JPS6179781A - 方向性電磁鋼板のグラス皮膜形成方法 - Google Patents
方向性電磁鋼板のグラス皮膜形成方法Info
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- JPS6179781A JPS6179781A JP20067184A JP20067184A JPS6179781A JP S6179781 A JPS6179781 A JP S6179781A JP 20067184 A JP20067184 A JP 20067184A JP 20067184 A JP20067184 A JP 20067184A JP S6179781 A JPS6179781 A JP S6179781A
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- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1277—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties involving a particular surface treatment
- C21D8/1283—Application of a separating or insulating coating
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- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は方向性電磁鋼板のフォルステライト（２ＭｇＯ
・５ＩＯ２）を主体とするグラス皮膜形成方法に関し、
特に、均一性・密着性に優れたグラス皮膜の形成方法に
関するものである。
・５ＩＯ２）を主体とするグラス皮膜形成方法に関し、
特に、均一性・密着性に優れたグラス皮膜の形成方法に
関するものである。
（従来の技術）
方向性電磁鋼板は主として変圧器用鉄芯材料として使用
され、通常Ｓｌ ４ ｖＬ％以下を含有する珪素鋼素材
を熱間圧延し、１回又は２回以上の焼鈍、冷間圧延工程
により最終成品板厚とし、次いで連続焼鈍により、脱炭
、１次再結晶を行なった後、さらに仕上焼鈍を施して圧
延方向に磁化容易軸＜１００＞を有し、かつ圧延面に平
行に（１１０１を有する２次再結晶粒を発達させると同
時に材料の電磁特性に有害な不純物を除去するとともに
グラス皮膜を形成する。
され、通常Ｓｌ ４ ｖＬ％以下を含有する珪素鋼素材
を熱間圧延し、１回又は２回以上の焼鈍、冷間圧延工程
により最終成品板厚とし、次いで連続焼鈍により、脱炭
、１次再結晶を行なった後、さらに仕上焼鈍を施して圧
延方向に磁化容易軸＜１００＞を有し、かつ圧延面に平
行に（１１０１を有する２次再結晶粒を発達させると同
時に材料の電磁特性に有害な不純物を除去するとともに
グラス皮膜を形成する。
上記、仕上焼鈍は８００℃以上の高温で長時間保持され
るため、Ａ版の焼付防止を目的として、金属化合物を主
体とする焼鈍分離剤が使用される。
るため、Ａ版の焼付防止を目的として、金属化合物を主
体とする焼鈍分離剤が使用される。
焼鈍分離剤としては多くの金属化合物を使用する技術が
提供されているが、特に方向性電磁鋼板に対しては、例
えば特公昭５１−１２４５１号公報、特公昭５２−３１
２９６号公報に記載されるようＫｆｉ板の焼付防止と同
時に鋼板表面に生成したシリカ（Ｓ１０□）、ファイア
ライト（２Ｆ・０・３１０□）等を主成分とするスケー
ル層と高温で固相反応により、フォルステライ） （２
ＭｇＯ−８１０２）を主体とするグラス皮膜を形成し易
いＭｇＯを主成分とした焼鈍分離剤が一般に用いられる
。
提供されているが、特に方向性電磁鋼板に対しては、例
えば特公昭５１−１２４５１号公報、特公昭５２−３１
２９６号公報に記載されるようＫｆｉ板の焼付防止と同
時に鋼板表面に生成したシリカ（Ｓ１０□）、ファイア
ライト（２Ｆ・０・３１０□）等を主成分とするスケー
ル層と高温で固相反応により、フォルステライ） （２
ＭｇＯ−８１０２）を主体とするグラス皮膜を形成し易
いＭｇＯを主成分とした焼鈍分離剤が一般に用いられる
。
方向性電磁鋼板を変圧器用鉄芯として使用する場合、鉄
損の大半を占める渦Ｎｆｔ損を低減するために、鋼板表
面に絶縁性被削を施す必要があり、一般には、上記フォ
ルステライトを主体とするグラス皮膜を下地とし、その
上にリン酸塩系皮膜を施した複合皮膜となっている。方
向性電磁鋼板の皮膜として要求される機能、特性として
は（１）外観が均一であること （２） 密着性に優れていること （３）電気絶縁性、耐熱性に優れていること（４）
占積率を低下させて、鉄損劣化を生じないこと 等が挙げられるが、特に外観・密着性は下地であるフォ
ルステライト系グラス皮膜によって、主に決定され、グ
ラス皮膜の良否が製品の商品価値に及ぼす影響は極めて
大きり。
損の大半を占める渦Ｎｆｔ損を低減するために、鋼板表
面に絶縁性被削を施す必要があり、一般には、上記フォ
ルステライトを主体とするグラス皮膜を下地とし、その
上にリン酸塩系皮膜を施した複合皮膜となっている。方
向性電磁鋼板の皮膜として要求される機能、特性として
