JPS6188291A - 文字フオントひずみ補正方式 - Google Patents
文字フオントひずみ補正方式Info
- Publication number
- JPS6188291A JPS6188291A JP59210280A JP21028084A JPS6188291A JP S6188291 A JPS6188291 A JP S6188291A JP 59210280 A JP59210280 A JP 59210280A JP 21028084 A JP21028084 A JP 21028084A JP S6188291 A JPS6188291 A JP S6188291A
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- Japan
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- pattern
- dots
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- Pending
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- Image Processing (AREA)
- Controls And Circuits For Display Device (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、文字パターンをドツト表示した文字フォント
の各ドツトを複数ドツトに置換して次数変換を行なう時
、変換後の文字フォントの交線部。
の各ドツトを複数ドツトに置換して次数変換を行なう時
、変換後の文字フォントの交線部。
斜線部等に生じるひずみである不要または不足ドツトを
比較的簡単表構成によシ有効に補正する文字フォントひ
ずみ補正方式に関するものである。
比較的簡単表構成によシ有効に補正する文字フォントひ
ずみ補正方式に関するものである。
文字パターンをドツト表示したものを文字フォントと称
する。この文字フォントの各ドツトを複数ドツトに置換
する。いわゆる次数変換を行ない、太字、拡大印字等に
利用される。たとえば２×２の変換の場合、斜線に対し
ては、第３図（α）のように階段状の凹凸が目立ち、ま
た同図（＆）の明朝体活字の横線端のコブもその感じが
変ってくる。これは同図（荀では１ドツト階段であるの
に対し２ドツト階段となシ、同ｌ１Ａ（ｂ）では突然２
ドツト台が生じるためである。そこで同図（Ｃ）に示す
ように階段部に１ドツ） ＱＤを補足すれば元の文字パ
ターンと同じ印象を与えることができる。
する。この文字フォントの各ドツトを複数ドツトに置換
する。いわゆる次数変換を行ない、太字、拡大印字等に
利用される。たとえば２×２の変換の場合、斜線に対し
ては、第３図（α）のように階段状の凹凸が目立ち、ま
た同図（＆）の明朝体活字の横線端のコブもその感じが
変ってくる。これは同図（荀では１ドツト階段であるの
に対し２ドツト階段となシ、同ｌ１Ａ（ｂ）では突然２
ドツト台が生じるためである。そこで同図（Ｃ）に示す
ように階段部に１ドツ） ＱＤを補足すれば元の文字パ
ターンと同じ印象を与えることができる。
また、同図（ψに示すように、文字パターンの交線部に
おいても、図示のような２×２変換を行なうと、Ｏで示
すような不要ドツトを生じ、元の文字パターンとは異な
る印象を与える。この場合にはＯを削除することが必要
である。
おいても、図示のような２×２変換を行なうと、Ｏで示
すような不要ドツトを生じ、元の文字パターンとは異な
る印象を与える。この場合にはＯを削除することが必要
である。
以上のような一次数変換による不足のドツトまたは不要
のドツトの発生を次数変換時のひずみと称すると、この
ひずみ補正をコンピュータによりその発注原因から計算
によシ判定を行ない、ドツトの補足または削除すること
はできるが、その計算と処理は非常に復雑なものとなる
ため、実施されていなかった。
のドツトの発生を次数変換時のひずみと称すると、この
ひずみ補正をコンピュータによりその発注原因から計算
によシ判定を行ない、ドツトの補足または削除すること
はできるが、その計算と処理は非常に復雑なものとなる
ため、実施されていなかった。
本発明の目的は文字フォントの次数変換時におけるひず
みを比較的簡単な構成と手順により行なうようにした文
字フォントひずみ補正方式を提供することにある。
みを比較的簡単な構成と手順により行なうようにした文
字フォントひずみ補正方式を提供することにある。
前記目的を達成するため、本発明の文字フォントひずみ
補正方式は元の文字フォントのひずみ発生部のビットの
周囲領域に対応するマスクパターンとその補正後の変換
パターンとをメモリに格納しておき、前記ビットの周囲
領域を前記マスクパターンと照合して一致した時対応す
る補正後の変換パターンを送出するようにしたものであ
る。
補正方式は元の文字フォントのひずみ発生部のビットの
周囲領域に対応するマスクパターンとその補正後の変換
パターンとをメモリに格納しておき、前記ビットの周囲
