JPS6175379A - アクテイブマトリツクス回路の製造方法 - Google Patents
アクテイブマトリツクス回路の製造方法Info
- Publication number
- JPS6175379A JPS6175379A JP59198359A JP19835984A JPS6175379A JP S6175379 A JPS6175379 A JP S6175379A JP 59198359 A JP59198359 A JP 59198359A JP 19835984 A JP19835984 A JP 19835984A JP S6175379 A JPS6175379 A JP S6175379A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- film
- electrode
- active matrix
- matrix circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59198359A JPS6175379A (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | アクテイブマトリツクス回路の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59198359A JPS6175379A (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | アクテイブマトリツクス回路の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6175379A true JPS6175379A (ja) | 1986-04-17 |
| JPH0568709B2 JPH0568709B2 (https=) | 1993-09-29 |
Family
ID=16389795
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59198359A Granted JPS6175379A (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | アクテイブマトリツクス回路の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6175379A (https=) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS639157A (ja) * | 1986-06-30 | 1988-01-14 | Canon Inc | 薄膜トランジスタの製造方法 |
| US5686326A (en) * | 1985-08-05 | 1997-11-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of making thin film transistor |
-
1984
- 1984-09-21 JP JP59198359A patent/JPS6175379A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5686326A (en) * | 1985-08-05 | 1997-11-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of making thin film transistor |
| JPS639157A (ja) * | 1986-06-30 | 1988-01-14 | Canon Inc | 薄膜トランジスタの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0568709B2 (https=) | 1993-09-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4458563B2 (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法およびこれを用いた液晶表示装置の製造方法 | |
| CN104681627B (zh) | 阵列基板、薄膜晶体管及制作方法、显示装置 | |
| JP2003203919A (ja) | 薄膜トランジスタ装置及びその製造方法 | |
| JPH11283934A5 (https=) | ||
| CN113725157B (zh) | 阵列基板及其制作方法 | |
| JPH10270710A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
| US8362526B2 (en) | Liquid crystal display device and fabricating method thereof | |
| JPS59208783A (ja) | 薄膜トランジスタ | |
| JPH11149091A (ja) | 横方向電界方式アクティブマトリクス型液晶表示装置およびその製造方法 | |
| JP2002055362A (ja) | 液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板の製造方法 | |
| JP2003188385A (ja) | 薄膜トランジスタ基板及びその製造方法 | |
| JPS62124775A (ja) | 傾斜エツチングによる薄膜トランジスタの製造方法および薄膜トランジスタ | |
| CN110148601A (zh) | 一种阵列基板、其制作方法及显示装置 | |
| US7790582B2 (en) | Method for fabricating polysilicon liquid crystal display device | |
| US7388227B2 (en) | Method for fabricating liquid crystal display device using two masks | |
| TW200835994A (en) | Liquid crystal display and manufacturing method for the same | |
| JPS6175379A (ja) | アクテイブマトリツクス回路の製造方法 | |
| JP3438178B2 (ja) | 薄膜トランジスタアレイとこれを用いた液晶表示装置 | |
| JPH02224254A (ja) | 薄膜トランジスタ及びその製造方法並びにそれを用いたマトリクス回路基板と画像表示装置 | |
| JPH03116778A (ja) | アクティブマトリクス基板の製造方法と表示装置の製造方法 | |
| JPS63172469A (ja) | 薄膜トランジスタ | |
| JPH02250037A (ja) | アクティブマトリクス基板の製造方法及び表示装置の製造方法 | |
| JPH0797191B2 (ja) | アクティブマトリクスセルおよびその製作方法 | |
| JP2002261287A (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
| JPS63172470A (ja) | 薄膜トランジスタ |