は（１）外観が均一であること （２） 密着性に優れていること （３）電気絶縁性、耐熱性に優れていること（４）
占積率を低下させて、鉄損劣化を生じないこと 等が挙げられるが、特に外観・密着性は下地であるフォ
ルステライト系グラス皮膜によって、主に決定され、グ
ラス皮膜の良否が製品の商品価値に及ぼす影響は極めて
大きり。
従来ヨシ、フォルステライトを主体とするグラス皮膜形
成方法に関する特許は多数開示されておシ特に特公昭２
５−２８５８号公報、特公昭４６−４２２９８号公報、
特公昭４６−４２２９９号公報、米国特許第３６２７５
９４号明細書、特開昭５０−１４５３１５号公報等によ
り、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤に＆化チタン（Ｔ
ＩＯ□）を添加、配合することにより、良好なグラス皮
膜形成が可能であることが公知である。
成方法に関する特許は多数開示されておシ特に特公昭２
５−２８５８号公報、特公昭４６−４２２９８号公報、
特公昭４６−４２２９９号公報、米国特許第３６２７５
９４号明細書、特開昭５０−１４５３１５号公報等によ
り、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤に＆化チタン（Ｔ
ＩＯ□）を添加、配合することにより、良好なグラス皮
膜形成が可能であることが公知である。
（発明が解決しようとする問題点）
これら、公知の技術により、良好なフォルステライトを
主体とするグラス皮膜を形成するという目的は、一応達
成されたが品質向上の要求が急速に高まりつつある現在
、さらに高品質のグラス皮膜を有する方向性電磁鋼板の
製造技術が必要となっている。
主体とするグラス皮膜を形成するという目的は、一応達
成されたが品質向上の要求が急速に高まりつつある現在
、さらに高品質のグラス皮膜を有する方向性電磁鋼板の
製造技術が必要となっている。
（問題点を解決するための手段）
本発明はＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤に配合するＴ
ＩＯ□の形態を規定することにより、上記の要求を満足
するものであシ、その基本構成は以下の如くである。
ＩＯ□の形態を規定することにより、上記の要求を満足
するものであシ、その基本構成は以下の如くである。
すなわち、最終板厚にまで圧延された珪素鋼素材に脱炭
焼鈍を施して鋼板表面にＭｇＯを主成分とする焼鈍分離
剤を塗布した後、仕上焼鈍を施してフォルステライトを
主体とするグラス皮膜を形成させる方法においてコロイ
ド状ＴｉＯ２を対ＭｇＯ重精比で、ＴｉＯ２として０．
１〜１０．０Ｗｔチ含有する焼鈍分離剤を使用すること
を特徴とする方向性電磁鋼板のグラス皮膜形成方法であ
る。
焼鈍を施して鋼板表面にＭｇＯを主成分とする焼鈍分離
剤を塗布した後、仕上焼鈍を施してフォルステライトを
主体とするグラス皮膜を形成させる方法においてコロイ
ド状ＴｉＯ２を対ＭｇＯ重精比で、ＴｉＯ２として０．
１〜１０．０Ｗｔチ含有する焼鈍分離剤を使用すること
を特徴とする方向性電磁鋼板のグラス皮膜形成方法であ
る。
次に本発明の詳細な説明する。
従来ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤に添加、配合され
るＴＩＯ□に関しては、その粒度が限定されるのみで、
例えば米国特許第３６２７５９４号明細書では、ＴｉＯ
□の粒度は「３２５メツシュ程度」であればよいと記述
され、特開昭５０−１４５３１５号公報では、ＴｉＯ２
０粒度は「３２５メツシユ（４４μ）のタイラー標準ふ
るいを９８重Ｊ［以上通過し、かつ２０μ以下の粒子を
８０重ｉ％以上含有する」と記述されているに過ぎない
。
るＴＩＯ□に関しては、その粒度が限定されるのみで、
例えば米国特許第３６２７５９４号明細書では、ＴｉＯ
□の粒度は「３２５メツシュ程度」であればよいと記述
され、特開昭５０−１４５３１５号公報では、ＴｉＯ２
０粒度は「３２５メツシユ（４４μ）のタイラー標準ふ
るいを９８重Ｊ［以上通過し、かつ２０μ以下の粒子を
８０重ｉ％以上含有する」と記述されているに過ぎない
。
一方、従来より方向性電磁鋼板に使用されるＭｇＯを主
成分とする焼鈍分離剤の粒子径はその出発原料であるＭ
ｇ（ＯＨ）２０粒粒度焼成温度、焼成時間によプ異なる
が、粉末Ｘ線回折法による回折線の半価幅等から求まる
いわゆる１次粒子では例えば特開昭５８−１９３３７３
号公報に記載されるように、０．０８〜０．１８μｍ大
きいものでもたかだか０、５μｍ８度であり、仕上焼鈍
工程で形成されるフォルステライト粒はこれら粒子の１
〜数個が合体。
成分とする焼鈍分離剤の粒子径はその出発原料であるＭ
ｇ（ＯＨ）２０粒粒度焼成温度、焼成時間によプ異なる
が、粉末Ｘ線回折法による回折線の半価幅等から求まる
いわゆる１次粒子では例えば特開昭５８−１９３３７３
号公報に記載されるように、０．０８〜０．１８μｍ大
きいものでもたかだか０、５μｍ８度であり、仕上焼鈍
工程で形成されるフォルステライト粒はこれら粒子の１
〜数個が合体。
成長したものと見ることができ極めて微小なものである
。また周知の如く、フォルステライト生成反応のような