領域を前記マスクパターンと照合して一致した時対応す
る補正後の変換パターンを送出するようにしたものであ
る。
元の文字フォントの斜線部や明朝体のコブは１ドツトが
突出しているのに対し、交線部は連続しているから、こ
れを区別するため、たとえば２４×２４ドツトの文字フ
ォントの場合、３×３ドツトのマスクパターンを用セこ
れに検出される斜線部等の突出パターンと交線部の連続
パターンとは区別できる。その結果、前者の各パターン
に対しては所定位置に１ドツトを補足した変換パターン
を送出し、後者に対しては所定位置の１ドツトを削除し
た変換パターンを送出するようにする。これらのマスク
パターンとこれに対応する補正した変換パターンをメモ
リに格納しておき、元の文字フォントの名ビットに対す
るマスク領域のパターンをメモリ内のマスクパターンと
照合し、一致した場合には対応する補正変換パターンを
送出する。
突出しているのに対し、交線部は連続しているから、こ
れを区別するため、たとえば２４×２４ドツトの文字フ
ォントの場合、３×３ドツトのマスクパターンを用セこ
れに検出される斜線部等の突出パターンと交線部の連続
パターンとは区別できる。その結果、前者の各パターン
に対しては所定位置に１ドツトを補足した変換パターン
を送出し、後者に対しては所定位置の１ドツトを削除し
た変換パターンを送出するようにする。これらのマスク
パターンとこれに対応する補正した変換パターンをメモ
リに格納しておき、元の文字フォントの名ビットに対す
るマスク領域のパターンをメモリ内のマスクパターンと
照合し、一致した場合には対応する補正変換パターンを
送出する。
これにより、ｘｉ図の■、■のドツトを補足、削除する
ことができ、変換後の文字フォントのひずみをなくする
ことができる。
ことができ、変換後の文字フォントのひずみをなくする
ことができる。
第１図は本発明の要部の実施例説明図である。
同図は元フォント（２４Ｘ ２４ドツト）の文字を拡大
７オン）（４８ｘ４８ドツト）に拡大変換する場合のひ
ずみ補正における構成を示したものである。すなわち、
イメージメモリ（ＲＡＭ）１に格納した拡大されるべき
元フォント（２４Ｘ ２４ドツト）１１を代表的に示す
。被拡大ビット１３とその周囲８ビツトのマスク領域１
２を設定し、対象ビットとその周囲８ビツトを読出し照
合判定口ｉ！３に送る。一方、マスクパターンテーブル
２を用意し、第５図の■。
７オン）（４８ｘ４８ドツト）に拡大変換する場合のひ
ずみ補正における構成を示したものである。すなわち、
イメージメモリ（ＲＡＭ）１に格納した拡大されるべき
元フォント（２４Ｘ ２４ドツト）１１を代表的に示す
。被拡大ビット１３とその周囲８ビツトのマスク領域１
２を設定し、対象ビットとその周囲８ビツトを読出し照
合判定口ｉ！３に送る。一方、マスクパターンテーブル
２を用意し、第５図の■。
＠等のひずみを発生する元フォントのマスク領域１２に
対応するマスクパターンと補正された拡大パターンの対
２１〜２ｎを格納しておく。そしてこれらの対２１〜２
４を照合判定回路３に送シ、元フォントからのマスク領
域１２のビットパターンと対２１〜２ｎの各マスクパタ
ーンとを照合し、一致すればその対応する拡大パターン
を拡大フォント（４８Ｘ ４８ドツト）４に送る。一致
しない場合は通常の拡大としてオンドツトの時は２×２
オンドツト、オフドツトの時は２×２オフドツトに置換
して送る。
対応するマスクパターンと補正された拡大パターンの対
２１〜２ｎを格納しておく。そしてこれらの対２１〜２
４を照合判定回路３に送シ、元フォントからのマスク領
域１２のビットパターンと対２１〜２ｎの各マスクパタ
ーンとを照合し、一致すればその対応する拡大パターン
を拡大フォント（４８Ｘ ４８ドツト）４に送る。一致
しない場合は通常の拡大としてオンドツトの時は２×２
オンドツト、オフドツトの時は２×２オフドツトに置換
して送る。
マスクパターンテーブル２には前述のようにひずみ発生
部の補正を要するパターンとその拡大パターンの対が格
納されている。たとえば２１＋２２＋２３．２ｎは斜線
部等に用いドツトを補足する場合、２３＊２５は交線部
に用いドツトを削除する場合に該当する。
部の補正を要するパターンとその拡大パターンの対が格
納されている。たとえば２１＋２２＋２３．２ｎは斜線
部等に用いドツトを補足する場合、２３＊２５は交線部
に用いドツトを削除する場合に該当する。
第２図は本発明の実施例の動作を示−ｊ、流れ図である
。
。
同図では、イメージメモリ等から拡大すべき文字フォン
ト１を抽出し、この元フォントの被拡大位置のビットと
その周囲８ビツトを照合判定回路６に送シ、マスクパタ
ーンテーブル２内のマスクパターンを１個宛読出して照
合を繰返し一致すれば、該当するマスクパターンに対応
する拡大パｆｉ −７を拡大フォント４に転送する。以
上を走査全ビットにつき行なｈ終了する。
ト１を抽出し、この元フォントの被拡大位置のビットと
その周囲８ビツトを照合判定回路６に送シ、マスクパタ
ーンテーブル２内のマスクパターンを１個宛読出して照
合を繰返し一致すれば、該当するマスクパターンに対応
する拡大パｆｉ −７を拡大フォント４に転送する。以
