが製造でき
る従来のゾル−ゲル法では管状のものも含めて大きな石
英ガラスが得られなかった原因は、ドライゲル作成時に
、ゲルの乾燥で非常に大きな収縮を伴うために割れやす
かったことあるいは、焼結時には、それに加え発泡現象
が起こることの2点にある。
野上らの研究によれば、金属アルコキシドを原料とする
ゾル−ゲル法において、焼結時の割れを防止する方法は
、50〜100″にφ程度の比1i2的大きな細孔を多
世に有する、いわゆる多孔性のドライゲルを作成するこ
とである。これは、ラビノビッヒらによる超微粉末シリ
カを原料とするゾル−ゲル法におけるドライゲルが、焼
結時に割れにくいということや、金属アルコキシドをア
ンモニア水で加水分解して得られるドライゲル(このド
ライゲルは酸で加水分解したものよりかなり多孔性であ
る。)が、やはり焼結時に割れにくいということからも
推測される。
本発明の製造方法によれば、金属アルコキシドを加水分
解したゾルに超微粉末シリカを添加することにより、ド
ライゲルが多孔性になり、焼結時に割れにくくなる。ま
た焼結後の石英ガラス中に残留する気泡がほとんどない
ため、光学的にすぐれた特性のものが得られる。
本発明で使用する超微粉末シリカは、基本的にはドライ
ゲルを多孔性にする効果力(あれば良いのであるから、
前述の商品名アエロジルやキャポシルのような、5IC
64を酸水素炎バーナーで加水分解して得られるホワイ
トカーボンだけでなく、ケイ酸ソーダを原料とする湿式
法によって得られる超微粉末シリカでも良い。また、金
属アルコキシドをアンモニア水で加水分解すると、シリ
カ微粒子が生成することは良く知られている。この薇粒
子を回収すると前述のホワイトカーボンに類似した超微
粉末シリカが得られるので、この超微粉末シリカを用い
ても同様の効果が得られる。
次に、ドライゲルの割れを防止する方法について研究を
行なりたところ、我々は乾燥時の大きな収縮に耐え得る
ゲルの強さが、そのPI値に大きく依存していることを
見出した。すなわち、金属アルコキシドを酸触媒で加水
分解したゾルは、’PH値が1〜2程度になっている。
このゾルにアンモニア等の塩基を加え、PI値を大きく
するとゲル化速度が大きくなると共に、乾燥時の大きな
収縮にも耐え得る強いも′q造のゲルが得られること 
  −を見出した。特にPI(値を5〜6にすると1最
も強いゲルすなわち割れにくいゲルが得られる。管状石
英ガラスを製造する場合もこのようにゾルのPI値を調
整し、回転させながらゲル化させることにより、本発明
の製造方済でさらに大きな管状石英ガラスを作成するこ
とができる。
PI値を調整するための塩基は、アンモニア水、アンモ
ニアガス、アンモニアの溶液あるいは有機塩基、特にト
リエチルアミンあるいはその溶液、ピリジンあるいはそ
の溶液もしくはアニリンあるいはその溶液が望ましい。
しかし、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属ア
ルカリイオンを含むものは、石英ガラス中に陽イオンが
残存してしまうので、石英ガラスの作成に用いることは
できない。ただし、ソーダガラス等の多成分系ガラスの
作成には有効である。
回転させながらゲル化させる場合の回転条件について説
明する。本製造法における原料は、先に説明したとおり
、エチルシリケートを主体としだ液相中に、微粉末シリ
カを懸濁させているため、回転による遠心力により微粉
末シリカが沈降し、ゾルひいてはゲルの組成に不均一を
生じる。このようなゲルの組成の不均一は、乾燥時ある
いは焼結時の割れの原因となるばかりでなく、光学的特
性へも悪影輸を及ぼす。そこで、回転させながらゲル化
させる場合の回転数、回転時間は、原料ゾル中の微粉末
シリカが沈降を起こさない範囲に制御しなければならな
い。微粉末シリカの沈降の制御因子は、ねらいとする管
状石英ガラスの大きさを一定とすると回転ゲル化時の、
回転数9回転時間、原料ゾル組成である。このうち、回
転時間は先に述べたゲル化時間と乾燥ゲルの歩留りとの
かねあいから一義的に定まり、また原料ゾル組成は後の
焼結条件に係わり最適化される。このため、微粉末シリ
カの沈降は主に回転数で制御する必要がある。回転数は
、回転容器内原料ゾル中の微粉末シリカにかかる遠心加
速度の下限は1G(980cm /秒x)であり、上限
は微粉末シリカの粒径、円筒状回転容器内での中心軸か
らの距離によって異なるため、確定することはできない
が、例えば500X程度の微粉末?リカを用い、56n
φの大きさの回転容器の場合【は、容器内最外周部にお
ける微粉末シリカに500Gの遠心重力が50分以上か
かるとはげしい沈降現象を起こす。また原料を微粉末シ
リカを含まないゾル液の場合でも1000G以上の遠心
重力が加わると、ゲル化時にクラックが生じる。このこ
とから、回転ゲル化時の回転数は原料ゾル液に及ぼす遠
心重力が1000Gを超えない範囲で選ばなければなら
ない。
大きなドライゲルを作成する場合には、容器および乾燥
条件が適切でないと歩留りが悪くなる。
そこで歩留りを向上し得る容器および乾燥条件について
説明する。
ドライゲル作成時にゲルを収容する容器は、疎水性の材
質のものが望ましい。というのは、ゲルは乾燥するとき
にもとの大きさの約7割と大きく収縮するため、ゲルと
容器との親和力が弱く、なるべくゲルがすべり易い材質
が好ましいからである。このような材質としては、ポリ
プロピレン。
ポリフッ化エチレン、敏り塩化ビニル、ポリエチレン、
ポリスチレン等の石臼ポリマーが最適である。また、ガ
ラス等の無機材料の表面にniJ記有機ポリマーを付着
させたものでも良い。
回転容器自体が上記のような条件を満たすものを使用す
れば、以後の乾燥容器としても利用できることは言うま
でもない。
また乾燥条件は、ゲル中に含まれている水、アルコール
等の溶媒の蒸発速度に依存している。したがりて、ゲル
を収容している容器のフタの開口率(フタの全面積に対
する貫通孔の面積の総和の割合)、乾燥温度および湿度
を考慮して最適条件を設定する必要がある。
フタの開口率を小さくしてゲル中の溶媒の蒸発速度を小
さくしてやれば、ゲルの割れは少なくなる。しかし反面
、製造日数が長くなるために製造コストが高くなりてし
まう。したがって、できるだけ製造日数を短くシ、かっ
歩留りも良くする条件を見出さなければならない。また
、ゲルの割れは乾燥温度にも依存しており、温度が高い