固相反応は反応物質粒子の接触部から起こるため、反応
物質の有効表面積を高めることが反応性の向上に有効で
ある。また反応生成物が均一であるためには、反応物質
が均一に分散することで初めて達成される。そこで本発
明者は、グラス皮膜の均一性・密着性に及ぼすＴｉＯ２
粒度の影響について以下の実験を実施した。
。また周知の如く、フォルステライト生成反応のような
固相反応は反応物質粒子の接触部から起こるため、反応
物質の有効表面積を高めることが反応性の向上に有効で
ある。また反応生成物が均一であるためには、反応物質
が均一に分散することで初めて達成される。そこで本発
明者は、グラス皮膜の均一性・密着性に及ぼすＴｉＯ２
粒度の影響について以下の実験を実施した。
従来より使用されているＭｇＯを主成分とする焼鈍分離
剤を公知の方法でスラリーとし、これに、ＴｉＯ２を最
大粒子径によ’） ７９ ａｍ （２００ｍ＊ｓｈ ）
、４４ ＃ｎ（３２５ｍｅｓｈ ） 、 １０μｍ 、
５ Ａｍ 、 ０．５／Ｊｍ。
剤を公知の方法でスラリーとし、これに、ＴｉＯ２を最
大粒子径によ’） ７９ ａｍ （２００ｍ＊ｓｈ ）
、４４ ＃ｎ（３２５ｍｅｓｈ ） 、 １０μｍ 、
５ Ａｍ 、 ０．５／Ｊｍ。
０、１μｍ、０．０５μｍに分級し、それぞれ上記スラ
リーに対ＭｇＯ重景比で５ｗｔ９ｊ配合し、充分に攪拌
混合した。これを板厚０．３ ｍの脱炭焼鈍後の鋼板に
ロール絞り方式で塗布、乾燥し、付着量を片面当たり６
９７ｍ”となるようにした。次いで、この鋼板をＮ２＋
Ｈ２雰囲気中で昇温し、１１５０Ｃで２０時間保持した
後、未反応の焼鈍分離剤を水洗・除去してグラス皮膜性
能を調査した。グラス皮膜性能として均一性は、耐酸性
で、密着性は皮膜剥離の起こらない最小曲げ直径で評価
した。
リーに対ＭｇＯ重景比で５ｗｔ９ｊ配合し、充分に攪拌
混合した。これを板厚０．３ ｍの脱炭焼鈍後の鋼板に
ロール絞り方式で塗布、乾燥し、付着量を片面当たり６
９７ｍ”となるようにした。次いで、この鋼板をＮ２＋
Ｈ２雰囲気中で昇温し、１１５０Ｃで２０時間保持した
後、未反応の焼鈍分離剤を水洗・除去してグラス皮膜性
能を調査した。グラス皮膜性能として均一性は、耐酸性
で、密着性は皮膜剥離の起こらない最小曲げ直径で評価
した。
グラス皮膜の耐酸性は試料を７０℃の３０％ＨＣ１水溶
液中に一定速度で浸漬し、浸漬開始から、グラス皮膜が
剥離して初めて地鉄が露出するまでの時間で表わすもの
で本来７オルステライトはＨＣｌには難溶性であり、７
オルステライト粒の結合の弱い部分やグラス皮膜に微小
な欠損があると、この部分からＨＣｔが浸透して地鉄部
分のＦｅを溶解するため、グラス皮膜が剥離して地鉄が
露出する。
液中に一定速度で浸漬し、浸漬開始から、グラス皮膜が
剥離して初めて地鉄が露出するまでの時間で表わすもの
で本来７オルステライトはＨＣｌには難溶性であり、７
オルステライト粒の結合の弱い部分やグラス皮膜に微小
な欠損があると、この部分からＨＣｔが浸透して地鉄部
分のＦｅを溶解するため、グラス皮膜が剥離して地鉄が
露出する。
従って、との地鉄が露出するまでの時間を７オルステラ
イト粒の結合の強さ、およびグラス皮膜の欠損の有無、
すなわち均一性の指標とすることができ、この時間が大
きいほど強固かつ均一なグラス皮膜であるといえる。
イト粒の結合の強さ、およびグラス皮膜の欠損の有無、
すなわち均一性の指標とすることができ、この時間が大
きいほど強固かつ均一なグラス皮膜であるといえる。
グラス皮膜の耐酸性について調査した結果を第１図に示
す。第１図中のプロット〈示した部分は各測定点でのバ
ラツキを標準偏差で示したものである。又、密着性の分
布を第２図に示す。第１図より、ＭｇＯを主成分とする
焼鈍分離剤に配合するＴＩＯ□の粒度を小さくするにつ
れ、グラス皮膜のｍ゛酸性すなわち均一性は向上し、粒
子径０．５μｍ以下で大きく向上することが判明した。
す。第１図中のプロット〈示した部分は各測定点でのバ
ラツキを標準偏差で示したものである。又、密着性の分
布を第２図に示す。第１図より、ＭｇＯを主成分とする
焼鈍分離剤に配合するＴＩＯ□の粒度を小さくするにつ
れ、グラス皮膜のｍ゛酸性すなわち均一性は向上し、粒
子径０．５μｍ以下で大きく向上することが判明した。
又、密着性についても、 ＴｉＯ２粒度への依存性が認
められ、０．５〜０．１μｍ以下で大きく向上している
ことがわかった。グラス皮膜の均一性、密着性がＴｉＯ
２粒子径０．５〜０．１μｍ以下から、大きく向上する
理由については明らかではないが、ＭｇＯを主成分とす
る焼鈍分離剤の１次粒子径が上記の如＜、Ｏ，ＯＳ〜０
．５μｍ程度であることと対応しておシ、フォルステラ
イト形成固相反応の反応サイトを増加させることによシ
、反応が均一に進行するような働きを有するものと思わ
れる。一方、ＴＬＯ□の粒子径を小さくすることにより
、グラス皮膜の均一性、密着性は確かに向上するが、第
１図から明らかなように、そのバラツキはほとんど変化
せず大きなものとなっている。バラツキの大きいことは
、品質の安定性を欠く主原因となるため、このバラツキ
の減少によりはじめて高品質のグラス皮膜を有する方向
性電磁鋼板の安定した製造が可能となる。
められ、０．５〜０．１μｍ以下で大きく向上している