上を走査全ビットにつき行なｈ終了する。
以上説明したように、本発明によれば、元の文字フォン
トのひずみ発生部のビットの周囲領域に対応するマスク
パターンとその補正後の変換パターンとをメモリに格納
しておき、前記ビットの周囲領域を前記マスクパターン
と照合して一致した時対応する補正後の変換パターンを
送出するようにしたものである。このように変換によシ
ひずみを発生する元フォントのパターンｉｉ妓つかに限
足されるから、ハード構成によシ高遠に照合することに
より比較的容易に処理が可能となシ、ｉｉ算処理に比し
格段に処理手順を簡略化し６理時間を短縮することがで
きるものである。
トのひずみ発生部のビットの周囲領域に対応するマスク
パターンとその補正後の変換パターンとをメモリに格納
しておき、前記ビットの周囲領域を前記マスクパターン
と照合して一致した時対応する補正後の変換パターンを
送出するようにしたものである。このように変換によシ
ひずみを発生する元フォントのパターンｉｉ妓つかに限
足されるから、ハード構成によシ高遠に照合することに
より比較的容易に処理が可能となシ、ｉｉ算処理に比し
格段に処理手順を簡略化し６理時間を短縮することがで
きるものである。
第１図は本発明の実施例の構成説明図、第２図は実施例
の手順を示す流れ図、第３図（ｃＬ）〜（ｄ）は従来例
の問題点の説明図であシ、図中、１はｉ−ｅす、１１は
元フォント、１２はマスク領域、１３は対象ビット、２
はマスクパターンテーブル、２１〜２ユはマスクパター
ン、拡大パターン対、６は照合判定回路、４は拡大フォ
ントを示す。
の手順を示す流れ図、第３図（ｃＬ）〜（ｄ）は従来例
の問題点の説明図であシ、図中、１はｉ−ｅす、１１は
元フォント、１２はマスク領域、１３は対象ビット、２
はマスクパターンテーブル、２１〜２ユはマスクパター
ン、拡大パターン対、６は照合判定回路、４は拡大フォ
ントを示す。
Claims (1)
- 文字パターンをドット表示した文字フォントの各ドット
を複数ドットに置換して次数変換を行なう時、変換後の
文字フォントの交線部、斜線部等に生じる不要または不
足ドットを意味するひずみを補正するため、前記元の文
字フォントのひずみ発生部のビットの周囲領域に対応す
るマスクパターンとその補正後の変換パターンとをメモ
リに格納しておき、前記ビットの周囲領域を前記マスク
パターンと照合して一致した時、対応する補正後の変換
パターンを送出するようにしたことを特徴とする文字フ
ォントひずみ補正方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59210280A JPS6188291A (ja) | 1984-10-06 | 1984-10-06 | 文字フオントひずみ補正方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59210280A JPS6188291A (ja) | 1984-10-06 | 1984-10-06 | 文字フオントひずみ補正方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6188291A true JPS6188291A (ja) | 1986-05-06 |
Family
ID=16586776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59210280A Pending JPS6188291A (ja) | 1984-10-06 | 1984-10-06 | 文字フオントひずみ補正方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6188291A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62272374A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 文字拡大装置 |
| JPH03214271A (ja) * | 1989-08-04 | 1991-09-19 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | テキストの画素イメージの質を改善する方法 |
-
1984
- 1984-10-06 JP JP59210280A patent/JPS6188291A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62272374A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 文字拡大装置 |
| JPH03214271A (ja) * | 1989-08-04 | 1991-09-19 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | テキストの画素イメージの質を改善する方法 |
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