FI79084C - Foerfarande foer framstaellning av en riktad aerosolstroem. - Google Patents

Foerfarande foer framstaellning av en riktad aerosolstroem. Download PDF

Info

Publication number
FI79084C
FI79084C FI853619A FI853619A FI79084C FI 79084 C FI79084 C FI 79084C FI 853619 A FI853619 A FI 853619A FI 853619 A FI853619 A FI 853619A FI 79084 C FI79084 C FI 79084C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
aerosol
stream
fluorine
particles
aerosol stream
Prior art date
Application number
FI853619A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI79084B (fi
FI853619L (fi
FI853619A0 (fi
Inventor
Dietrich Eisbrenner
Hans Merk
Original Assignee
Licentia Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Licentia Gmbh filed Critical Licentia Gmbh
Publication of FI853619A0 publication Critical patent/FI853619A0/fi
Publication of FI853619L publication Critical patent/FI853619L/fi
Publication of FI79084B publication Critical patent/FI79084B/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI79084C publication Critical patent/FI79084C/fi

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413Reactant delivery systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/08Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
    • C03B2201/12Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Colloid Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
  • Medicines Containing Material From Animals Or Micro-Organisms (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
  • Medicinal Preparation (AREA)

Description

1 79084
Menetelmä suunnatun aerosolivirtauksen tuottamiseksi
Keksinnön kohteena on menetelmä aerosolivirtauksen aikaansaamiseksi patenttivaatimuksen 1 johdanto-osan mukaisesti.
Tällainen menetelmä on tunnettu FI-patenttihakemuksesta 84-2910. Siinä on esitetty menetelmä, joka soveltuu etenkin valoaaltojoh-dinten niin kutsuttujen esimuotojen valmistamiseksi kvartsila-sista. Tätä varten tuotetaan piidioksidi-(Si02)pitoinen aerosoli-virtaus saattamalla kaasumainen piitetrakloridi (SiCl4) ja vesihöyry reagoimaan kemiallisesti reaktorissa 500-1000°C:ssa. Aerosoli virtauksessa on sauvamainen kantokappale, jonka päälle SiC>2-hiukkaset eroavat. Tällöin on tarpeen tuottaa kerroksia, joissa on erilaiset optiset taitekertoimet. Tämä tapahtuu seostamalla Si02-hiukkasia.
SiO^-hiukkasten tuottaminen tapahtuu reaktorissa 500-1000°C:n lämpötila-alueella kaavan
SiCl4 + 2H20 _> Si02 + 4 HC1 (1) mukaisen hydrolyysireaktion avulla.
Näin valmistettujen FiO^-hiukkasten seostaminen on mahdollista ainoastaan seostusaineilla, joita voidaan asentaa mainituissa reaktio-olosuhteissa kvartsimatriisiin. Tällainen seostusaine on esimerkiksi germaniumoksidi (Ge02), joka lisää SiC>2:n taite-kerrointa. Tämä seostaminen tapahtuu kaavan
GeCl4 + 2H20 _> Ge02 -f 4 HC1 (2) mukaisen hydrolyysireaktion avulla, joka tapahtuu kaavan (1) mukaisesti.
Valoaaltojohtimen joidenkin optisten taite.lukuprofiilien kohdalla on kuitenkin tarpeen alentaa SiC>2:n taitekerrointa seostamalla.
Keksinnön tehtävänä on tästä syystä kehittää edelleen alussa mainitun tyyppistä menetelmää sikäli, että SiO?-pitoisessa 2 79084 aerosolivirtaulcsessa on mahdollista siihen sisältyvien SiC^-hiukkasten seostaminen, joka saa aikaan SiO^rssa optisen taite-kertoimen pienenemisen.
Tämä tehtävä ratkaistaan keksinnön mukaisesti patenttivaatimuksen 1 tunnusmerkkiosassa esitettyjen tunnusmerkkien avulla. Eräitä tarkoituksenmukaisia menetelmiä on esitetty epäitsenäisissä vaatimuksissa.
Keksinnön eräs ensimmäinen etu on se, että käytettäessä CF2Cl2*ia muodostuva fluori kiinnitetään SiC^-hiukkasiin. Näin vältetään epävarmasti hallittavissa oleva pinta-adsorptio.
Eräs toinen etu on siinä, että saadaan aikaan korkea fluorikon-sentraatio piidioksidissa, niin että optisen taitekertoimen voimakas pienentäminen on mahdollista.
Keksintöä selitetään seuraavassa lähemmin erään sovellutusesimerkin avulla :
Koesarjassa valmistetaan kaavan (1) mukaisesti SiC^-hiukkasia. Näiden SiO^-hiukkasten läpimitta on suunnilleen 0,3 ^um ja niitä nimitetään ammattikirjallisuudessa lasinoeksi tai englantilaisella nimityksellä "soot". Tällöin sekoitetaan höyrymäiseen piitetra-kloridiin (SiCl^) erilaisia fluoripitoisia kaasuja ja/tai höyryjä määrätyissä suhteissa ja muodostunut lasinoki ("soot") tutkitaan sen fluoripitoisuuden suhteen. Tulokset on esitetty seuraavassa taulukossa: 3 79084 F'luoriyhdi ste Lähtökaasun Näytteen Näytteen F/Si-suhde F/Si-suhde laatu _ mooli-%:eissa mooli-%:eissa _ CF^C^ 8,2 1,8 soot CF„C1 8,2 1,0 soot sintrattu 2 2 (150O°C) CF_C10 8,2 1,0 soot sintrattu 2 2 <1580°C) CF4 19,6 0,03 soot CF,- 65,7 0,03 soot b Käytetyistä kaasuista ja/tai höyryistä ainoastaan CF2C.l2:lla on halutun suuruinen seostusvaikutus. CF ja SF, tuottavat mität-tömän pienen fluoriseostuksen, mahdollisesti siksi, koska nämä kaasut eivät hajoa vielä mainittavasti 700°C:n lämpötilassa.
Tärkeä tulos on kuitenkin, että fluoripitoisuus säilyy suurimmaksi osaksi (CF2Cl2:lla suoritetun seostamisen jälkeen ja sintraus-tapahtuman jälkeen). Tätä voidaan pitää viitteenä siitä, että todella on tapahtunut fluorin kiinnittyminen Si02-hiukkasiin eikä ainoastaan esiinny pinta-adsorptiota. Esitetyllä fluori-seostuksella 1,0 mooli-%:n - 1,8 mooli-%:n alueella on mahdollista pienentää Si02in optista taitekerrointa 0,35-0,57 %.