ことがわかった。グラス皮膜の均一性、密着性がＴｉＯ
２粒子径０．５〜０．１μｍ以下から、大きく向上する
理由については明らかではないが、ＭｇＯを主成分とす
る焼鈍分離剤の１次粒子径が上記の如＜、Ｏ，ＯＳ〜０
．５μｍ程度であることと対応しておシ、フォルステラ
イト形成固相反応の反応サイトを増加させることによシ
、反応が均一に進行するような働きを有するものと思わ
れる。一方、ＴＬＯ□の粒子径を小さくすることにより
、グラス皮膜の均一性、密着性は確かに向上するが、第
１図から明らかなように、そのバラツキはほとんど変化
せず大きなものとなっている。バラツキの大きいことは
、品質の安定性を欠く主原因となるため、このバラツキ
の減少によりはじめて高品質のグラス皮膜を有する方向
性電磁鋼板の安定した製造が可能となる。
本発明者は、上記のバラツキの生じる原因について、鋭
意検討した結果、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤のス
ラリ中でのＴＩＯ□の分散性が支配的要因であることが
判明し、分散性を向上させる最も有効な手段として、Ｔ
ｉＯ２がコロイド状であればよいことを見出し、本発明
を完成した。
意検討した結果、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤のス
ラリ中でのＴＩＯ□の分散性が支配的要因であることが
判明し、分散性を向上させる最も有効な手段として、Ｔ
ｉＯ２がコロイド状であればよいことを見出し、本発明
を完成した。
ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤スラリーに配合するＴ
ＩＯ□の粒子径が小さくなるほどスラリー中で。
ＩＯ□の粒子径が小さくなるほどスラリー中で。
１次粒子同士が凝集して二次粒子を形成して粗大化しｆ
ｃシ、あるいは分散しないままＫ、吸水して粉塊のまま
、鋼板に塗布されたシ、攪拌中に沈降したりするためＴ
ｉＯ２の１次粒子が小さいことによる効果が充分に得ら
れなくなる。一方、本発明のコロイド状のＴｉＯ□を使
用した場合、凝集、沈降は全く起こらず、完全に分散し
て極めて均一なスラリーとなる。
ｃシ、あるいは分散しないままＫ、吸水して粉塊のまま
、鋼板に塗布されたシ、攪拌中に沈降したりするためＴ
ｉＯ２の１次粒子が小さいことによる効果が充分に得ら
れなくなる。一方、本発明のコロイド状のＴｉＯ□を使
用した場合、凝集、沈降は全く起こらず、完全に分散し
て極めて均一なスラリーとなる。
ここで言うコロイド状とは、一般にコロイド溶液又はゾ
ルと呼ばれるもので、大きさが０．１〜０．００１μｍ
程度の微粒子が溶媒中に分散した系を言う。コロイド液
の特徴は、分散粒子の表面積が著しく大きいことであり
、その反応性が一般の粉体に比べて極めて高く、又、液
体中に分散するコロイド粒子は多くの場合帯電していて
電気二重層と呼ばれる静電効果のために安定化されてい
るため、一般に重力場では凝集、沈降が起こらない。
ルと呼ばれるもので、大きさが０．１〜０．００１μｍ
程度の微粒子が溶媒中に分散した系を言う。コロイド液
の特徴は、分散粒子の表面積が著しく大きいことであり
、その反応性が一般の粉体に比べて極めて高く、又、液
体中に分散するコロイド粒子は多くの場合帯電していて
電気二重層と呼ばれる静電効果のために安定化されてい
るため、一般に重力場では凝集、沈降が起こらない。
本発明においてコロイド状のＴＩＯ□の含有量の下限を
対ＭｇＯ重量比でＴｉＯ２として０１１ｖｔｑｂとした
のは、それ未満では、その効果が充分に得ることができ
ず、又、上限を１０．０ ｖｒｔ％としたのは、これを
超えると仕上焼鈍中に鋼板が過酸化されてグラス皮膜の
黒変欠陥が生じ、外観の均一性がそこなわれるため好ま
しくない。
対ＭｇＯ重量比でＴｉＯ２として０１１ｖｔｑｂとした
のは、それ未満では、その効果が充分に得ることができ
ず、又、上限を１０．０ ｖｒｔ％としたのは、これを
超えると仕上焼鈍中に鋼板が過酸化されてグラス皮膜の
黒変欠陥が生じ、外観の均一性がそこなわれるため好ま
しくない。
本発明に使用されるコロイド状のＴｉＯ２は例えば特開
昭４７−１１３５６号公報、特開昭４９−１０８００号
公報、特公昭４８−４１４３１号公報、米国特許第３８
６４１４２号明細書等に記載される方法で製造され、触
媒、塗料添加剤、セラミック原料として近年工業的に広
く使用されるものであるが、製造方法について本発明は
上記引用例に限定するものではない。
昭４７−１１３５６号公報、特開昭４９−１０８００号
公報、特公昭４８−４１４３１号公報、米国特許第３８
６４１４２号明細書等に記載される方法で製造され、触
媒、塗料添加剤、セラミック原料として近年工業的に広
く使用されるものであるが、製造方法について本発明は
上記引用例に限定するものではない。
以上の如く本発明の目的は、ＭｇＯを主成分とする焼鈍
分離剤にコロイド状のＴｉＯ□を特定量、含有させるこ
とで満足されるが、さらに本発明者が特公昭５７−０１
１３９３号公報に記載される如く提案した静電塗装によ
る焼鈍分離剤塗布技術との組合わせによる以下の方法も
可能である。すなわち最終板厚Ｋまで圧延され念珠素鋼