ほどゲル構造が強くなって歩留りが良くなる。ただし、
醒媒の沸点を超えた温度になると、乾燥速度を制御する
のが困難になるため、120’Cが上限である。以上の
観点から実験を行なった結果、乾燥温度は室温(20℃
)〜120℃、フタの開口率は50%以下、好ましくは
10%以下が最適条件であることを見出した。
さらに、ゲル化した後、ドライゲルを作成“するために
所定の乾燥温度まで昇温しなければならないが、この時
昇温速度はできるだけ遅い方が歩留りは良くなる。しか
し、製造に要する時間を短縮するためには、昇温速度を
できるだけ大きくしたい。その場合でも、昇温速度は1
20℃/h以下にするのが望ましい。
以上、ドライゲル作成時の諸条件について述べたが、次
に焼結時における歩留りおよび品質を向上させるための
諸条件について説明する。
焼結は次の三つの工程からなる。
1)脱吸着水処理をする工程 2)脱炭素処理をする工程 3) 無孔化する工程 1)の脱吸着水処理をする工程は、焼結時の歩留りに最
も大きな影響を与えるものである。ドライゲルには物理
吸着水が多社に存在しており、これはだいたい400℃
程度の熱処理によって除去できる。しかし、この時に急
速に昇温しで脱吸着水処理を急激に行なうと、割れが生
じやすくなって歩留りが低下する。したがって昇温速度
を遅くしてやれば歩留りは向上するが、反面製造コスト
は増大する。実験によれば、歩留りを低下させずに処理
ができる昇温速度の上限は400℃/hであり、かつ室
温(20℃)から400℃までの所定の温度で1時間以
上保持する処理を少なくとも1回行なうことが望ましい
2)の脱炭素処理は、400〜zoo”cの範囲での熱
処理によって行なわれる。この場合も、1)の脱吸着水
処理の場合はどではないが、昇温速度が歩留りに影響を
与える。実験によれば、昇温速度は50〜b も前述の範囲内の所定の温度で3時間以上保持する処理
を少なくとも1回行なうことが望ましい。
また、前述のPH値の調整を行なった場合には、ドライ
ゲル中に塩基の塩酸塩が残存しているが、これは脱炭素
処理時に炭素と一諸に分解するので非常に効率的である
5)の無孔化は、超微粉末シリカの添加量によつても異
なるが、だいたい1000〜1400℃の範囲での熱処
理によって行なわれる。この時2)の脱炭素処理温度か
ら無孔化温度までの昇温速度は、30〜b 温度で所定の時間保持すると、透明で近赤外吸収スペク
トル、ビッカース硬度、比重等も従来から市販されてい
る石英ガラスとほぼ同一の石英ガラスが得られる。
ただし、この方法で得られる石英ガラスは、無孔化後も
無孔化温度以上の温度で長時間保持すると、発泡する傾
向がある。この現象は、無孔化後の石英ガラスの含水量
に依存しており、含水量が少ないほど発泡の傾向は小さ
くなる。また、含水量は超鑞粉末シリカの添加量に依存
しており、添加量を多くするほど含水量は少なくなり、
発泡の傾向も小さくなる。したがりて、発泡を防止する
ためには、超微粉末シV力の添加量を多くすることが望
ましいが、反面超微粉末シリカの添加5七があまり多く
なると、ドライゲル作成時の歩留りが低下する。結局、
歩留りを低下させず、かつ発泡の傾向も小さくするため
には、超微粉末シリカの添加量を、モル比で金属アルコ
キシド:超微粉末シリカ=1:α2〜5とするのが望ま
しい。
さらに、焼結後の石英ガラス中には、クリストバライト
、トリジマイト等の結晶が発生する場合があるが、これ
は−棟の失透現象であるh我々はとの失透現象が、超微
粉末シリカがゾル中に均一に分散していない場合や、ゾ
ルが@量の不純物を含んでいる場合に発生しやすいこと
を見出した。
超微粉末シリカの分散性を良くするためには、ゾルに超
音波振動を加えたり、遠心分離を行なうのが効果的であ
る。特に遠心分離によって不純物が取り除かれることが
判明し、失透現象の防止に対してきわめて効果的である
ことを見出した。
以下実施例に基づいて本発明の詳細な説明する実施例1 精製した市販のシリコンエトキシド624?(1モルン
にaO1規定の塩@840ajを加え、激しく攪拌して
加水分解した。次にこの溶液に超微粉末シリカ(表面積
200m’/fの商品名キャボシル) 216 f (
1,2モル)を攪拌しながら加え、さらにα1規定のア
ンモニア水を滴下してPH値が45になるように調整し
た。
次に、このゾル溶液125.6 mを内径5(11+1
φ×長さ1003の円筒状塩化ビニル製回転容器に仕込
み両端にゴム栓をして、第1図に示す回転装置にとりつ
け、2000rpm で回転させた。第1図において1
が回転容器、2がモーター、5が軸受け、4が回転容器
1をモーター2と軸受け3に固定するための固定治具、
5がモーター2と軸受けを固定するためのガイドレール
、6が支持台である。50分後モニターサンプルがゲル
化したことを確認した上で、回転容器をとりはずし一夜
放置した。
次に、開口率2.0%のフタを有するボリプnピレン製
の箱型容器(幅503×長さ120cmX高さ20 c
m )に、上記ゲルを移し替え昇温速度2℃/hで20
℃から60℃まで加熱し、7日間この温度で乾燥させる
と、室温に放置しても割れない安定なドライゲル外径3
伽内径2 cm X 60 cm長が得られた。同じ条
件で作成した20本のうち2本が割れ、歩留り90%で
18本のドライゲルが得られた。
次にこの18本のドライゲルを焼結炉に入れ、昇温速度
60℃/hで室温から200℃まで加熱。
し、この温度で1時間保持して脱吸着水処理を行なった
。つづいて昇温速度180℃/hで950℃まで加熱し
、この温度で18時間保持して脱炭素、脱塩化アンモニ
ウム処理を行なった。さらに昇温速度180℃/hで1
200℃まで加熱し、この温度で1.5時間保持すると
無孔化し、透明な管状石英ガラス(外径′L5.内径1
,5×長さ50m)が得られた。この焼結過程では1本
のドライゲルも割れず、歩留り100%で18本の管状
石英ガラスが得られた。
実施例2 精製した市販のシリコンエトキシド624t(1モル)
に0.(10)規定の塩酸840−を加え、蹴しく攪拌
して加水分解した。次にこの溶液に日本シリカニ業株式
会社製のケイ酸ソーダを原料とする湿式法による粒子径
1.5μmの超微粉末シl、)ヵ(商品名二フシル(N
ip811)K220A)77.4t (129モル)
を攪拌しながら加え、さらに超音波振動をかけた。この
ゾルにα1規定のアンモニア水を滴下してPH値が4.
