FI79084C - Foerfarande foer framstaellning av en riktad aerosolstroem. - Google Patents
Foerfarande foer framstaellning av en riktad aerosolstroem. Download PDFInfo
- Publication number
- FI79084C FI79084C FI853619A FI853619A FI79084C FI 79084 C FI79084 C FI 79084C FI 853619 A FI853619 A FI 853619A FI 853619 A FI853619 A FI 853619A FI 79084 C FI79084 C FI 79084C
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- aerosol
- stream
- fluorine
- particles
- aerosol stream
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Colloid Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Medicines Containing Material From Animals Or Micro-Organisms (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Medicinal Preparation (AREA)
Description
1 79084
Menetelmä suunnatun aerosolivirtauksen tuottamiseksi
Keksinnön kohteena on menetelmä aerosolivirtauksen aikaansaamiseksi patenttivaatimuksen 1 johdanto-osan mukaisesti.
Tällainen menetelmä on tunnettu FI-patenttihakemuksesta 84-2910. Siinä on esitetty menetelmä, joka soveltuu etenkin valoaaltojoh-dinten niin kutsuttujen esimuotojen valmistamiseksi kvartsila-sista. Tätä varten tuotetaan piidioksidi-(Si02)pitoinen aerosoli-virtaus saattamalla kaasumainen piitetrakloridi (SiCl4) ja vesihöyry reagoimaan kemiallisesti reaktorissa 500-1000°C:ssa. Aerosoli virtauksessa on sauvamainen kantokappale, jonka päälle SiC>2-hiukkaset eroavat. Tällöin on tarpeen tuottaa kerroksia, joissa on erilaiset optiset taitekertoimet. Tämä tapahtuu seostamalla Si02-hiukkasia.
SiO^-hiukkasten tuottaminen tapahtuu reaktorissa 500-1000°C:n lämpötila-alueella kaavan
SiCl4 + 2H20 _> Si02 + 4 HC1 (1) mukaisen hydrolyysireaktion avulla.
Näin valmistettujen FiO^-hiukkasten seostaminen on mahdollista ainoastaan seostusaineilla, joita voidaan asentaa mainituissa reaktio-olosuhteissa kvartsimatriisiin. Tällainen seostusaine on esimerkiksi germaniumoksidi (Ge02), joka lisää SiC>2:n taite-kerrointa. Tämä seostaminen tapahtuu kaavan
GeCl4 + 2H20 _> Ge02 -f 4 HC1 (2) mukaisen hydrolyysireaktion avulla, joka tapahtuu kaavan (1) mukaisesti.
Valoaaltojohtimen joidenkin optisten taite.lukuprofiilien kohdalla on kuitenkin tarpeen alentaa SiC>2:n taitekerrointa seostamalla.
Keksinnön tehtävänä on tästä syystä kehittää edelleen alussa mainitun tyyppistä menetelmää sikäli, että SiO?-pitoisessa 2 79084 aerosolivirtaulcsessa on mahdollista siihen sisältyvien SiC^-hiukkasten seostaminen, joka saa aikaan SiO^rssa optisen taite-kertoimen pienenemisen.
Tämä tehtävä ratkaistaan keksinnön mukaisesti patenttivaatimuksen 1 tunnusmerkkiosassa esitettyjen tunnusmerkkien avulla. Eräitä tarkoituksenmukaisia menetelmiä on esitetty epäitsenäisissä vaatimuksissa.
Keksinnön eräs ensimmäinen etu on se, että käytettäessä CF2Cl2*ia muodostuva fluori kiinnitetään SiC^-hiukkasiin. Näin vältetään epävarmasti hallittavissa oleva pinta-adsorptio.
Eräs toinen etu on siinä, että saadaan aikaan korkea fluorikon-sentraatio piidioksidissa, niin että optisen taitekertoimen voimakas pienentäminen on mahdollista.
Keksintöä selitetään seuraavassa lähemmin erään sovellutusesimerkin avulla :
Koesarjassa valmistetaan kaavan (1) mukaisesti SiC^-hiukkasia. Näiden SiO^-hiukkasten läpimitta on suunnilleen 0,3 ^um ja niitä nimitetään ammattikirjallisuudessa lasinoeksi tai englantilaisella nimityksellä "soot". Tällöin sekoitetaan höyrymäiseen piitetra-kloridiin (SiCl^) erilaisia fluoripitoisia kaasuja ja/tai höyryjä määrätyissä suhteissa ja muodostunut lasinoki ("soot") tutkitaan sen fluoripitoisuuden suhteen. Tulokset on esitetty seuraavassa taulukossa: 3 79084 F'luoriyhdi ste Lähtökaasun Näytteen Näytteen F/Si-suhde F/Si-suhde laatu _ mooli-%:eissa mooli-%:eissa _ CF^C^ 8,2 1,8 soot CF„C1 8,2 1,0 soot sintrattu 2 2 (150O°C) CF_C10 8,2 1,0 soot sintrattu 2 2 <1580°C) CF4 19,6 0,03 soot CF,- 65,7 0,03 soot b Käytetyistä kaasuista ja/tai höyryistä ainoastaan CF2C.l2:lla on halutun suuruinen seostusvaikutus. CF ja SF, tuottavat mität-tömän pienen fluoriseostuksen, mahdollisesti siksi, koska nämä kaasut eivät hajoa vielä mainittavasti 700°C:n lämpötilassa.