素材に脱炭焼鈍を施して鋼板表面にグラス皮膜形成用焼
鈍分離剤としてＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤スラリ
ーを塗布、乾燥し、その上に鋼板焼付防止用焼鈍分離剤
粉体を静電的に付着させた後、仕上焼鈍を施して、フォ
ルステライトを主体とするグラス皮膜を形成する方法に
おいて、グラス皮膜形成用焼鈍分離剤にコロイド状ＴＩ
Ｏを対ＭｇＯ重量比でＴｉＯ２として０．３〜２０．
Ｏｖｒｔｌ配合することを特徴とする方向性電磁鋼板の
グラス皮膜形成方法である。
分離剤にコロイド状のＴｉＯ□を特定量、含有させるこ
とで満足されるが、さらに本発明者が特公昭５７−０１
１３９３号公報に記載される如く提案した静電塗装によ
る焼鈍分離剤塗布技術との組合わせによる以下の方法も
可能である。すなわち最終板厚Ｋまで圧延され念珠素鋼
素材に脱炭焼鈍を施して鋼板表面にグラス皮膜形成用焼
鈍分離剤としてＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤スラリ
ーを塗布、乾燥し、その上に鋼板焼付防止用焼鈍分離剤
粉体を静電的に付着させた後、仕上焼鈍を施して、フォ
ルステライトを主体とするグラス皮膜を形成する方法に
おいて、グラス皮膜形成用焼鈍分離剤にコロイド状ＴＩ
Ｏを対ＭｇＯ重量比でＴｉＯ２として０．３〜２０．
Ｏｖｒｔｌ配合することを特徴とする方向性電磁鋼板の
グラス皮膜形成方法である。
コロイド状ＴｉＯ□の配合量の下限をＱ、３ｗｔ％とじ
たのは、それ未満では顕著な効果が得られず上限は２０
． Ｏｖｔ％を超えるとグラス皮膜の黒変欠陥が生じ外
観の均一性がそこなわれるため好ましくない・ また、本発明は従来提案されているようなＭｇＯを主成
分とする焼鈍分離剤に特定量の特定物質（例えば５ｂ２
（ＳＯ４）３、Ｓｒ化合物、Ｂ化合物等）との組合わせ
も可能である。
たのは、それ未満では顕著な効果が得られず上限は２０
． Ｏｖｔ％を超えるとグラス皮膜の黒変欠陥が生じ外
観の均一性がそこなわれるため好ましくない・ また、本発明は従来提案されているようなＭｇＯを主成
分とする焼鈍分離剤に特定量の特定物質（例えば５ｂ２
（ＳＯ４）３、Ｓｒ化合物、Ｂ化合物等）との組合わせ
も可能である。
従来より、方向性電磁鋼板のグラス皮膜形成方法に関し
、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤に特定量のＴｉＯ７
を含有させる技術は多数、公開されているが、本発明の
如く焼鈍分離剤の１次粒子に着目してＴ１０□の形態を
極めて微細なままでの分散性。
、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤に特定量のＴｉＯ７
を含有させる技術は多数、公開されているが、本発明の
如く焼鈍分離剤の１次粒子に着目してＴ１０□の形態を
極めて微細なままでの分散性。
反応性を維持させるため、コロイド状と規定することに
よシ、均一かつ密着性に極めて浸れたグラス皮膜を形成
させる技術は皆無であシ、その工業的意義は太きい。
よシ、均一かつ密着性に極めて浸れたグラス皮膜を形成
させる技術は皆無であシ、その工業的意義は太きい。
以下、本発明の実施例について説明する。
実施例１
重量パーセントで、Ｃ０，０３％、Ｓ１３．１５係。
Ｍｎ０．０６％、３０．０１４１を含有する珪素鋼鋳片
を１３００℃に加熱後、熱延して２．５簡の熱延板とし
た。この熱延板を酸洗後、冷間圧延し０．８順の板厚と
しだ後９００℃で５分間、露点＋２０℃のＮ２とＮ２の
混合ガス気流中で焼鈍した。次いで冷間圧延により板厚
０．３ ｔｍａとした後、８５０℃で３分間、露点＋５
０℃のＮ２とＮ２の混合ガス気流中で脱炭した。
を１３００℃に加熱後、熱延して２．５簡の熱延板とし
た。この熱延板を酸洗後、冷間圧延し０．８順の板厚と
しだ後９００℃で５分間、露点＋２０℃のＮ２とＮ２の
混合ガス気流中で焼鈍した。次いで冷間圧延により板厚
０．３ ｔｍａとした後、８５０℃で３分間、露点＋５
０℃のＮ２とＮ２の混合ガス気流中で脱炭した。
脱炭焼鈍後の鋼板両面に最大粒子０．０５μｍ、固形分
としての濃度２０ ｗｔ％のコロイド状ＴｉＯ２をＭｇ
Ｏを主成分とする焼鈍分離剤にで１０２として、対Ｍｇ
Ｏ重量比でＯ〜１２． ０ｗｔ％配合し、この焼鈍分離
剤スラリーを塗布、乾燥して片面当たり、７〜８１７ｍ
２の付着量とした後、コイル状に捲取った。これを３０
℃／Ｈｒで１２００℃までＮ２＋Ｈ２混合ガス中で昇温
し、次いでＮ２がスに切換えて１０時間均熱した。
としての濃度２０ ｗｔ％のコロイド状ＴｉＯ２をＭｇ
Ｏを主成分とする焼鈍分離剤にで１０２として、対Ｍｇ
Ｏ重量比でＯ〜１２． ０ｗｔ％配合し、この焼鈍分離
剤スラリーを塗布、乾燥して片面当たり、７〜８１７ｍ
２の付着量とした後、コイル状に捲取った。これを３０
℃／Ｈｒで１２００℃までＮ２＋Ｈ２混合ガス中で昇温
し、次いでＮ２がスに切換えて１０時間均熱した。
冷却後、未反応の焼鈍分離剤をブラシ水洗して除去し、
各コイルよシサンプルを採取して８００℃で２時間、Ｎ
２中で歪取焼鈍を施した後、グラス皮膜特性を評価した
。この結果を第１表に示す。
各コイルよシサンプルを採取して８００℃で２時間、Ｎ