5になるように調整した。
次に、このゾル溶液1256mを内径5薗φ×長さ10
0(7)の円筒状塩化ビニル製回転容器に仕込み両端に
ゴム栓をして、崗1に示す回転装置にとりつけ、150
0rpm で回転させた。60分間回転させモニターサ
ンプルがゲル化したことを確認した上で、回転谷4をと
りはずし一夜放置した。
次に、開口率α8%のフタを有するポリプロピレン製の
箱型容器(44,150個×長さ120o++X高さ2
0 on )に゛、上記ゲルを移し替え昇m速度2℃/
hで20℃から70℃まで加熱し、12日間この温度で
乾燥させると、室温に放置しても割れない安定なドライ
ゲル(外径2.5.内径1,5×長さ50 cm )が
得られた。同じ条件で作成した20本のうち3本が割れ
、歩留り85%で17本のドライゲルが得られた。
次にこの17本のドライゲルを焼結炉に入れ、昇温速度
60″C/hで室温から300℃まで加熱し、この温度
で2時間保持して脱吸着水処理を行なった。つづいて昇
温速度180℃/hで950℃まで加熱し、この温度で
18時間保持して脱炭素、脱塩化アンモニウム処理を行
なりた。さらに昇温速度180℃/hで1120℃まで
加熱し、この温度で1゜5時間保持すると無孔化し、透
明な管状石英ガラス(外径2.1.内径1.5×長さ4
5rn1)がイGられた。この焼結過程では2本のドラ
イゲルが割れ、歩留り8a2%で15本の管状石英ガラ
スが得られた。
実施例6 ((j製した市販のシリコンエトキシド624t(1モ
ル)にα(10)規定の塩酸840dを加え、激しく攪
拌して加水分解した。一方、シリコンエトキシド800
+aj、エタノール五4tの混合溶液に、28%アンモ
ニア水14sj、エタノール10t、水200dの混合
溶液を加えて室温で攪拌し、−夜放置後、減圧濃縮で超
微粉末シリカを回収した。さら忙この超微粉末シリカを
窒素気流下200℃で一夜乾燥させ、このようにして得
られた超微粉末シリカjBOf(1モル)を上記加水分
解0故に攪拌しながら加え、さらに超音波振動をかけて
均一度の高いゾルとした。このゾルにα1規定のアンモ
ニア水を滴下してPH値が歳5になるように調整した。
次に、このゾル溶液1256−を内径5薗φ×長さ10
0crnの円筒状塩化ビニル製回転容器に仕込み両端に
ゴム栓をして、図1に示す回転装置にとりつけ、50Q
rpm で回転させた。50分後モニターサンプルかゲ
ル化したことを硝詔した上で、回転容器をとりはずし一
夜放置した。
次に、開口率1.0%のフタを有するボリプ四ピレン製
の箱型容*(laso(7)×長さ120a*X高さ2
0儒)に上記ゲルを移し替え、昇温速度2℃/hで20
℃から60℃まで加熱し7日間この一度で乾燥させると
、室温に放置しても割れない安定なドライゲル(外径五
551.内径λ16N×長さ70画)が得られた。同じ
条件で作成した20本のうち5本が割れ、歩留り85%
で17本のドライゲルが得られた。
次にこの17本のドライゲルを焼結炉に入れ、昇温速度
60℃/hで室温から200℃まで加熱し、この温度で
5時間保持した後、さらに昇温速度60℃/hで300
℃まで加熱し、このfM度で5時間保持して脱吸着水処
理を行なりた。つづいて昇温速度180℃/hで950
℃まで加熱し、この温度で18時間保持して脱炭素、脱
塩化アンモニウム処理を行なった。さらに昇温速度18
0’C/hで1220℃まで加熱し、この温度で1.5
時間保持すると無孔化し、透明な管状石英ガラス(外径
2.4.内径1.4×長さ47 cm )が得られた。
この焼結過程では5本のドライゲルが割れ、歩留ji)
70.6%で12本の管状石英ガラスが得られた。また
どの管状石英ガラスにも失透現象や気泡がなく、すぐれ
た品質のものが得られた。
実施例4゜ 精製した市販のシリコンメトキシド456t(1モル)
に1(10)規定の塩酸840sjを加え、激しく攪拌
して加水分解した。次にこの溶液に超微粉末シリカ(表
面積son?/lの商品名アエロジルOX 50 ) 
270 t (1,5モル)を攪拌しながら加え、超音
波振動をかけた。さらに遠心分離によってダマ状物を取
り除き、均一度の高いゾルとした。このゾルにα1規定
のアンモニア水を滴下してPH値が4.5になるように
調整した。
次に、このゾル湛W1256−を内径5mφ×長さ10
0cmの円筒状塩化ビニル製回転容器に仕込み両端にゴ
ム栓をして、図1に示す回転装置にとりつけ、1100
0rp で回転させた。50分抜上ニターサンプルがゲ
ル化したことを確認した上で、回転容器をとりはずし一
夜放置した。
次に、開口率18%のフタを有するポリプセビレン製の
箱型容器(幅50m×長さ120mX高さ20α)に、
上記ゲルを移し替え、昇温速度5℃/hで20℃から7
0℃まで加熱し、7日間この温反で乾燥させると、室温
に放置しても割れない安定なドライゲル(外径五5I内
52.1 x長さ70口)が得られた。同じ条件で作成
した20本のうち割れた物はなく、歩留)100%で2
0本のドライゲルが得られた。
次にこの20本のドライゲルを焼結炉に入れ、昇温速度
60℃/hで室温から200℃まで加熱し、この温度で
5時間保持した後、さらに昇温速度60℃/hで500
℃まで加熱し、この@度で5時間保持して脱吸着水処理
を行なった。つづいて昇温速度180℃/hで950℃
まで加熱し、この温度で18時間保持して脱炭素、脱塩
化アンモニウム処理を行なりた。さらに昇温速度180
℃/hで1250℃まで加熱し、この温度で1時間保持
すると無孔化し、透明な管状石英ガラス(外径2.5.