Tärkeä tulos on kuitenkin, että fluoripitoisuus säilyy suurimmaksi osaksi (CF2Cl2:lla suoritetun seostamisen jälkeen ja sintraus-tapahtuman jälkeen). Tätä voidaan pitää viitteenä siitä, että todella on tapahtunut fluorin kiinnittyminen Si02-hiukkasiin eikä ainoastaan esiinny pinta-adsorptiota. Esitetyllä fluori-seostuksella 1,0 mooli-%:n - 1,8 mooli-%:n alueella on mahdollista pienentää Si02in optista taitekerrointa 0,35-0,57 %.
Claims (3)
1. Menetelmä suunnatun aeroeo 1ivirtauksen tuottamiseksi kaasumaisista ja/tai höyrymäisistä reaktiokomponenteista viemällä nämä reaktiokomponentit, jotka sisältävät piitetraklo-ridihöyryä ja vesihöyryä, reaktiokohtaan reaktlokammiossa, antamalla reaktiokomponenttien reagoida reaktiokohdasea liekittömällä kemiallisella reaktiolla kiinteiden pudioksidi-hiukkasten muodostaman aerosolikoostumuksen tuottamiseksi ja johtamalla aeroso1ikoostumus virtaamaan aerosolινιrtana reak-tiokohdasta ja ympäröimällä aerosolινιrta välittömästi liikkuvalla oleellisesti aerosolittomalla kaasu- ja/tai höyryvir-ralla suunnatun ja aerosolittoman virran ympäröimän aerosoli-virran muodostamiseksi, tunnettu siitä, että reaktiokohtaan vietäviin kaasumaisiin ja/tai höyrymäisiin reaktiokomponent-teihin sisällytetään ainakin yksi höyrymämen fluoripitoinen hiilivety, jolloin aeroso1ikoostumuksen kiinteät piidioksidi-hiukkaset muodostuvat fluorilla seostetusta piidioksidista, jonka optinen taitekerroin on pienentynyt, ja että fluoria sisältävänä hiilivetynä on CF2CI2·
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että liekitön kemiallinen reaktio tapahtuu lämpötila-o o alueella 500 C - 1000 C.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että aeroso1ikoostumuksen kiinteät p1 id1oksidihlukka-set sisältävät 1,0-1,8 mooliprosenttia fluoria suhteessa piihin . 1 Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että aerosolikoostumuksen piidioksidihiukkaset sisältävät riittävän määrän fluoria pienentämään sen optista tai-tekerrointa 0,35-0,57 %.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19843434674 DE3434674A1 (de) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes |
DE3434674 | 1984-09-21 |
Publications (4)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI853619A0 FI853619A0 (fi) | 1985-09-20 |
FI853619L FI853619L (fi) | 1986-03-22 |
FI79084B FI79084B (fi) | 1989-07-31 |
FI79084C true FI79084C (fi) | 1989-11-10 |
Family
ID=6245971
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI853619A FI79084C (fi) | 1984-09-21 | 1985-09-20 | Foerfarande foer framstaellning av en riktad aerosolstroem. |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4610892A (fi) |
EP (1) | EP0175068B1 (fi) |
JP (1) | JPS6177628A (fi) |
AT (1) | ATE49188T1 (fi) |
CA (1) | CA1241877A (fi) |
DE (2) | DE3434674A1 (fi) |
FI (1) | FI79084C (fi) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3118822B2 (ja) * | 1990-09-07 | 2000-12-18 | 住友電気工業株式会社 | ガラス物品の製造方法 |
DE19725955C1 (de) * | 1997-06-19 | 1999-01-21 | Heraeus Quarzglas | Verfahren zur Herstellung eines Quarzglasrohlings und dafür geeignete Vorrichtung |
EP1010672A1 (en) | 1998-12-17 | 2000-06-21 | PIRELLI CAVI E SISTEMI S.p.A. | Method and apparatus for forming an optical fiber preform by combustionless hydrolysis |
US6723435B1 (en) * | 2001-08-28 | 2004-04-20 | Nanogram Corporation | Optical fiber preforms |
WO2007122630A2 (en) * | 2006-04-24 | 2007-11-01 | Sterlite Optical Technologies Ltd. | Single mode optical fiber having reduced macrobending and attenuation loss and method for manufacturing the same |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4083708A (en) * | 1976-09-15 | 1978-04-11 | Exxon Research & Engineering Co. | Forming a glass on a substrate |
CA1080562A (en) * | 1977-02-10 | 1980-07-01 | Frederick D. King | Method of and apparatus for manufacturing an optical fibre with plasma activated deposition in a tube |
JPS5927728B2 (ja) * | 1977-08-11 | 1984-07-07 | 日本電信電話株式会社 | 煤状ガラスロッドの製造方法 |
US4233045A (en) * | 1978-11-27 | 1980-11-11 | Corning Glass Works | Apparatus and method for making optical filament preform |