２中で歪取焼鈍を施した後、グラス皮膜特性を評価した
。この結果を第１表に示す。
第１表よυ本発明の特許請求の範囲（１）内で、グラス
皮膜特性の向上が認められ、そのパラツキも小さいこと
がわかる。
皮膜特性の向上が認められ、そのパラツキも小さいこと
がわかる。
比較例１
実施例１と同一素材、同一条件で脱炭焼鈍までを施し、
脱炭焼鈍後の鋼板両面に、微粉砕して、最大粒子径０．
０５μｍに分級したＴｉＯ２粉末を重量比で５ ｗｔ％
配合、攪拌したＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤スラリ
ーを塗布、乾燥して片面当たり７〜８１７ｍ”の付着量
とした後、コイル状に捲取って、これを実施例１と同一
条件で仕上焼鈍した。
脱炭焼鈍後の鋼板両面に、微粉砕して、最大粒子径０．
０５μｍに分級したＴｉＯ２粉末を重量比で５ ｗｔ％
配合、攪拌したＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤スラリ
ーを塗布、乾燥して片面当たり７〜８１７ｍ”の付着量
とした後、コイル状に捲取って、これを実施例１と同一
条件で仕上焼鈍した。
この結果を第１表に示す。
比較例２
比較例１においてＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤に配
合するＴｉＯ２の粒度な３２５ ｍｅｓｈ標準ふるい全
通、２０μｍ以下の粒子９０Ｗｔｌとし、その配合量は
対ＭｇＯ重量比で５ｗｔ％として他の条件は全て比較例
１と同一とした。その結果を第１表に示す。
合するＴｉＯ２の粒度な３２５ ｍｅｓｈ標準ふるい全
通、２０μｍ以下の粒子９０Ｗｔｌとし、その配合量は
対ＭｇＯ重量比で５ｗｔ％として他の条件は全て比較例
１と同一とした。その結果を第１表に示す。
第１表
＊密着性：絶縁皮膜（リン酸塩＋クロム酸：４１７ｍ”
塗布８００℃×５０秒焼付）処理後、剥離の生じない最
小曲げ直径 実施例２ 重量ノぐ一セントで、Ｃ０，０６憾、Ｓ１３．２０俤。
塗布８００℃×５０秒焼付）処理後、剥離の生じない最
小曲げ直径 実施例２ 重量ノぐ一セントで、Ｃ０，０６憾、Ｓ１３．２０俤。
Ｍｎ０．０８％、 Ｓｏ、０２７９６．Ａｔ０．０３％
、ＮＯ，００８俤を含有する珪素鋼鋳片を１３００℃に
加熱後、熱間圧延して０．２■の熱延板とし念。この熱
延板を１１００℃で５分間均熱した後、酸洗し、次いで
冷間圧延により、０．２３ｍの板厚とした。この冷延板
を８５０℃で３分間露点＋４５℃のＮ２とＮ２の混合ガ
ス気流中で脱炭した。
、ＮＯ，００８俤を含有する珪素鋼鋳片を１３００℃に
加熱後、熱間圧延して０．２■の熱延板とし念。この熱
延板を１１００℃で５分間均熱した後、酸洗し、次いで
冷間圧延により、０．２３ｍの板厚とした。この冷延板
を８５０℃で３分間露点＋４５℃のＮ２とＮ２の混合ガ
ス気流中で脱炭した。
脱炭焼鈍後の鋼板両面に最大粒子０．０７μｍ、固形分
としての濃度３０ ｗｔ％のコロイド状ＴｉＯ２をＭｇ
Ｏを主成分とするグラス皮膜形成用焼鈍分離剤にＴｉＯ
２として対ＭｇＯ重量比で０〜２５ ｖｒｔ％配合し、
この焼鈍分離剤スラリーを塗布、乾燥して片面当たシ、
３Ｆ／ｍ２の付着量とし、その上に、鋼板焼付防止用焼
鈍分離剤として３’２５ ｍｅａｈパスの高温焼成した
マグネシアクリンカを静電塗装装置を用いて−１００ｋ
Ｖの高圧で負に帯電させて対抗電極の鋼板上に片面当た
シロ〜８９／ｍ”付着させ、直ちにコイル状に捲取った
。これを２０℃／Ｈｒで１２００℃までＮ２とＮ２の混
合ガス中で昇温し、次いでＮ２ガスに切り換えて１５時
間均熱した。冷却後、未反応の焼鈍分離剤をブラシ水洗
して、各コイルよりサンプルを採取し８００℃で２時間
、Ｎ２中で歪取焼鈍を施した後、グラス皮膜特性を評価
した。この結果を第２表に示す。第２表より本発明の特
許請求の範囲内で、グラス皮膜特性の向上が認められ、
そのバラツキも小さいことがわかる。
としての濃度３０ ｗｔ％のコロイド状ＴｉＯ２をＭｇ
Ｏを主成分とするグラス皮膜形成用焼鈍分離剤にＴｉＯ
２として対ＭｇＯ重量比で０〜２５ ｖｒｔ％配合し、
この焼鈍分離剤スラリーを塗布、乾燥して片面当たシ、
３Ｆ／ｍ２の付着量とし、その上に、鋼板焼付防止用焼
鈍分離剤として３’２５ ｍｅａｈパスの高温焼成した
マグネシアクリンカを静電塗装装置を用いて−１００ｋ
Ｖの高圧で負に帯電させて対抗電極の鋼板上に片面当た
シロ〜８９／ｍ”付着させ、直ちにコイル状に捲取った
。これを２０℃／Ｈｒで１２００℃までＮ２とＮ２の混
合ガス中で昇温し、次いでＮ２ガスに切り換えて１５時
間均熱した。冷却後、未反応の焼鈍分離剤をブラシ水洗
して、各コイルよりサンプルを採取し８００℃で２時間
、Ｎ２中で歪取焼鈍を施した後、グラス皮膜特性を評価
した。この結果を第２表に示す。第２表より本発明の特
許請求の範囲内で、グラス皮膜特性の向上が認められ、
そのバラツキも小さいことがわかる。
比較例３
実施例２において、グラス皮膜形成用焼鈍分離剤スラリ
ーに配合するＴｉＯ２を微粉砕して最大粒子径０．０７
μｍに分級したＴＩＯ□粉末を重量比で８ｗｔ％配合し
、その他の条件は、実施例２と全て同一とした。その結
果を第２表に示す。