内径1.6×長さ52m)が得られた。この焼結過程で
は1本のドライゲルも割れず、歩留シ100%で20本
の管状石英ガラスが得られた。また、どの管状石英ガラ
スにも失透現象や気泡がなく、すぐれた品質のものが得
られた。
実施例5 精製・した市販のシリコンエトキシド624t(1モル
)に(1(10)規定の塩酸840−を加え、激しく攪
拌して加水分解した。次にこの溶液に超微粉末シリカ(
表面積50rr?/lの商品名アエロジルox5o)2
19F(1,22モル)を攪拌しながら加え、超音波振
動をかけた。さらに遠心分離によってダマ状物を取り除
き、均一度の高いゾルとした。このゾルに(L1モルフ
tのトリエチルアミンのエタノール溶液を滴下してPH
値が4.5になるように調整した。
次に、このゾル溶液12565gを内径5qnφ×長さ
100mの円筒状塩化ビニル製回転容器に仕込み両端に
ゴム栓をして、図1に示す回転装置にとりつけ、500
rpm で回転させた。30分抜上ニターサンプルがゲ
ル化したことをwiuした上で、回転容器をとりはずし
一夜放置した。
次に、開口率1.0%のフタを有するポリプロピレン製
の箱型容器(幅50 am X長さ1203X高さ20
圀)に、上記ゲルを移し替え、昇温速度5℃/hで40
℃から70℃まで加熱し、7日間この温度で乾燥させる
と、室温に放置しても割れない安定なドライゲル(外径
工5.内径2−1×長さ70画)が得られた。同じ条件
で作成した20本のうち2本が割れ、歩留り90%で1
8本のドライゲルが得られた。
次にこの18本のドライゲルを焼結炉に入れ、昇温速度
60℃/hで室温から200℃まで加熱し、この温度で
5時間保持した後、さらに昇温速度60℃/hで300
℃まで加熱し、この温度で5時間保持して脱吸着水処理
を行なりた。つづいて昇温速度180℃/hで900℃
まで加熱し、この温度で9時間保持して説炭素、脱塩酸
塩の処理を行なった。さらに昇温速度180℃/hで1
220℃まで加熱し、この温度で1.5時間保持すると
無孔化し、最明な石英ガラス(外径2.51内径1.5
×長さ50d)が得られた。この焼結過程では1本のド
ライゲルも割れず、歩留#)100%で18本の石英ガ
ラスが得られた。またどの石英ガラスにも失透現象や気
泡がなく、すぐれた品質のものが得られた。
実施例6 精製した市販のシリコンエトキシド624t(1モル)
Ko、(10)規定の塩酸840−を加え、激しく攪拌
して加水分解した。次にこの溶液に超微粉末シリカ(表
面@50m’/fの商品名アエロジル0X50)219
F(1,22モル)を攪拌しながら加え、超音波振動を
かけた。さらに遠心分離によつてダマ状物を取り除き、
均一度の高いゾルとした。このゾルに0.1モルフtの
ピリジンのエタノール溶液を滴下してI’H値が4,5
になるように調整した。
次に、このゾル溶液1256dを内径5鑵φX長さ10
(lcMの円筒状テフロン製回転容器に仕込み両端にゴ
ム栓をして、図1に示す回転装置にとうつけ、1500
rpm で回転させた。30分抜上ニターサンプルがゲ
ル化したことをMMした上で、回転容器をとり番tずし
一夜放置した。
次に、開口率1.0%のフタを有するポリプロピレン製
の箱型容器(I14Jso譚×長さ120amX高さ2
0 cm )に、上記ゲルを移し替え、昇温速度5℃/
hで5℃から60℃まで加熱し、7日間この温度で乾燥
させると、室温に放置しても割れない安定なドライゲル
(外径五5.内径2.1×長さ 70 cm )が得ら
れた。同じ条件で作成した20本のうち5本が割れ、歩
留シ85%で17本のドライゲルが得られた。
次にこの17本のドライゲルを焼結炉に入れ、昇温速度
60℃/hで室温から200℃まで加熱し、この温度で
3時間保持した後、さらに昇温速度60℃/hで500
℃まで加熱し、この温度で5時間保持して脱吸着水処理
を行なった。つづいて昇温速度160℃/hで900 
”(::亥で加熱し、この温度で9時間保持して脱炭素
、脱塩酸塩の処理を行なった。さらに昇温速度180℃
/hで1220°Cまで加熱し、この温度で1.5時間
保持すると無孔化し、透明な管状石英ガラス(外径Z5
.内径1.5×長さ50創)が得られた。この焼結過程
では1本のドライゲルも割れず、歩留シ100%で17
本の石英ガラスが得られた。またどの石英ガラスにも失
透現象や気泡がなく、すぐれた品質のものが得られた。
実施例7 精製した市販のシリコンエトキシド624t(1モル)
に(LO1規定の塩酸B4osgを加、t、激しく攪拌
して加水分解した。次にこの溶液に超倣粉末シリカ(表
面積2oorr?/fの商品名午ヤボシル)18(10
)F(1モル)を攪拌しながら加え、超音波振動をかけ
た。さらに遠心分離によってダマ状物を取り除き、均一
度の高いゾルとした。
このゾルにアンモニアガスの窒素ガスによる希釈ガスを
バブリングしてPH値が4.5になるように調整した。
次に、このゾル溶液1256−を内径5cmφ。
長さ100crnの円筒状塩化ビニル製回転容器に仕込
み両9−にゴム栓をして、図1に示す回転装置にとりつ
け、11000rp で回転させた。5o分後モニター
サンプルがゲル化したことを確認した上で、回転容器を
とりはずし一夜放置した。
次に、開口率5.0%のフタを有するポリプロピレン製
の箱型容器(幅50?×長さ120翔×高さ20I!!
