JPS6177628A - エーロゾル流の製法 - Google Patents
エーロゾル流の製法Info
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- JPS6177628A JPS6177628A JP60204589A JP20458985A JPS6177628A JP S6177628 A JPS6177628 A JP S6177628A JP 60204589 A JP60204589 A JP 60204589A JP 20458985 A JP20458985 A JP 20458985A JP S6177628 A JPS6177628 A JP S6177628A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
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- Medicinal Preparation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、特許請求の範囲第１項の前提部、即ちがスー
および／または蒸気混合物から無炎化学反応によりエー
ロゾルをつくり、エーロゾル流を大体においてエーロゾ
ル不含のガス−および／または蒸気流によって案内する
、エーロゾル流の製法に関する。
および／または蒸気混合物から無炎化学反応によりエー
ロゾルをつくり、エーロゾル流を大体においてエーロゾ
ル不含のガス−および／または蒸気流によって案内する
、エーロゾル流の製法に関する。
従来の技術
この種の方法は、特願昭５９−１４８７３２号明細書に
記載されている。該明細書には、石英ガラスから成る光
波導体用のいわゆる予備成形型の製造に殊に適している
方法が記載されている。このために、ガス状四塩化ケイ
素（８ｉＣ１４）および水蒸気（Ｈ２Ｏ）から反応器中
５００〜１０００℃で化学反応によシ、二酸化ケイ素（
ＳｉＯ□）含有エーロゾル流をつくる。エーロゾル流中
には棒状支持体が存在し、その上に５ｉ０２粒子を分離
させる。この場合には、異なる光学屈折率を有する層を
つくることが必要である。
記載されている。該明細書には、石英ガラスから成る光
波導体用のいわゆる予備成形型の製造に殊に適している
方法が記載されている。このために、ガス状四塩化ケイ
素（８ｉＣ１４）および水蒸気（Ｈ２Ｏ）から反応器中
５００〜１０００℃で化学反応によシ、二酸化ケイ素（
ＳｉＯ□）含有エーロゾル流をつくる。エーロゾル流中
には棒状支持体が存在し、その上に５ｉ０２粒子を分離
させる。この場合には、異なる光学屈折率を有する層を
つくることが必要である。
これは８１０２粒子のｒ−ピングにより行なわれる。
８１０８粒子をつくるのは、反応器中５００〜１０００
℃の温度範囲で式： ％式％（１） による加水分解反応によシ行なわれる。このようにして
製造された８１０２粒子のｒ−ピングは、挙げられた反
応条件において石英マ） ＩＪラックス中組み込み可能
なドーぎング物質を用いた場合に可能であるにすぎない
。この種のドーピング物質は、九とえば酸化デルマニウ
ム（Ｇｅｍ５ ）であって、８ｉ０２の屈折率を高める
。このＩＦ−２ングは、式（１）と同様に進行する、式
：ＧｅＣｌ４ ＋ ２Ｈ２０−＋ ＧｅＯ２＋ ４ＨＣ
１（２）による加水分解反応を用いて行なわれる。
℃の温度範囲で式： ％式％（１） による加水分解反応によシ行なわれる。このようにして
製造された８１０２粒子のｒ−ピングは、挙げられた反
応条件において石英マ） ＩＪラックス中組み込み可能
なドーぎング物質を用いた場合に可能であるにすぎない
。この種のドーピング物質は、九とえば酸化デルマニウ
ム（Ｇｅｍ５ ）であって、８ｉ０２の屈折率を高める
。このＩＦ−２ングは、式（１）と同様に進行する、式
：ＧｅＣｌ４ ＋ ２Ｈ２０−＋ ＧｅＯ２＋ ４ＨＣ
１（２）による加水分解反応を用いて行なわれる。
しかし、光波導体の若干の光学屈折率プロフィルのため
には、Ｐ−ピングによｆｉ ５ｉ０２の屈折率を低下す
ることが必要である。
には、Ｐ−ピングによｆｉ ５ｉ０２の屈折率を低下す
ることが必要である。
従って本発明の課題は、上記種類の方法を、５ｉ０２含
有エーロチル流においてその中に含有されている８１０
２粒子において光学的屈折率の低下が生じるようなげ一
ピングが可能になるように発展させることである。
有エーロチル流においてその中に含有されている８１０
２粒子において光学的屈折率の低下が生じるようなげ一
ピングが可能になるように発展させることである。
問題点を解決するための手段
この課題は、特許請求の範囲第１項の特徴部に記載され
た特徴、即ち反応器中で蒸気状四塩化ケイ素と水蒸気と
の反応によシ二酸化ケイ素含有エーロゾルをつくり、二
酸化ケイ素の光学的屈折率の低下を、ガスおよび／−ｊ
！たけ蒸気混合物に蒸気状のフッ未含有ハロｒン化炭化
水素を添加することによって生じるフッ素ドーピングに
よって可能にすることによって解決される。
た特徴、即ち反応器中で蒸気状四塩化ケイ素と水蒸気と
の反応によシ二酸化ケイ素含有エーロゾルをつくり、二
酸化ケイ素の光学的屈折率の低下を、ガスおよび／−ｊ
！たけ蒸気混合物に蒸気状のフッ未含有ハロｒン化炭化
水素を添加することによって生じるフッ素ドーピングに
よって可能にすることによって解決される。
有利な実施態様は、特許請求の範囲第２項以降から認め
ら−れる。
ら−れる。
本発明の第一の利点は、ＣＦ２Ｃｌ２を使用する際に生
じるフッ素が８ｉ０２粒子中へ組み入れられることであ
る。不確実にしか制御できない表面吸着が避けられる。
じるフッ素が８ｉ０２粒子中へ組み入れられることであ
る。不確実にしか制御できない表面吸着が避けられる。
第二の利点は、二酸化ケイ素中で高いフッ素濃度が達成
されるので、光学屈折率の強い低下が可能になることで
ある。
されるので、光学屈折率の強い低下が可能になることで
ある。
次に本発明を実施例につき詳述する。
実施例
一連の試験で、式（１）により８１０２粒子を製造する
。このＳｉｎ、粒子は約０，３μｍの直経を有し、専問
文献ではガラスすすと記載されるかまたは英語では”す
す”と呼ばれる。その際、蒸気状の四塩化ケイ素（８ｉ
Ｃ１４）に、種々のフッ素含有ガスおよび／または蒸気
を特定の割合で混和し、生じるガラスすす（すす）のフ
ッ素含量を調べる。結果は、次表に示されている：使用
されるガスおよび／または蒸気のうちたんにＣＦ２Ｃｌ
２だけが所望の大きさのドーぎング効果を示す。ＣＦ４