US4378987A (en) * | 1981-10-15 | 1983-04-05 | Corning Glass Works | Low temperature method for making optical fibers |
DE3203349A1 (de) * | 1981-11-28 | 1983-06-09 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer optischen glasfaser mit geringem oh -ionengehalt |
DE3206177A1 (de) * | 1982-02-20 | 1983-08-25 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung einer vorform, aus der optische fasern ziehbar sind |
US4440558A (en) * | 1982-06-14 | 1984-04-03 | International Telephone And Telegraph Corporation | Fabrication of optical preforms by axial chemical vapor deposition |
DE3304721A1 (de) * | 1983-02-11 | 1984-08-16 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung einer vorform fuer lichtwellenleiter |
DE3326043A1 (de) * | 1983-07-20 | 1985-02-07 | Licentia Gmbh | Verfahren zur herstellung eines aerosolstromes und dessen verwendung |
WO1985002837A1 (en) * | 1983-12-22 | 1985-07-04 | American Telephone & Telegraph Company | Fabrication of high-silica glass article |
-
1984
- 1984-09-21 DE DE19843434674 patent/DE3434674A1/de not_active Ceased
-
1985
- 1985-06-25 DE DE8585107856T patent/DE3575123D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1985-06-25 AT AT85107856T patent/ATE49188T1/de not_active IP Right Cessation
- 1985-06-25 EP EP85107856A patent/EP0175068B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-09-18 JP JP60204589A patent/JPS6177628A/ja active Pending
- 1985-09-20 US US06/778,081 patent/US4610892A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-09-20 CA CA000491214A patent/CA1241877A/en not_active Expired
- 1985-09-20 FI FI853619A patent/FI79084C/fi not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0175068A2 (de) | 1986-03-26 |
EP0175068B1 (de) | 1990-01-03 |
EP0175068A3 (en) | 1987-09-02 |
FI79084B (fi) | 1989-07-31 |
JPS6177628A (ja) | 1986-04-21 |
FI853619L (fi) | 1986-03-22 |
DE3434674A1 (de) | 1986-04-03 |
ATE49188T1 (de) | 1990-01-15 |
CA1241877A (en) | 1988-09-13 |
DE3575123D1 (de) | 1990-02-08 |
US4610892A (en) | 1986-09-09 |
FI853619A0 (fi) | 1985-09-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
AU655832B2 (en) | Method of making fused silica | |
US4650511A (en) | Method for the preparation of a dehydrated quartz glass material for light transmission | |
US5703191A (en) | Method for purifying polyalkylsiloxanes and the resulting products | |
US4690504A (en) | Quartz glass-made optical fibers and a method for the preparation thereof | |
US5879649A (en) | Method for purifying polyalkylsiloxanes and the resulting products | |
US6376010B1 (en) | Germanium doped silica forming feedstock and method | |
US6732551B2 (en) | Method and feedstock for making silica | |
EP0177040B1 (en) | Method for producing glass preform for optical fiber | |
FI79084C (fi) | Foerfarande foer framstaellning av en riktad aerosolstroem. | |
US4564378A (en) | Method for producing a preform for light waveguides | |
US6698247B2 (en) | Method and feedstock for making silica by flame combustion | |
US20020108404A1 (en) | Drying agent and improved process for drying soot preforms | |
EP0135126B1 (en) | Preparation of glass for optical fibers | |
RU2639560C1 (ru) | MCVD способ изготовления одномодовых световодов с сердцевиной из чистого кварцевого стекла | |
JPS6289B2 (fi) | ||
JPS61261228A (ja) | 光フアイバ用フツ素添加プリフオ−ムの製造方法 | |
US5641333A (en) | Increasing the retention of Ge02 during production of glass articles | |
Andreev et al. | Investigation into doping of silica glasses with fluorine by modified chemical vapor deposition | |
Bubnov et al. | Effect of fluorine doping on the optical loss in MCVD fibers based on heavily doped germanosilicate glass | |
KR850001877B1 (ko) | 광전송용 유리소재의 제조 방법 | |
JPH0425212B2 (fi) | ||
AU698054B2 (en) | Increasing the retention of GeO2 during production of glass articles | |
JPS6077138A (ja) | 光フアイバ用ド−プト石英の合成方法 | |
JPH03183631A (ja) | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 | |
WO1997009279A9 (en) | INCREASING THE RETENTION OF GeO2 DURING PRODUCTION OF GLASS ARTICLES |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM | Patent lapsed |
Owner name: LICENTIA PATENT- VERWALTUNGS-G.M.B.H. |