l11)に、上記ゲルを移し替え、昇温速度5”Q /
 hで30℃から60℃まで加熱し、7日間この温度で
乾燥させると、室温に放置しても割れない安定なドライ
ゲル(外径2.9.内径1.9×長さ58 cm )が
得られた。同じ条件で作成した20本のうち5本が割れ
、歩留少75%で15本のドライゲルが得られた。
次にこの15本のドライゲルを焼結炉に入れ、昇温速度
60℃/hで室温から200℃まで加熱し、この温度で
3時間保持した後、さらに昇温速度60℃/hで500
℃まで加熱し、この温度で5時間保持して脱吸着水処理
を行なりた。つづいて昇温速度180℃/hで950℃
まで加熱し、この温度で18時1gI保持して脱炭素、
脱塩化アンモニウム処理を行なつた。さらに昇温速度1
80”C/ hで1220℃まで加熱し、この温度で1
.5時間保持すると無孔化し、透明な管状石英ガラス(
外径24.内径1.4X長さ47 or )が得られた
。この焼結過程では1本のドライゲルも割れず、歩留シ
100%で15本の管状石英ガラスが得られた。またど
の管状石英ガラスにも失透現象や気泡がなく、すぐれた
品質のものが得られた。
実施例8 精製した市販のシリコンエトキシド6241(1モル)
に[L02規定の塩酸540−を加え、磁しく攪拌して
加水分解した。次にこの溶液に水300−を加え、さら
に超微粉末シリカ(表面積50 W?/ t 〕商品名
アエロジル0X50)180?(1モル)を攪拌しなが
ら加え、さらに超音波振動をかけて均一度の高いゾルと
した。このゾルのPH値は2.15でありた。
次に1このゾル溶M1256−を内径5mφ×長さ10
0crnの円筒状塩化ビニル製回転容器に仕込み両端に
ゴム栓をして、図1に示す回転装置にとつつけ、200
0 rpm で回転させた。30分抜上ニターサンプル
がゲル化したことを確認した上で)回転容器をとりはず
し一夜放置した。
次に、開口率(L1%のフタを有するポリプロピレン製
の箱型容器(幅50α×長さ120釧×高さ20 cm
 )に、上記ゲルを移し替え、昇温速度2’C/hで2
0℃から60℃まで加熱し、15日間この温度で乾燥さ
せると、室温に放置しても割れな℃1安定なドライゲル
(外径五5.内径2.1×長さ70個)が得られた。同
じ条件で作成した20本のうち8本が創れ、歩留シロ0
%で12本のドライゲルが得られた。
次にこの12本のドライゲルを焼結炉に入れ、昇温速度
60℃/hで室温から200℃まで加熱し、この温度で
5時間保持した後、さらに昇温速度60℃/hで300
℃まで加熱し、この温度で5時間保持して脱吸着水処理
を行なった。つづいて昇温速度180℃/hで950℃
まで加熱し、この温度で5時間保持して脱炭素処理を行
なった。さらに昇温速度180℃/hで1200℃まで
加熱し、この温度で1.5時間保持すると無孔化し、透
明な管状石英ガラス(外径z4.内径1.4×47傭)
が得られた。この焼結過程では1本のドライゲルも割れ
ず、歩留J)100%で12本の管状石英ガラスが得ら
れた。またどの管状石英ガラスにも失透現象や気泡がな
く、すぐれた品質のものが得られた。
実施例9 精製した市販のシリコンエトキシド624t(1モル)
にaOt規定の#1酸940sjを加え、激しく攪拌し
て加水分解した。次にこの溶液に超微粉末シリカ(表面
積5Qrr?/fの商品名アエロジル0X50)219
1(1,22モル)を攪拌しながら加え、超音波振動を
かけた。さらに遠心分離によってダマ状物を取り除き、
均一度の高いゾルとした。このゾルに11規定のアンモ
ニア水を滴下してPH値が4.5になるように調整した
次に、このゾル浴液1256−を内径5保φ×長さ10
0mの円筒状塩化ビニル製回転容器に仕込み両端にゴム
栓をして、図1に示す回転装置にとりつけ、1500r
pm で回転させた。30分抜上ニターサンプルがゲル
化したことを確認した上で、回転容器をとりはずし一夜
放置した。
次に、開口率1.0%のフタを有するポリプロピレン製
の箱型容器(幅50cfR×長さ120mX高い安定な
ドライゲル(外径五5.内径2−1×長さ70cm)が
得られた。同じ条件で作成した20本のうち1本が割れ
、歩留995%で19本のドライゲルが得られた。
次にこの19本のドライゲルを焼結炉に入れ、昇温速度
60℃/hで嶌温から200℃まで加熱し、この温度で
3#間保持した後、さらに昇温速度60℃/hで300
℃まで加熱し、この温度で5時間保持して脱吸着水処理
を行なった。つづいて昇fM速度180℃/hで950
℃まで加熱し、この温度で18時間保持して脱炭素、脱
塩化アンモニウム処理を行なりた。さらに昇温速度1日
0’C/hで1220℃まで加熱し、この温度で1.5
時間保持すると無孔化し、透明な管状石英ガラス(外径
2.5.内径1.5×長さ50 cm )が得られた。
この焼結過程では1本のドライゲルも割れず、歩留91
00%で19本の管状石英ガラスが得られた。また、ど
の管状石英ガラスにも失透現象や気泡がなく、すぐれた
品質のものが得られた。
実施例10 V/l’dした市販のシリコンエトキシド624F(1
モル)にα(10)規定の塩酸840−を加え、激しく
攪拌して加水分解した。次にこの溶液に超微粉末シリカ
(表面積50m”/rの商品名アエロジル0X50 )