および８Ｆ、は、このガスが７００℃の温度でまだ著し
くは分解しないため、無視できるフッ素ドーピングしか
生じない。また重要な結果は、フッ素含量が（ＣＦ２Ｃ
ｌ２によるドーぎフグ後および焼結工程後）大部分維持
されることである。これは、実際に５ｉｏ２粒子中への
フッ素の組み入れが行なわれ、表面吸着も存在するだけ
ではないことを示唆するものと解される。
。このＳｉｎ、粒子は約０，３μｍの直経を有し、専問
文献ではガラスすすと記載されるかまたは英語では”す
す”と呼ばれる。その際、蒸気状の四塩化ケイ素（８ｉ
Ｃ１４）に、種々のフッ素含有ガスおよび／または蒸気
を特定の割合で混和し、生じるガラスすす（すす）のフ
ッ素含量を調べる。結果は、次表に示されている：使用
されるガスおよび／または蒸気のうちたんにＣＦ２Ｃｌ
２だけが所望の大きさのドーぎング効果を示す。ＣＦ４
および８Ｆ、は、このガスが７００℃の温度でまだ著し
くは分解しないため、無視できるフッ素ドーピングしか
生じない。また重要な結果は、フッ素含量が（ＣＦ２Ｃ
ｌ２によるドーぎフグ後および焼結工程後）大部分維持
されることである。これは、実際に５ｉｏ２粒子中への
フッ素の組み入れが行なわれ、表面吸着も存在するだけ
ではないことを示唆するものと解される。
１．０モル％〜１．８モルチの範囲での記載されたフッ
素ドーぎングで、５ｉ０２の場合に０．３５〜０．５７
％の光学屈折率の低下が可能である。
素ドーぎングで、５ｉ０２の場合に０．３５〜０．５７
％の光学屈折率の低下が可能である。
４ 追加の関係
原発明たる特願昭５９−１４８７３２号明細書の第１番
目の発明は、 ガス−および／または蒸気混合物から無炎化学反応によ
りエーロゾルをつくる、エーロゾル流の製法に関するも
ので、エーロゾル流を大体においてエーロゾル不含のガ
ス−および／または蒸気流によって案内する事をその主
要部とするものであるが、この発明も反応器中で蒸気状
四塩化ケイ素と水蒸気との反応により二酸化ケイ素含有
エーロゾルをつくり、がスおよび／または蒸気混合物に
少なくとも１種の蒸気状フッ未含有ハロｒン化炭化水素
の添加する工程をその主要部とし、原特許発明の目的で
あるエーロゾル流の製造をその目的とする方法の発明で
あって、特許法第６１条第１号に該当するものである。
目の発明は、 ガス−および／または蒸気混合物から無炎化学反応によ
りエーロゾルをつくる、エーロゾル流の製法に関するも
ので、エーロゾル流を大体においてエーロゾル不含のガ
ス−および／または蒸気流によって案内する事をその主
要部とするものであるが、この発明も反応器中で蒸気状
四塩化ケイ素と水蒸気との反応により二酸化ケイ素含有
エーロゾルをつくり、がスおよび／または蒸気混合物に
少なくとも１種の蒸気状フッ未含有ハロｒン化炭化水素
の添加する工程をその主要部とし、原特許発明の目的で
あるエーロゾル流の製造をその目的とする方法の発明で
あって、特許法第６１条第１号に該当するものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ガス−および／または蒸気混合物から無炎化学反応
によりエーロゾルをつくり、エーロゾル流を大体におい
てエーロゾル不含のガス−および／または蒸気流によつ
て案内する、エーロゾル流の製法において、反応器中で
蒸気状四塩化ケイ素と水蒸気との反応により二酸化ケイ
素含有エーロゾルをつくり、二酸化ケイ素の光学的屈折
率の低下を、ガス−および／または蒸気混合物に少なく
とも１種の蒸気状フッ素含有ハロゲン化炭化水素を添加
することにより生成するフッ素ドーピングにより可能に
することを特徴とする、エーロゾル流の製法。 ２、ハロゲン化炭化水素が、主に化学式： ＣＦ＿２Ｃｌ＿２により表わされる、特許請求の範囲第
１項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19843434674 DE3434674A1 (de) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes |
| DE3434674.0 | 1984-09-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6177628A true JPS6177628A (ja) | 1986-04-21 |
Family
ID=6245971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60204589A Pending JPS6177628A (ja) | 1984-09-21 | 1985-09-18 | エーロゾル流の製法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4610892A (ja) |
| EP (1) | EP0175068B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6177628A (ja) |
| AT (1) | ATE49188T1 (ja) |
| CA (1) | CA1241877A (ja) |
| DE (2) | DE3434674A1 (ja) |
| FI (1) | FI79084C (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3118822B2 (ja) * | 1990-09-07 | 2000-12-18 | 住友電気工業株式会社 | ガラス物品の製造方法 |
| DE19725955C1 (de) * | 1997-06-19 | 1999-01-21 | Heraeus Quarzglas | Verfahren zur Herstellung eines Quarzglasrohlings und dafür geeignete Vorrichtung |
| EP1010672A1 (en) | 1998-12-17 | 2000-06-21 | PIRELLI CAVI E SISTEMI S.p.A. | Method and apparatus for forming an optical fiber preform by combustionless hydrolysis |
| US6723435B1 (en) * | 2001-08-28 | 2004-04-20 | Nanogram Corporation | Optical fiber preforms |