ーに配合するＴｉＯ２を微粉砕して最大粒子径０．０７
μｍに分級したＴＩＯ□粉末を重量比で８ｗｔ％配合し
、その他の条件は、実施例２と全て同一とした。その結
果を第２表に示す。
比較例４
実施例２において、グラス皮膜形成用焼鈍分離剤スラリ
ーに配合するＴｉＯ□を、３２５ ｍａｓｈ標準ふるい
全通、２０μｍ以下の粒子９０ ｗＬ％の粒度を有する
ものとし、その配合量は対ＭｇＯ重量比で８ｗｔ％とし
て、その他の条件は全℃実施例２と同一とした。その結
果を第２表に示す。
ーに配合するＴｉＯ□を、３２５ ｍａｓｈ標準ふるい
全通、２０μｍ以下の粒子９０ ｗＬ％の粒度を有する
ものとし、その配合量は対ＭｇＯ重量比で８ｗｔ％とし
て、その他の条件は全℃実施例２と同一とした。その結
果を第２表に示す。
第２表
＊密着性：杷緑皮膜（リン酸塩＋クロム酸： ４ ｆｉ
／ ｍ”塗布８００℃×５０秒焼付）処理後剥離の生じ
ない最小曲げ直径 実施例３ 重量パーセントで００．０７％、 ８１３．２０’９６
ｔＭｎ ０．０７％、 Ｓ Ｏ，０２９％ 、 Ａｔ
Ｏ，０２５１、ＮＯ，００８％、ＣｕＯ，１０１を含有
する珪素鋼鋳片を１３００℃に加熱後、熱間圧延して２
．０ｆｉの熱延板とした。
／ ｍ”塗布８００℃×５０秒焼付）処理後剥離の生じ
ない最小曲げ直径 実施例３ 重量パーセントで００．０７％、 ８１３．２０’９６
ｔＭｎ ０．０７％、 Ｓ Ｏ，０２９％ 、 Ａｔ
Ｏ，０２５１、ＮＯ，００８％、ＣｕＯ，１０１を含有
する珪素鋼鋳片を１３００℃に加熱後、熱間圧延して２
．０ｆｉの熱延板とした。
この熱延板を１１００℃で５分間均熱した後酸洗し、次
いで冷間圧延により、０．２３ｍの板厚とした。
いで冷間圧延により、０．２３ｍの板厚とした。
この熱延板を８４０℃で４分間露点＋５５℃のＮ２とＮ
２の混合ガス気流中で脱炭した。
２の混合ガス気流中で脱炭した。
脱炭焼鈍後の鋼板両面に、最大粒子０．０４μｍ１固形
分としての濃度２０ ｗｔ％のコロイド状Ｔｉｅ２を、
ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤にＴｉＯ２として対Ｍ
ｇＯ重量比で５ ｗｔｌ配合し、適らに第３表に示す組
成となる様に添加物を加え、充分攪拌した後、塗布、乾
燥して、片面当たり、７〜８９７ｍ”の付着量とし、次
いで、これをコイル状に捲き取シ、２０℃／Ｈｒで１２
００′ｃ”ｔでＮ２とＮ２混合ガス中で昇温し、Ｎ２ガ
スに切シ換え、２０時間均熱した。
分としての濃度２０ ｗｔ％のコロイド状Ｔｉｅ２を、
ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤にＴｉＯ２として対Ｍ
ｇＯ重量比で５ ｗｔｌ配合し、適らに第３表に示す組
成となる様に添加物を加え、充分攪拌した後、塗布、乾
燥して、片面当たり、７〜８９７ｍ”の付着量とし、次
いで、これをコイル状に捲き取シ、２０℃／Ｈｒで１２
００′ｃ”ｔでＮ２とＮ２混合ガス中で昇温し、Ｎ２ガ
スに切シ換え、２０時間均熱した。
冷却後、未反応の焼鈍分離剤をゾラシ水洗除去し、サン
プル採取した。次いで、これを８００℃で２時間Ｎ２中
で歪取焼鈍し、磁気特性、グラス皮膜特性を評価した。
プル採取した。次いで、これを８００℃で２時間Ｎ２中
で歪取焼鈍し、磁気特性、グラス皮膜特性を評価した。
その結果を第３表に示す。
第３表
＊密脇性：絶縁皮膜（リンＶ塩＋クロム酸：４１／ｍ”
塗布８００℃×５０秒焼付）処理後、剥離の生じない最
小曲は 直径 （発明の効果） 以上詳述した如く、本発明によれば均一性、密着性の著
しく優れたグラス皮膜を有する鉄損特性の優れた高磁束
密度方向性電磁鋼板を製造しうるので産業上稗益すると
ころが極めて大である。
塗布８００℃×５０秒焼付）処理後、剥離の生じない最
小曲は 直径 （発明の効果） 以上詳述した如く、本発明によれば均一性、密着性の著
しく優れたグラス皮膜を有する鉄損特性の優れた高磁束
密度方向性電磁鋼板を製造しうるので産業上稗益すると
ころが極めて大である。
第１図はグラス皮膜の耐酸性と、ＭｇＯを主成分とする
焼鈍分離剤に配合するＴＩＯ□粒子径の関係を示す図、
第２図はグラス皮膜の密着性の分布を示す図である。 ０、θ５ θ’、７ ０．５ ５ １０ ４４
７（７ｎθ２瀧子径（、’１７ｎ）
焼鈍分離剤に配合するＴＩＯ□粒子径の関係を示す図、
第２図はグラス皮膜の密着性の分布を示す図である。 ０、θ５ θ’、７ ０．５ ５ １０ ４４
７（７ｎθ２瀧子径（、’１７ｎ）
Claims (2)
- （１）、最終板厚にまで圧延された珪素鋼素材に脱炭焼
鈍を施して鋼板表面にＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤
を塗布した後、仕上焼鈍を施してフォルステライトを主
体とするグラス皮膜を形成させる方法において、コロイ
ド状ＴｉＯ＿２を対ＭｇＯ重量比でＴｉＯ＿２として０
．１〜１０．０ｗｔ％含有する焼鈍分離剤を使用するこ
とを特徴とする方向性電磁鋼板のグラス皮膜形成方法。 - （２）最終板厚にまで圧延された珪素鋼素材に脱炭焼鈍
を施して鋼板表面にグラス皮膜形成用焼鈍分離剤として
ＭｇＯを生成分とする焼鈍分離剤スラリーを塗布、乾燥
し、その上に鋼板焼付防止用焼鈍分離剤粉体を静電的に