900F(5%ル)を攪拌しながら加え、超音波振動を
かけた。さらに遠心分離によってダマ状物を取り除き、
均一度の高いゾルとした。このゾルに0.1規定のアン
モニア水を滴下してPH値が4.0になるように: 調
’Jした。
次に、このゾル溶液1256−を内径5ωφ×長さ10
0cPnの円筒状塩化ビニル製回転容器に仕込み両端に
ゴム栓をして、図1に示す回転装置にとつつけ、500
rpm で回転させた。60分抜上ニターサンプルがゲ
ル化したことを確認した上で、回転容器をとりはずし一
夜放置した。
次に、開口率2.0%のフタを有するポリプロピレン製
の箱型容器(幅50閤×長さ120自×高さ20 cm
 )に、上記ゲルを啓し替え、昇温速度2℃/hで25
℃から60℃まで加熱し、7日間この温度で乾燥させる
と、室温に放置しても割れない安定なドライゲル(外径
4.0.内径2.4X長さ803 )が得られた。同じ
条件で作成した20本のうち5本が割れ、歩留り75%
で15本のドライゲルが得られた。
次にこの15本のドライゲルを焼結炉に入れ、昇温速度
10℃/hで室温かうson℃まで加熱し、この温度で
5時間保持して脱吸着水処理を行なった。つづいて昇温
速度520℃/hで600℃亥で力U熱し、この温度で
9時間保持して脱炭素、脱塩化アンモニウム処理を行な
った。さらに昇温速度320℃/hで1400℃まで加
熱し、この温にでCL5時間保持すると無孔化し、透明
な管状石英ガラス(外径五2.内径1.9×長さ64m
)が得られた。この焼結過程では1本のドライゲルも割
れず、歩留シ100%で15本の管状石英ガラスが得ら
れた。
またこれらの石英ガラスは、1400℃と比較的高温で
処理したにもかかわらず、どれにも発泡現象はみられな
かった。したがって、超微粉末シリカの添加割合を、金
属アルコキシド1モルに対して5モルの割合にすると、
発泡については全く問題がなくなることが分る。しかし
、超微粉末シリカの添加量をこれ以上多くすると、焼結
に要する処理@度が高くなりすぎて製造コストが増大し
実用性がなくなる。
実施例11 精製した市販のシリコンエトキシド6241(1モル)
に102規定の塩@540@tを加え、濫しく攪拌して
加水分解した。次にこの0献に水500−を加え、さら
に超微粉末シリカ(表面積50tr?/fの商品名アエ
ロジル0X50)56t([L2モル)を攪拌しながら
加え、さらに超音波振動をかけて均一度の高いゾルとし
た。このゾルにa1規定のアンモニア水を滴下してPH
値が五〇になるように9%した。
次に、このゾル溶液1256−を内径5cmφ×長さ1
0G6Rの円筒状塩化ビニル製回転容器に仕込み両端に
ゴム栓をして、図1に示す回転装置にとりつけ、4GO
rpmで回転させた。50分抜上ニターサンプルがゲル
化したことを確認した上で、回転容器を七りはずし一夜
放置した。
次に、開口率a2B%のフタを有するポリプロピレン製
の箱型容器(幅50倒長さ120m高さ20 cm )
に、上記ゲルを移し替え、昇温速度2℃/hで5℃から
60℃まで加熱し、10日IUjこの温屁で乾燥させる
と、室温に放置しても割れない安定なドライゲル(外径
2−5×内径1.5×長さ50−)が得られた。同じ条
件で作成した20本のうち10本が割れ、歩留り50%
で10本のドライゲルが得られた。
次にこの10本のドライゲルを焼結炉に入れ、昇温速度
1a”Q/hで室温から200 ”(:まで加熱し、こ
の温度で3時間保持した後、さらに昇温速度10℃/h
で300℃まで加熱し、この理屈で5時1!J保持して
脱吸着水処理を行なった。つづいて昇温速度30℃/h
で600℃まで加熱し、この温度で18時間保持して脱
炭素、脱塩化アンモニウム処理を行なりた。さらに昇温
速度30”(、/hで1000℃まで加熱し、この温度
で1.5時間保持すると無孔化し、透明な管状石英ガラ
ス(外径2 on、内径1−2 cm X長さ4o譚)
が得られた。
この焼結過程では3本のドライゲルが割れ、歩留ルア0
%で7本の管状石英ガラスが得られた。
その後これらの石英ガラスを、120(L”Cで30分
間保持しても発泡しなかったが、1500℃にすると発
泡した。また超微粉末シリカの添加量を(12モルより
少なくすると、すべて1200℃で発泡したので、超微
粉末シリカの添加量は12モル以上でなければならない
ことが分りた。
実施例12 精製した市販のシリコンエトキシド6242(1モル)
に1(10)規定の塩酸840−を加え、激しく攪拌し
て加水分解した。次にこの溶液に起債粉末シリカ(表面
積50m”/rの商品名アエロジルOX50 ) 12
6 P ((L7%ル)t−ffl拌りすがら加え、超
音波振動をかけた。さらに遠心分KWによってダマ状物
を取り除き、均一度の高いゾルとした。このゾルにCL
1規定のアンモニア水を滴下してP)I値が6.0にな
るように調整した。
次に、このゾル11g、1256−を内径5偶φ×長さ
100mの円筒状塩化ビニル製回転容器に仕込み両端に
ゴム栓をして、図1に示す回転装置にとりつけ、150
0rpm で回転させた。15分抜上ニターサンプルが
ゲル化したことを確認した上で、回転容器をとりはずし
一夜放吐した。
次に、開口率2.0%のフタを有するポリ1aピレン製