| WO2007122630A2 (en) * | 2006-04-24 | 2007-11-01 | Sterlite Optical Technologies Ltd. | Single mode optical fiber having reduced macrobending and attenuation loss and method for manufacturing the same |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4083708A (en) * | 1976-09-15 | 1978-04-11 | Exxon Research & Engineering Co. | Forming a glass on a substrate |
| CA1080562A (en) * | 1977-02-10 | 1980-07-01 | Frederick D. King | Method of and apparatus for manufacturing an optical fibre with plasma activated deposition in a tube |
| JPS5927728B2 (ja) * | 1977-08-11 | 1984-07-07 | 日本電信電話株式会社 | 煤状ガラスロッドの製造方法 |
| US4233045A (en) * | 1978-11-27 | 1980-11-11 | Corning Glass Works | Apparatus and method for making optical filament preform |
| US4378987A (en) * | 1981-10-15 | 1983-04-05 | Corning Glass Works | Low temperature method for making optical fibers |
| DE3203349A1 (de) * | 1981-11-28 | 1983-06-09 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer optischen glasfaser mit geringem oh -ionengehalt |
| DE3206177A1 (de) * | 1982-02-20 | 1983-08-25 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung einer vorform, aus der optische fasern ziehbar sind |
| US4440558A (en) * | 1982-06-14 | 1984-04-03 | International Telephone And Telegraph Corporation | Fabrication of optical preforms by axial chemical vapor deposition |
| DE3304721A1 (de) * | 1983-02-11 | 1984-08-16 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung einer vorform fuer lichtwellenleiter |
| DE3326043A1 (de) * | 1983-07-20 | 1985-02-07 | Licentia Gmbh | Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes und dessen verwendung |
| WO1985002837A1 (en) * | 1983-12-22 | 1985-07-04 | American Telephone & Telegraph Company | Fabrication of high-silica glass article |
-
1984
- 1984-09-21 DE DE19843434674 patent/DE3434674A1/de not_active Ceased
-
1985
- 1985-06-25 DE DE8585107856T patent/DE3575123D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1985-06-25 AT AT85107856T patent/ATE49188T1/de not_active IP Right Cessation
- 1985-06-25 EP EP85107856A patent/EP0175068B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-09-18 JP JP60204589A patent/JPS6177628A/ja active Pending
- 1985-09-20 US US06/778,081 patent/US4610892A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-09-20 CA CA000491214A patent/CA1241877A/en not_active Expired
- 1985-09-20 FI FI853619A patent/FI79084C/fi not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0175068A2 (de) | 1986-03-26 |
| EP0175068B1 (de) | 1990-01-03 |
| EP0175068A3 (en) | 1987-09-02 |
| FI79084B (fi) | 1989-07-31 |
| FI79084C (fi) | 1989-11-10 |
| FI853619L (fi) | 1986-03-22 |
| DE3434674A1 (de) | 1986-04-03 |
| ATE49188T1 (de) | 1990-01-15 |
| CA1241877A (en) | 1988-09-13 |
| DE3575123D1 (de) | 1990-02-08 |
| US4610892A (en) | 1986-09-09 |
| FI853619A0 (fi) | 1985-09-20 |
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