付着させた後、仕上焼鈍を施して、フォルステライトを
主体とするグラス皮膜を形成させる方法において、グラ
ス皮膜形成用焼鈍分離剤にコロイド状ＴｉＯ＿２を、対
ＭｇＯ重量比でＴｉＯ＿２として０．３〜２０．０ｗｔ
％配合することを特徴とする方向性電磁鋼板のグラス皮
膜形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20067184A JPS6179781A (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | 方向性電磁鋼板のグラス皮膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20067184A JPS6179781A (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | 方向性電磁鋼板のグラス皮膜形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6179781A true JPS6179781A (ja) | 1986-04-23 |
Family
ID=16428296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20067184A Pending JPS6179781A (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | 方向性電磁鋼板のグラス皮膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6179781A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0498457U (ja) * | 1991-01-23 | 1992-08-26 | ||
| US5318639A (en) * | 1991-10-01 | 1994-06-07 | Kawasaki Steel Corporation | Method of manufacturing grain oriented silicon steel sheets |
| WO2013051270A1 (ja) * | 2011-10-04 | 2013-04-11 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤 |
| WO2022158541A1 (ja) * | 2021-01-21 | 2022-07-28 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板の製造方法 |
-
1984
- 1984-09-27 JP JP20067184A patent/JPS6179781A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0498457U (ja) * | 1991-01-23 | 1992-08-26 | ||
| US5318639A (en) * | 1991-10-01 | 1994-06-07 | Kawasaki Steel Corporation | Method of manufacturing grain oriented silicon steel sheets |
| WO2013051270A1 (ja) * | 2011-10-04 | 2013-04-11 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤 |
| CN103857827A (zh) * | 2011-10-04 | 2014-06-11 | 杰富意钢铁株式会社 | 取向性电磁钢板用退火分离剂 |
| JPWO2013051270A1 (ja) * | 2011-10-04 | 2015-03-30 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤 |
| US9194016B2 (en) | 2011-10-04 | 2015-11-24 | Jfe Steel Corporation | Annealing separator for grain-oriented electromagnetic steel sheet |
| WO2022158541A1 (ja) * | 2021-01-21 | 2022-07-28 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板の製造方法 |
| JPWO2022158541A1 (ja) * | 2021-01-21 | 2022-07-28 | ||
| EP4245867A4 (en) * | 2021-01-21 | 2024-05-01 | Jfe Steel Corp | METHOD FOR PRODUCING A GRAIN-ORIENTED ELECTRICAL STEEL SHEET |
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