の箱型容器(幅50鋼長さ120個高さ20 cm )
に、上記ゲルを移し替え、昇温速度5℃/hで5℃から
65℃まで加熱し、7日間この温度で乾燥させると、室
温に放置しても割れない安定なドライゲル(外径2.8
OR×内径1.7 tMX長さ56 tyn )が得ら
れた。同じ条件で作成した20本のうち割れた物はなく
、歩留ル100%で20本のドライゲルが得られた。
次にこの20本のドライゲルを焼結炉に入れ、昇温速度
60℃/hで室温から200℃まで加熱し、この温度で
3時間保持した後、さらに昇温速度400℃/hで30
0℃まで加熱し、この温度で5時間保持して脱吸着水処
理を行なった。つづいて昇温速度400℃/hで100
0℃まで加熱し、この温度で8時間保持して脱炭素、脱
塩化アンモニウム処理を行なりた。さらに昇温速度40
0°C/)lで1150℃まで加熱し、この温度で1.
5時間保持すると無孔化し、透明な管状石英ガラス(外
径2.2 cm 、内径1.4 am X長さ411f
 cm )が得られた。この焼結過程では2本のドライ
ゲルが割れ、歩留シ90%で18本の管状石英ガラスが
得られた。またどの管状石英ガラスにも失透現象や気泡
がなく、すぐれた品質のものが得られた。
本実施例で示したように、ゾルのPH値を高くすると、
ドライゲル作成時の歩留シが再現性良くほとんど100
%となる。しかし、ゲル化時間が極端に短くなりて管理
が難しくなるので、本実施例以上にPH値を高くすると
実用性がなくなる。
実施例13 精製した市販のシリコンエトキシド6241(1モル)
にα(10)規定の塩酸840dを加え、激しく攪拌し
て加水分解した。次にこの溶液に超微粉末シリカイ(、
表面積5Qrr?/lの商品名アエロジルOX 50 
) 219 t (1,22モル)を攪拌しながら加え
、超音波振動をかけた。さらに遠心分離によってダマ状
物を取り除き、均一度の高いゾルとした。このゾルにa
1規定のアンモニア水を滴下してPH値が4.1になる
ように載盤した。
次に、このゾル溶′e、1256−を内径5cInφ×
長さ100倒の円筒状塩化ビニル製回転容器に仕込み両
端にゴム栓をして、図1に示す回転装置にとりつけ、1
1000rp で回転させた。50分抜上ニターサンプ
ルがゲル化したことを確認した上で、回転容器をとりは
ずし一夜放随した。
次に、開口率α5%のフタを有するポリプロピレン製の
箱型容器((llIIsom+長さ120 cm 、高
サ20 cm )に、上記ゲルを移し替え、昇温速度2
’C/hで60℃から120℃まで加熱し、4日間この
温度で乾燥させると、室温に放置しても割れない安定な
ドライゲル(外径工5.内径2.1×長さ70α)が得
られた。同じ条件で作成した20本のうち6本が割れ、
歩留970%で14本のドライゲルが得られた。
次にこの14本のドライゲルを焼結炉に入れ、昇温速度
60℃/hで室温から400℃まで加熱し、脱吸着水処
理を行なった。つづいて昇温速度180℃/hで110
0℃まで加熱し、この温度で3時間保持して脱炭素、脱
塩化アンモニウム処理を行なりた。さらに昇温速度18
0℃/hで1220℃まで加熱し、この温度で1.5時
間保持すると無孔化し、透明な管状石英ガラス(外径2
.51内径165X長さ50備ンが得られた。この焼結
過程では3本のドライゲルが割れ、歩留シフa6%で1
1本の管状石英ガラスが得られた。
実施例14 精製した市販のシリコンエトキシド624f(1モル)
に0.05規定の塩酸840@tを加え、激しく攪拌し
て加水分解した。次にこの溶液に超微粉末シリカ(表面
積50 m” / fの商品名アエロジル0X50)2
19F(1,22モル)を攪拌しながら加え、超音波振
動をかけた。さらに遠心分離によってダマ状物を取り除
き、均一度の高いゾ゛ルとした。このゾルに0.1規定
のアンモニア水を滴下してPH値が5.0になるように
調整した。
次に、このゾル溶液1256@jを内径5e!Rφ×長
さ100mの円筒状塩化ビニル製回転容器に仕込み両端
にゴム栓をして、図1に示す回転装置にとりつけ、20
00 rpm で回転させた。30分抜上ニターサンプ
ルがゲル化したことを確認した上で、回転容器をとりは
ずし一夜放置した。
次に、開口率10%のフタを有するポリプロピレン製の
箱型容DC輻5し1長さ120 eyn 、高さ20 
cm )に、上記ゲルを移し替え、昇温速度120℃/
hで5℃から20℃まで加熱し1,22日間この温度で
乾燥させると、室温に放にしても割れない安定なドライ
ゲル(外径五7.内径z2長さ74 on )が得られ
た。同じ条件で作成した20本のうち16本が割れ、歩
留120%で4本のドライゲルが得られた。
次にこの4本のドライゲルを焼結炉に入れ、昇温速度1
0℃/hで室温から200℃まで加熱し、この温度で2
時間保持した後、さらに昇温速度10℃/hで300℃
まで加熱し、この温度で2時間保持して脱吸着水処理を
行なった。つづいて昇温速度180℃/hで950℃ま
で加熱し、この温度で6時間保持して脱炭素、脱塩化ア
ンモニウム処理を行なった。さらに昇温速度180℃/
hで1220℃まで加熱し、この温度で1.5時間保持
すると無孔化し、透明な管状石英ガラス(外径2.5.