Claims (3)

4 79084
1. Menetelmä suunnatun aeroeo 1ivirtauksen tuottamiseksi kaasumaisista ja/tai höyrymäisistä reaktiokomponenteista viemällä nämä reaktiokomponentit, jotka sisältävät piitetraklo-ridihöyryä ja vesihöyryä, reaktiokohtaan reaktlokammiossa, antamalla reaktiokomponenttien reagoida reaktiokohdasea liekittömällä kemiallisella reaktiolla kiinteiden pudioksidi-hiukkasten muodostaman aerosolikoostumuksen tuottamiseksi ja johtamalla aeroso1ikoostumus virtaamaan aerosolινιrtana reak-tiokohdasta ja ympäröimällä aerosolινιrta välittömästi liikkuvalla oleellisesti aerosolittomalla kaasu- ja/tai höyryvir-ralla suunnatun ja aerosolittoman virran ympäröimän aerosoli-virran muodostamiseksi, tunnettu siitä, että reaktiokohtaan vietäviin kaasumaisiin ja/tai höyrymäisiin reaktiokomponent-teihin sisällytetään ainakin yksi höyrymämen fluoripitoinen hiilivety, jolloin aeroso1ikoostumuksen kiinteät piidioksidi-hiukkaset muodostuvat fluorilla seostetusta piidioksidista, jonka optinen taitekerroin on pienentynyt, ja että fluoria sisältävänä hiilivetynä on CF2CI2·
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että liekitön kemiallinen reaktio tapahtuu lämpötila-o o alueella 500 C - 1000 C.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että aeroso1ikoostumuksen kiinteät p1 id1oksidihlukka-set sisältävät 1,0-1,8 mooliprosenttia fluoria suhteessa piihin . 1 Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että aerosolikoostumuksen piidioksidihiukkaset sisältävät riittävän määrän fluoria pienentämään sen optista tai-tekerrointa 0,35-0,57 %.
FI853619A 1984-09-21 1985-09-20 Foerfarande foer framstaellning av en riktad aerosolstroem. FI79084C (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19843434674 DE3434674A1 (de) 1984-09-21 1984-09-21 Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes
DE3434674 1984-09-21

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI853619A0 FI853619A0 (fi) 1985-09-20
FI853619L FI853619L (fi) 1986-03-22
FI79084B FI79084B (fi) 1989-07-31
FI79084C true FI79084C (fi) 1989-11-10