内径1.5×長さs o cm )が得られた。この焼
結過程では1本のドライゲルも割れず、歩留シ100%
で4本の管状石英ガラスが得られた。
またどの管状石英ガラスにも失透現象や気泡がなく、す
ぐれた品質のものが得られた。
以上実施例で示したように、本発明による製造方法を用
いれば、従来のゾル−ゲル法では不可能でありだ大きな
管状石英ガラスを製造することができ、また光学的特性
にすぐれた高品質の管状石英ガラスが得られる。さらに
歩留りも90%以上を達成することが可能となり、光フ
アイバ用材料として、低価格で管状石英ガラスを提供す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の管状石英ガラスの製造に使用する回
転装置を示す図である。 1・・・・・・回転容器 2・・・・・・モーター 5・・・・・・軸受け 4・・・・・・固定治具  ゛ 5・・・・・・ガイドレール 6・・・・・・支持台 以  上

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)金属アルコキシドを加水分解してなるゾル溶液に
    超微粉末シリカを前記金属アルコキシド1モルに対して
    0.2〜5モルの割合で添加する工程、前記超微粉末シ
    リカを添加してなるゾル溶液を円筒容器に入れ回転させ
    ながらゲル化した後乾燥させてドライゲルを作製する工
    程および前記ドライゲルを焼結して管状石英ガラスとす
    る工程からなることを特徴とする管状石英ガラスの製造
    方法。
  2. (2)前記金属アルコキシドとして一般式がSi(OR
    )_4(ただしRはアルキル基を示す)で表わされるシ
    リコンアルコキシドを用いたことを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の管状石英ガラスの製造方法。
  3. (3)前記超微粉末シリカとしてSiOl_4を酸水素
    炎バーナーで加水分解して得られるホワイトカーボン、
    ケイ酸ソーダを原料とする湿式法によって得られる超微
    粉末シリカあるいは金属アルコキシドをアンモニア水で
    加水分解して得られる超微粉末シリカのいずれかを用い
    たことを特徴とする特許請求の範囲第1項または第2項
    記載の管状石英ガラスの製造方法。
  4. (4)前記超微粉末シリカを添加した後超音波振動をか
    けて前記超微粉末シリカを前記ゾル溶液中に均一に分散
    させることを特徴とする特許請求の範囲第1項〜第3項
    のいずれかに記載の管状石英ガラスの製造方法。
  5. (5)前記超微粉末シリカを添加した後遠心分離によっ
    て前記超微粉末シリカを前記ゾル溶液中に均一に分散さ
    せることを特徴とする特許請求の範囲第1項〜第4項の
    いずれかに記載の管状石英ガラスの製造方法。
  6. (6)前記超微粉末シリカを添加してなるゾル溶液に塩
    基を加えてPH値を3〜6の範囲になるように調整する
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項〜第5項のいず
    れかに記載の管状石英ガラスの製造方法。
  7. (7)前記塩基としてアンモニア水、アンモニアガス、
    アンモニアの溶液、トリエチルアミンあるいはその浴液
    、ピリジンあるいはその溶液もしくはアニリンあるいは
    その溶液のいずれかを用いたことを特徴とする特許請求
    の範囲第6項記載の管状石英ガラスの製造方法。
  8. (8)前記回転ゲル化時の回転は、原料ゾル液に及ぼす
    最大遠心重力が1000G(G=980cm/秒^2)
    以下になるように制御することを特徴とする特許請求の
    範囲第1項〜7項記載の管状石英ガラスの製造方法。
  9. (9)前記ゲル化およびドライゲル作成工程において前
    記ゾル溶液を収容する容器のフタとして開口率が50%
    以下のフタを用いたことを特徴とする特許請求の範囲第
    1項〜第7項のいずれかに記載の管状石英ガラスの製造
    方法。
  10. (10)5〜60℃の温度でゲル化した後昇温速度12
    0℃/h以下で20〜120℃の温度まで昇温し、収縮
    乾燥させてドライゲルを作成することを特徴とする特許
    請求の範囲第1項〜第8項記載の管状石英ガラスの製造
    方法。
  11. (11)前記ドライゲルを焼結する工程が以下の三つの
    工程からなることを特徴とする特許請求の範囲第1項〜
    第9項のいずれかに記載の管状石英ガラスの製造方法。 1)脱吸着水処理をする工程 2)脱炭素処理をする工程 3)無孔化する工程
  12. (12)昇温速度400℃/h以下で20〜400℃の
    範囲内の所定の温度に昇温し、その温度で1時間以上保
    持する処理を少なくとも1回行なって前記脱吸着水処理
    を行なうことを特徴とする特許請求の範囲第10項記載
    の管状石英ガラスの製造方法。
  13. (13)昇温速度30〜400℃/hで400〜110
    0℃の範囲内の所定の温度に昇温し、その温度で3時間
    以上保持する処理を少なくとも1回行なって前記脱炭素
    処理を行なうことを特徴とする特許請求の範囲第10項
    記載の管状石英ガラスの製造方法。
  14. (14)昇温速度30〜400℃/hで1000〜14
    00℃の範囲内の所定の温度に昇温し、所定の時間その
    温度で保持して前記無孔化処理を行なうことを特徴とす
    る特許請求の範囲第10項記載の管状石英ガラスの製造
    方法。
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