Family

ID=6245971

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI853619A FI79084C (fi) 1984-09-21 1985-09-20 Foerfarande foer framstaellning av en riktad aerosolstroem.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4610892A (fi)
EP (1) EP0175068B1 (fi)
JP (1) JPS6177628A (fi)
AT (1) ATE49188T1 (fi)
CA (1) CA1241877A (fi)
DE (2) DE3434674A1 (fi)
FI (1) FI79084C (fi)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3118822B2 (ja) * 1990-09-07 2000-12-18 住友電気工業株式会社 ガラス物品の製造方法
DE19725955C1 (de) * 1997-06-19 1999-01-21 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung eines Quarzglasrohlings und dafür geeignete Vorrichtung
EP1010672A1 (en) 1998-12-17 2000-06-21 PIRELLI CAVI E SISTEMI S.p.A. Method and apparatus for forming an optical fiber preform by combustionless hydrolysis
US6723435B1 (en) * 2001-08-28 2004-04-20 Nanogram Corporation Optical fiber preforms
WO2007122630A2 (en) * 2006-04-24 2007-11-01 Sterlite Optical Technologies Ltd. Single mode optical fiber having reduced macrobending and attenuation loss and method for manufacturing the same

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4083708A (en) * 1976-09-15 1978-04-11 Exxon Research & Engineering Co. Forming a glass on a substrate
CA1080562A (en) * 1977-02-10 1980-07-01 Frederick D. King Method of and apparatus for manufacturing an optical fibre with plasma activated deposition in a tube
JPS5927728B2 (ja) * 1977-08-11 1984-07-07 日本電信電話株式会社 煤状ガラスロッドの製造方法
US4233045A (en) * 1978-11-27 1980-11-11 Corning Glass Works Apparatus and method for making optical filament preform
US4378987A (en) * 1981-10-15 1983-04-05 Corning Glass Works Low temperature method for making optical fibers
DE3203349A1 (de) * 1981-11-28 1983-06-09 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer optischen glasfaser mit geringem oh -ionengehalt
DE3206177A1 (de) * 1982-02-20 1983-08-25 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren zur herstellung einer vorform, aus der optische fasern ziehbar sind
US4440558A (en) * 1982-06-14 1984-04-03 International Telephone And Telegraph Corporation Fabrication of optical preforms by axial chemical vapor deposition
DE3304721A1 (de) * 1983-02-11 1984-08-16 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren zur herstellung einer vorform fuer lichtwellenleiter
DE3326043A1 (de) * 1983-07-20 1985-02-07 Licentia Gmbh Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes und dessen verwendung
WO1985002837A1 (en) * 1983-12-22 1985-07-04 American Telephone & Telegraph Company Fabrication of high-silica glass article

Also Published As

Publication number Publication date
EP0175068A2 (de) 1986-03-26
EP0175068B1 (de) 1990-01-03
EP0175068A3 (en) 1987-09-02
FI79084B (fi) 1989-07-31
JPS6177628A (ja) 1986-04-21
FI853619L (fi) 1986-03-22
DE3434674A1 (de) 1986-04-03
ATE49188T1 (de) 1990-01-15
CA1241877A (en) 1988-09-13
DE3575123D1 (de) 1990-02-08
US4610892A (en) 1986-09-09
FI853619A0 (fi) 1985-09-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU655832B2 (en) Method of making fused silica
US4650511A (en) Method for the preparation of a dehydrated quartz glass material for light transmission
US5703191A (en) Method for purifying polyalkylsiloxanes and the resulting products
US4690504A (en) Quartz glass-made optical fibers and a method for the preparation thereof
US5879649A (en) Method for purifying polyalkylsiloxanes and the resulting products
US6376010B1 (en) Germanium doped silica forming feedstock and method
US6732551B2 (en) Method and feedstock for making silica
EP0177040B1 (en) Method for producing glass preform for optical fiber
FI79084C (fi) Foerfarande foer framstaellning av en riktad aerosolstroem.
US4564378A (en) Method for producing a preform for light waveguides
US6698247B2 (en) Method and feedstock for making silica by flame combustion
US20020108404A1 (en) Drying agent and improved process for drying soot preforms
EP0135126B1 (en) Preparation of glass for optical fibers
RU2639560C1 (ru) MCVD способ изготовления одномодовых световодов с сердцевиной из чистого кварцевого стекла
JPS6289B2 (fi)
JPS61261228A (ja) 光フアイバ用フツ素添加プリフオ−ムの製造方法
US5641333A (en) Increasing the retention of Ge02 during production of glass articles
Andreev et al. Investigation into doping of silica glasses with fluorine by modified chemical vapor deposition
Bubnov et al. Effect of fluorine doping on the optical loss in MCVD fibers based on heavily doped germanosilicate glass
KR850001877B1 (ko) 광전송용 유리소재의 제조 방법
JPH0425212B2 (fi)
AU698054B2 (en) Increasing the retention of GeO2 during production of glass articles
JPS6077138A (ja) 光フアイバ用ド−プト石英の合成方法
JPH03183631A (ja) 光ファイバ用ガラス母材の製造方法
WO1997009279A9 (en) INCREASING THE RETENTION OF GeO2 DURING PRODUCTION OF GLASS ARTICLES

Legal Events

Date Code Title Description
MM Patent lapsed

Owner name: LICENTIA PATENT- VERWALTUNGS-G.M.B.H.